显影装置、处理单元和图像形成设备制造方法及图纸

技术编号:6548986 阅读:207 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术显影装置、处理单元和图像形成设备提供一种壳体,其包含:第一显影剂传送部件,沿第一方向横向传送包括调色剂的显影剂;第二显影剂传送部件,沿与第一方向相反的第二方向传送显影剂;第一流通通道,构造为将第一显影剂传送部件传送的显影剂引导至第二显影剂传送部件的沿所述第二方向的上游边缘;和第二流通通道,构造为将第二显影剂传送部件传送的显影剂引导至第一显影剂传送部件的沿所述第一方向的上游边缘。随着壳体的倾斜角增加以便第二流通通道低于第一流通通道,第二流通通道逐渐减少通过第二流通通道引导至第一显影剂传送部件的上游边缘的显影剂的量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于在感光器上显影静电潜像的显影装置以及包括该显影装置的处理单元和图像形成设备。
技术介绍
电子照相图像形成设备,如打印机、复印机等,通常起到以下功能。显影装置在感光鼓上形成对应图像数据的调色剂图像。调色剂图像随后直接或间接经由诸如中间转印带的元件被转印到记录片,如记录纸、OHP板等上。最后,定影装置将调色剂图像定影到记录片。显影装置使用仅包括调色剂的单组份显影剂,或包括调色剂和磁性载体的双组份显影剂。使用双组份显影剂的显影装置通常在壳体内部配有显影辊、供给螺杆和混合螺杆, 壳体容纳双组份显影剂。显影辊在感光鼓上显影静电潜像。混合螺杆为供给螺杆提供双组份显影剂,并且供给螺杆为显影辊供给双组份显影剂。感光鼓、供给螺杆和混合螺杆在近似水平位置处彼此平行。壳体内的双组份显影剂在传送过程中由混合螺杆搅动和混合。因此,调色剂被静态充电。静态充电的调色剂沿着载体被传送到供给螺杆。供给螺杆沿着与混合螺杆相反的方向传送双组份显影剂。供给螺杆的调色剂和载体被提供给显影辊。提供给显影辊的载体在显影辊的外围表面上形成静电刷。粘附在静电刷的调色剂在感光鼓上显影静电潜像。未提供给显影辊的调色剂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于利用调色剂显影感光体上静电图像的显影装置,包括:包括第一显影剂传送部件的混合室,该第一显影剂传送部件沿第一方向横向传送包括调色剂的显影剂;包括第二显影剂传送部件的供给室,该第二显影剂传送部件沿与第一方向相对的第二方向传送显影剂;包含混合室和供给室的壳体;和设置在供给室中的显影辊,构造为接收由第二显影剂传送部件传送的显影剂并显影静电图像,其中,该壳体包括:第一流通通道,构造为将第一显影剂传送部件传送的显影剂引导至第二显影剂传送部件的沿所述第二方向的上游边缘;和第二流通通道,构造为将第二显影剂传送部件传送的显影剂引导至第一显影剂传送部件的沿所述第一方向的上游边缘,以及第二流通通道构造为...

【技术特征摘要】
2010.03.18 JP 2010-0627441.一种用于利用调色剂显影感光体上静电图像的显影装置,包括包括第一显影剂传送部件的混合室,该第一显影剂传送部件沿第一方向横向传送包括调色剂的显影剂;包括第二显影剂传送部件的供给室,该第二显影剂传送部件沿与第一方向相对的第二方向传送显影剂;包含混合室和供给室的壳体;和设置在供给室中的显影辊,构造为接收由第二显影剂传送部件传送的显影剂并显影静电图像,其中, 该壳体包括第一流通通道,构造为将第一显影剂传送部件传送的显影剂引导至第二显影剂传送部件的沿所述第二方向的上游边缘;和第二流通通道,构造为将第二显影剂传送部件传送的显影剂引导至第一显影剂传送部件的沿所述第一方向的上游边缘,以及第二流通通道构造为,随着壳体的倾斜角增加以便第二流通通道低于第一流通通道, 逐渐减少通过第二流通通道引导至第一显影剂传送部件的上游边缘的显影剂的量。2.根据权利要求1的显影装置,其中,第二流通通道具有定位在混合室处的出口和定位在供给室处的入口,出口比入口更接近第一流通通道。3.根据权利要求2的显影装置,其中,第二流通通道具有彼此相对的第一内表面和第二内表面,该第一内表面为比第二内表面更位于沿所述第二方向的下游处的引导表面,并且倾斜以便从所述入口至所述出口连续接近第一流通通道,以及定位在所述出口处的引导表面的边缘比定位在所述入口处的第二内表面的边缘更接近第一流通通道。4.根据权利要求3的显影装置,其中, 第一内表面和第二内表面平行。5.根据权利要求1的显影装置,还包括开口空间再构造单元,构造为随着壳体的倾斜角增加,逐渐减小沿壳体倾斜方向的第二流通通道的开放空间,所述壳体倾斜而使第二流通通道低于第一流通通道。6.根据权利要求5的显影装置,其中, 开口空间再构造单元包括闭合板,当壳体倾斜而使第二流通通道低于第一流通通道并局部封闭第二流通通道时,该闭合板由于自重而伸入第二流通通道;和偏置...

【专利技术属性】
技术研发人员:渡边涉
申请(专利权)人:柯尼卡美能达商用科技株式会社
类型:发明
国别省市:JP

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