动力学压印反射式光栅的制作方法技术

本发明专利技术公开了动力学压印反射式光栅的制作方法，该方法基于传统光刻工艺制作成本随加工精度的提高急剧增加，传统压印工艺加工速度无法满足实际需求，加工精度有待提升的要求，合理设计和制造出连续辊压印与刻划技术相结合的大量程光栅制造工艺。该方法采用电子束制备辊压印光栅模具，模具表面为平行排列的圆环状凸起微结构。基底采用三层结构，依次为从上至下金属层、聚合物层以及垫层。加工过程中，通过压印辊自身的转动及其与基底的相对滑动，批量制造出大量程光栅。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微纳制造
，涉及一种反射式光栅的新型制造方法。
技术介绍
高精度位移测量技术是精密机械加工的基础，位移测量精度决定了整个制造业的制造精度。随着精密制造技术不断发展，被加工对象精度的提高要求位移测量仪器具有高精度、高分辨率、高可靠性、大量程、小体积和低成本的特点。在微电子、超精加工等现代工业
，对精密位移测量的要求也越来越高。光栅具有测量基准固定、不受环境影响、 对光源稳频要求不高、成本低的优点，已广泛地应用于精密位移测量、角度测量。在数控加工、微电子等领域大量采用。随着微纳加工技术的不断进步，光栅的工作波长从微米级发展到亚微米甚至纳米级，目前采用的制作方法包括全息光刻、X射线和电子束光刻。全息光刻系统非常昂贵、复杂，制备纳米图案的光刻工艺条件苛刻；X射线和电子束光刻制作的面积小、成本高、制作周期较长。纳米压印是一种高分辨率、高可控性、低成本的任意图形复制方法。对纳米级光栅和沟道结构的要求促进了纳米压印技术的发展，然而，目前传统的下压式纳米压印工艺在实际生产中无法满足对产量的需求，辊压印技术作为纳米压印领域的一种新型技术，能够在一定程度上提高产量，但在加工本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．动力学压印反射式光栅的制作方法，其特征在于，包括下列步骤：１）使用电子束法，首先在模板上镀金属Ｃｒ或Ｐｔ层，再旋涂一层电子束胶作为抗蚀剂，然后用电子束刻蚀抗蚀剂，再以抗蚀剂作为掩膜抗蚀剂图形转移到Ｃｒ或Ｐｔ层上，然后将该模板放置在反应离子刻蚀机中刻蚀模板基材，其表面的Ｃｒ或Ｐｔ层作为保护层，最后使用湿法腐蚀去除模板基材表面的Ｃｒ或Ｐｔ，形成表面具有微结构的模板；２）将模板与基底对准，对模板加热，压印辊转动的同时，模板表面圆环状刀具沿着基底表面与压印辊中心轴线垂直的方向运动，刀具的自转与基底产生的滑动相结合，工艺过程依次分为４步，第一步，模板与将要被压印的基底材料初次接触；第二步，对模板进行...

【技术特征摘要】
1.动力学压印反射式光栅的制作方法，其特征在于，包括下列步骤1)使用电子束法，首先在模板上镀金属Cr或Pt层，再旋涂一层电子束胶作为抗蚀剂， 然后用电子束刻蚀抗蚀剂，再以抗蚀剂作为掩膜抗蚀剂图形转移到Cr或Pt层上，然后将该模板放置在反应离子刻蚀机中刻蚀模板基材，其表面的Cr或Pt层作为保护层，最后使用湿法腐蚀去除模板基材表面的Cr或Pt，形成表面具有微结构的模板；2)将模板与基底对准，对模板加热，压印辊转动的同时，模板表面圆环状刀具沿着基底表面与压印辊中心轴线垂直的方向运动，刀具的...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘红忠，徐维，史永胜，尹磊，丁玉成，卢秉恒，
申请(专利权)人：西安交通大学，
类型：发明
国别省市：87