用作杀真菌剂的环丙基-噻吩基-甲酰胺制造技术

式Ⅰ化合物：　　　　＊＊＊　　（Ⅰ）　　　　其中Ｘ是（Ｘ１），（Ｘ２）或（Ｘ３）；　　　　＊＊＊　　　　Ｈｅｔ是含有１－３个杂原子的５－或６－元杂环，这些杂原子各自独立地选自氧，氮和硫，条件是所述环不能是１，２，３－三唑，并且所述环被基团Ｒ↑［４］，Ｒ↑［５］和Ｒ↑［６］取代；Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］各自独立地为氢，卤素或甲基；Ｒ↑［３］是任选取代的Ｃ↓［２－１２］烷基，任选取代的Ｃ↓［２－１２］链烯基，任选取代的Ｃ↓［２－１２］炔基，任选取代的Ｃ↓［３－１２］环烷基，任选取代的苯基或任选取代的杂环基；Ｒ↑［４］，Ｒ↑［５］和Ｒ↑［６］各自独立地选自氢，卤素，氰基，硝基，Ｃ↓［１－４］烷基，Ｃ↓［１－４］卤代烷基，Ｃ↓［１－４］烷氧基（Ｃ↓［１－４］）亚烷基和Ｃ↓［１－４］卤代烷氧基（Ｃ↓［１－４］）亚烷基，条件是Ｒ↑［４］，Ｒ↑［５］和Ｒ↑［６］中至少一个不是氢；以及Ｒ↑［７］和Ｒ↑［８］各自独立地为氢，卤素，Ｃ↓［１－４］烷基或Ｃ↓［１－４］卤代烷基。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及新的邻位-环丙基-噻吩基-甲酰胺类化合物，它们具有杀微生物活性，尤其是杀真菌的活性。本专利技术也涉及这些化合物的制备、制备这些化合物用的新中间体、这些中间体的制备、包括至少一种所述新化合物作为活性成分的农药组合物、以及所述活性成分或组合物在农业或园艺领域防治或预防植物病原微生物(优选真菌)侵染植物方面的应用。WO 01/05769A2中公开了具有杀真菌活性的杂环芳族酰胺。本专利技术提供式(I)化合物 其中X是(X1)，(X2)或(X3)； Het是含有1-3个杂原子的5-或6-元杂环，这些杂原子各自独立地选自氧，氮和硫，条件是所述环不能是1，2，3-三唑，并且所述环被基团R4，R5和R6取代；R1和R2各自独立地为氢，卤素或甲基；R3是任选取代的C2-12烷基，任选取代的C2-12链烯基，任选取代的C2-12炔基，任选取代的C3-12环烷基，任选取代的苯基或任选取代的杂环基；R4，R5和R6各自独立地选自氢，卤素，氰基，硝基，C1-4烷基，C1-4卤代烷基，C1-4烷氧基(C1-4)亚烷基和C1-4卤代烷氧基(C1-4)亚烷基，条件是R4，R5和R6中至少一个不是氢；以及R7和R8各自独立地为氢，卤素，C1-4烷基或C1-4卤代烷基。另一方面，本专利技术提供式(I*)化合物 其中Het是含有1-3个杂原子的5-或6-元杂环，这些杂原子各自独立地选自氧，氮和硫，条件是所述环不能是1，2，3-三唑，并且这些环被基团R4，R5和R6取代；A是被基团R7和R8取代的噻吩基环(选自所有可能的噻吩基异构体)，R1和R2各自独立地为氢，卤素或甲基；R3是任选取代的C2-12烷基，任选取代的C2-12链烯基，任选取代的C2-12炔基，任选取代的C3-12环烷基，任选取代的苯基或任选取代的杂环基；R4，R5和R6各自独立地选自氢，卤素，氰基，硝基，C1-4烷基，C1-4卤代烷基，C1-4烷氧基(C1-4)亚烷基和C1-4卤代烷氧基(C1-4)亚烷基，条件是R4，R5和R6中至少一个不是氢；以及R7和R8各自独立地为氢，卤素，C1-4烷基或C1-4卤代烷基。卤素是指氟、氯或溴。各烷基部分是直链或支链的，例如为甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基或新戊基。同样，各个亚烷基部分也是直链或支链的。烷基部分上的各个任选取代基，当存在时，独立地选自卤素，羟基，氰基，COOC1-4烷基，甲酰基，硝基，C1-4烷氧基，C1-4卤代烷氧基，C1-4烷硫基，C1-4卤代烷硫基，HC(OR’)＝N和R’R”NN＝C(H)；其中R’和R”各自独立地为氢或C1-4烷基。链烯基和炔基部分可以是直链或支链的形式。链烯基部分在适当情况下可以是(E)-或(Z)-构型。实例为乙烯基、烯丙基和炔丙基。链烯基或炔基上的各个任选取代基，当存在时，独立地选自上面烷基部分所给出的那些任选取代基。环烷基包括环丙基，环丁基，环戊基和环己基。环烷基上的任选取代基，当存在时，各自独立地选自C1-3烷基以及上面烷基部分所给出的那些任选取代基。术语“杂环基”是指包含至多10个原子的非芳香性或芳香性环，这些原子中包括一个或多个(优选一个或两个)各自独立选自O、S和N的杂原子。这类环的实例包括1，3-二氧戊环基，四氢呋喃基，吗啉基、噻吩基和呋喃基。苯基或杂环基上的各个任选取代基，当存在时，独立地选自C1-6烷基以及上面烷基部分所给出的那些任选取代基。当存在时，苯基上的任选取代基最多存在四个，并且各自是独立选择的。烷基上的每个任选取代基，当存在时，优选独立地选自卤素、羟基、甲氧基、三氟甲氧基、二氟甲氧基、氰基和硝基。链烯基或炔基上的每个任选取代基，当存在时，优选独立地选自卤素和氰基。环烷基上的每个任选取代基，当存在时，优选独立地选自甲基，乙基，三氟甲基，甲氧基，三氟甲氧基和氰基。苯基或杂环基上的每个任选取代基，当存在时，优选独立地选自卤素，羟基，甲氧基，三氟甲氧基，二氟甲氧基和氰基。优选Het是吡咯基，吡唑基，噻唑基，吡啶基，嘧啶基，噻吩基，呋喃基，异噻唑基或异噁唑基(更优选吡咯基，吡唑基或噻唑基)，它们各自被基团R4，R5和R6取代。优选R1和R2各自独立地为氢或氟。优选R3是C2-6烷基，任选取代的C3-8环烷基，苯基，噻吩基或呋喃基。优选R4，R5和R6独立地选自氢，卤素，C1-4烷基，C1-4卤代烷基和C1-4烷氧基(C1-4)亚烷基，条件是R4，R5和R6中至少一个不是氢。更优选R4，R5和R6独立地选自氢，卤素，甲基，C1-2卤代烷基和甲氧基亚甲基，条件是R4，R5和R6中至少一个不是氢。优选R7和R8独立地选自氢，卤素和甲基其中X和R3如上面式(I)化合物所定义；并且R1，R2，R7和R8各自为氢的式(II)化合物 也是新的，并且可用作制备式(I)化合物的中间体。因此，本专利技术的另一个方面提供了其中X和R3如上面式(I)化合物所定义；并且R1，R2，R7和R8各自为氢的式(II)化合物。另一方面，本专利技术提供了式(II*)化合物 其中A为未被取代的噻吩基环(选自所有可能的噻吩基异构体)且R3如上面式(I)化合物所定义式(I)、(II)、(I*)和(II*)的化合物可以不同的几何异构体或旋光异构体的形式或以不同的互变异构体的形式存在。对于每种通式化合物，本专利技术包括所有这些异构体和互变异构体及其所有比例的混合物以及同位素的形式如氘代化合物。下面表1-18中的化合物用来说明本专利技术的化合物。表V代表表1[当V是1时]，表2[当V是2时]以及代表表3(当V是3时)。表W代表表4[当W是4时]，表5[当W是5时]，表6(当W是6时)，表7(当W时7时)，表8(当W是8时)以及表9(当W是9时)。表X代表表10[当X是10时]，表11[当X是11时]以及表12(当X是12时)。表Y代表表13[当Y是13时]，表14[当Y是14时]以及表15(当Y是15时)。表Z代表表16[当Z是16时]，表17[当Z是17时]以及表18(当Z是18时)。表V 表W 表X 表Y 表Z <tables id=table10 num=010><table width=800>化合物序号R1R2R3R4Z.28HH环辛基CF3Z.29HH苯基CF3Z.30HH苯基CH3Z.31HH4-F-C6H4CF3Z.32HH4-F-C6H4CH3Z.33HH4-Cl-C6H4CF3Z.34HH4-Cl-C6H4CH3Z.35HH4-Br-C6H4CF3Z.36HH2-噻吩基CF3Z.37HH2-噻吩基CH3Z.38HH3-噻吩基CF3Z.39HH3-噻吩基CH3Z.40HH2-呋喃基CF3Z.41HH3-呋喃基CF3Z.42HH2-吡啶基CF3Z.43HH4-吡啶基CF3Z.44HHα-甲基环丙基CF3Z.45HHα-甲基环丙基CH3</table></tables>表1提供24个式(IIa)化合物 其中R3如表1中定义。表2提供24个式(IIb)化合物 其中R3如表2中定义。表3提供24个式(IIc)化合物 其中R3如表3中定义。表4提供79个式(Ia)化合物 其中R1，R2，R3，R4，R5和R6如本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.式I化合物 其中X是(X1)，(X2)或(X3)； Het是含有1-3个杂原子的5-或6-元杂环，这些杂原子各自独立地选自氧，氮和硫，条件是所述环不能是1，2，3-三唑，并且所述环被基团R4，R5和R6取代；R1和R2各自独立地为氢，卤素或甲基；R3是任选取代的C2-12烷基，任选取代的C2-12链烯基，任选取代的C2-12炔基，任选取代的C3-12环烷基，任选取代的苯基或任选取代的杂环基；R4，R5和R6各自独立地选自氢，卤素，氰基，硝基，C1-4烷基，C1-4卤代烷基，C1-4烷氧基(C1-4)亚烷基和C1-4卤代烷氧基(C1-4)亚烷基，条件是R4，R5和R6中至少一个不是氢；以及R7和R8各自独立地为氢，卤素，C1-4烷基或C1-4卤代烷基。2.权利要求1所述的式(I)化合物，其中Het是吡咯基，吡唑基，噻唑基，吡啶基，嘧啶基，噻吩基，呋喃基，异噻唑基或异噁唑基。3.权利要求1或2所述的式(I)化合物，其中R1和R2各自独立地为氢或氟。4.权利要求1、2或3所述的式(I)化合物，其中R3是C2-6烷基，任选取代的C3-8环烷基，苯基，噻吩基或呋喃基。5.权利要求1、2、3或4所...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·埃伦弗兰德，H·托布勒，H·沃尔特，
申请(专利权)人：辛根塔参与股份公司，
类型：发明
国别省市：