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一种浴足按摩椅制造技术

技术编号:659530 阅读:221 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种浴足按摩椅,包括浴足盆、按摩椅,按摩椅设有上下、前后移动机构,按摩椅的靠背设有前后转动机构,其特别之处在于浴足盆边设有一支撑台,按摩椅设置在浴足盆的盆边的支撑台上。本实用新型专利技术与已有技术相比,具有将背部按摩及洗脚合而为一的,且除了洗脚功能外,还具有按摩、干燥脚和臭氧杀菌功能的,使用方便、舒适的优点。(*该技术在2012年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种洗脚按摩装置。本技术是这样实现的,包括浴足盆、按摩椅,按摩椅设有上下、前后移动机构,按摩椅的靠背设有前后转动机构,其特别之处在于浴足盆边设有一支撑台,按摩椅设置在浴足盆的盆边的支撑台上。使用时,人坐在按摩椅上并调节好椅的高度及靠背的角度,同时,将调节好水温的温水放进浴足盆内,将脚放进浴足盆内,这样,使用者就可同时享受按摩及浴足,方便了使用者的使用。这里,还设有一主要由水力按摩喷嘴、回水口、水泵构成的脚部水力按摩系统,水力按摩喷嘴设置在浴足盆的盆腔内侧面,回水口设置在浴足盆的盆底部。工作时,通过脚部水力按摩系统在浴足盆内产生一冲击水流对浸浴在浴足盆内的脚进行冲刷按摩。为了方便调节水力按摩喷嘴喷水量的大小,在浴足盆内靠近按摩椅处设有一空气阀,空气阀通过气管与各个水力按摩喷嘴的负压区相通。这样,通过调节进入水力按摩喷嘴负压区的空气来调节水力按摩喷嘴进出口间的压差,从而调节水力按摩喷嘴喷水的量。为了达到杀菌的作用,在浴足盆侧设有一臭氧发生装置,该装置的臭氧输送管与水力按摩系统的水管相通,这样,通过将臭氧注入到浴足水中来达到杀菌的作用。在浴足盆边的另一侧设有可上下移动的脚托本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种浴足按摩椅,包括浴足盆、按摩椅,按摩椅设有上下、前后移动机构,按摩椅的靠背设有前后转动机构,其特征在于浴足盆边设有一支撑台,按摩椅设置在浴足盆的盆边的支撑台上。

【技术特征摘要】
1.一种浴足按摩椅,包括浴足盆、按摩椅,按摩椅设有上下、前后移动机构,按摩椅的靠背设有前后转动机构,其特征在于浴足盆边设有一支撑台,按摩椅设置在浴足盆的盆边的支撑台上。2.根据权利要求1所述的浴足按摩椅,其特征在于还设有一主要由水力按摩喷嘴、回水口、水泵构成的脚部水力按摩系统,水力按摩喷嘴设置在浴足盆的盆腔内侧面,回水口设置在浴足盆的盆底部。3.根据权利要求1所述的浴足按摩椅,其特征在于在浴足盆边的另一侧设有可上下移动的脚托。4.根据权利要求1所述的浴足按摩椅,其特征在于在浴足盆内设有一冷、热风干燥装置。5.根据权利要求1所述的浴足按摩椅,...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄福华
申请(专利权)人:黄福华
类型:实用新型
国别省市:44[中国|广东]

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