基板处理装置、基板处理方法和存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术提供基板处理装置、基板处理方法和存储介质。本发明专利技术提供在反复进行从模块组中编号顺序小的模块向编号顺序大的模块依次搬送基板的搬送循环的基板处理装置中，在出现不能够使用的模块，之后该模块变得能够使用时，能够以高生产率处理基板的技术。控制搬送部件，使得将从多模块的前一个模块搬出的基板，对于构成多模块的模块组中以与该基板的搬出时最接近的时刻搬出基板的模块，在上述基板的搬入顺序中搬入下一模块。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具有载置各个基板并且搬送编号顺序已被确定的模块组，基板依次从模块组中编号顺序较小的模块被搬送至编号顺序较大的模块而进行规定的处理的基板处理装置、基板处理方法和存储介质。
技术介绍
用于在基板上形成抗蚀剂图案的涂敷、显影装置包括：作为搬送基板的搬送容器的基板载体被搬入的载体块；包括在基板上形成抗蚀剂膜的块和对曝光后的基板进行显影的块的处理块；和与曝光装置连接的接口块。例如，在专利文献1记载有下述结构：作为将涂敷膜形成于基板的块，用于将反射防止膜形成于基板的涂敷块和用于将抗蚀剂膜形成于基板的涂敷块上下叠层，进而用于对基板进行显影的显影块对涂敷块叠层。在这样的涂敷、显影装置中，对各段的块的每一个形成有水平的直线搬送通路，在该搬送通路的两侧排列有处理模块。而且，对各段的块的每一个，设置有用于搬入基板的交接模块和用于搬出由该块进行的一系列的处理结束后的基板的交接模块。这些模块组利用搬送基板的编号顺序已被确定且具有两个以上的臂的搬送部件，从一个模块取出基板，在接受下一个模块的基板之后，将先前的基板交至该下一个基板，这样通过将置于各模块的基板移至一个编号顺序为后的模块，实施一个搬送本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种基板处理装置，其包括载置各基板且搬送的编号顺序已被确定的模块组，在模块组中，包括搬送的编号顺序相同且对基板进行相同处理的三个以上的模块所构成的多模块，利用搬送部件从一个模块取出基板，在接受下一模块的基板之后将先前的基板交于该下一模块，这样通过将置于各模块中的基板向一个编号顺序为后的模块移动来进行一个搬送循环，在进行该一个搬送循环之后，进入下一搬送循环，通过依次进行各搬送循环，基板依次从所述模块组中的编号顺序小的模块被搬送至编号顺序大的模块，并被实施规定的处理，在通常时，从之前的模块对所述多模块的各模块以规定的顺序分配基板，对于构成所述多模块的多个模块，搬入基板的编号顺序已被确定，在向编...

【技术特征摘要】
2010.02.24 JP 2010-0390391.一种基板处理装置，其包括载置各基板且搬送的编号顺序已被确定的模块组，在模块组中，包括搬送的编号顺序相同且对基板进行相同处理的三个以上的模块所构成的多模块，利用搬送部件从一个模块取出基板，在接受下一模块的基板之后将先前的基板交于该下一模块，这样通过将置于各模块中的基板向一个编号顺序为后的模块移动来进行一个搬送循环，在进行该一个搬送循环之后，进入下一搬送循环，通过依次进行各搬送循环，基板依次从所述模块组中的编号顺序小的模块被搬送至编号顺序大的模块，并被实施规定的处理，在通常时，从之前的模块对所述多模块的各模块以规定的顺序分配基板，对于构成所述多模块的多个模块，搬入基板的编号顺序已被确定，在向编号顺序为最后的模块搬入基板之后，向编号顺序为最前的模块搬入基板，该基板处理装置的特征在于，包括：存储部，其存储对基板分配编号顺序，将使基板的编号顺序与各模块相关联并指定搬送循环的搬送循环数据依时间顺序排列而制成的搬送行程表；和控制部，其以参照所述搬送行程表，将写入搬送循环数据的基板搬送至与该基板对应的模块的方式控制所述搬送部件，由此实施搬送循环，所述控制部控制所述搬送部件，使得，在从构成所述多模块的模块中的至少一个模块不能够使用且其它的模块能够使用的状态，不能够使用的模块恢复为能够使用的状态时，将从所述多模块的前一个模块搬出的基板，对于构成多模块的模块组中以与该基板搬出时最接近的时刻搬出基板的模块，在所述基板的搬入顺序中搬入下一模块。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：构成为对所述模块组中的下游端的模块，与所述搬送部件不同的其它搬送部件进行基板的接收，所述控制部控制搬送部件，使得在将从所述多模块的前一个模块搬出的基板搬入所述不能够使用的模块时，在该不能够使用的模块内存在基板的情况下，取出该基板，由所述其它搬送部件搬送至能够交接的模块。3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于：在所述不能够使用的模块内存在的基板的搬送目的地为所述下游端的模块。4.如权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：载置各基板且搬送的编号顺序已被确定的模块组是，使用于对基板涂敷抗蚀剂并且使曝光后的基板显影的涂敷、显影装置中，用于在曝光前对基板形成涂敷膜的模块组。5.如权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：载置各基板且搬送的编号顺序已被确定的模块组是，使用于对基板涂敷抗蚀剂并且使曝光后的基板显影的涂敷、显影装置中，用于进行在曝光后对基板进行的、包括显影的处理的模块组。6.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于：对用于在曝光前对基板形成涂敷膜的模块组进行基板的搬送的搬送机构，构成为能够沿着水平的直线搬送通路移动，对用于进行在曝光后对基板进行的、包括显影的处理的模块组进行基板的搬送的搬送机构，构成为能够沿着...

【专利技术属性】
技术研发人员：松山健一郎，松本武志，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP