抗反射涂布材料及包含其的抗反射涂膜制造技术

本发明专利技术提供一种抗反射涂布材料及包含其的抗反射涂膜。该抗反射涂布材料包含以下步骤所得的产物：提供一聚硅倍半氧烷；将该聚硅倍半氧烷与一硅氧烷化合物反应得到一中间产物；将该中间产物与一低折射率化合物反应，得到该抗反射涂布材料。进而，将该抗反射涂布材料涂布于一基材上，得到一涂布层；以及将该涂布层固化以形成一抗反射涂膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是涉及一种抗反射涂布材料及包含其的抗反射涂膜，更特别涉及一种可应用于软性基材的抗反射涂布材料及包含其的抗反射涂膜。
技术介绍
在显示装置的制程中(例如光学镜片、阴极射线显示器、等离子体显示器、液晶显示器、或是发光二极管显示器)，为避免影像受眩光或反射光的干扰，会在该显示装置的最外层(例如液晶显示器的透明基板)配置一抗反射层。分析抗反射层相关技术，不外乎利用多层膜干涉与非均质层法两种方式。多层膜干涉是利用入射波通过涂层表面时，若控制涂层的光学厚度(涂层折射率与涂膜厚度的乘积)为入射波波长λ/4的奇数倍，让反射波形成破坏性干涉，即可达到抗反射效果，如干式制程、湿式制程与溶胶-凝胶法都是运用此一原理。干式制程(例如真空蒸镀或溅镀)虽然可达到可见光反射率0.5以下的好品质，但由于设备昂贵加上制程缓慢，导致产品价格非常高；湿式制程则多以添加含氟单体来降低折射率进而降低反射率，但常伴随与基材附着差且涂料稳定性差等缺点；溶胶凝胶法则需制备高低不同折射率的材料并且经过多层涂布制程，粉体折射率及稳定性较不易控制且制程繁复。另一种做法为非均质层法，即透过纳米孔隙薄膜及表面纳米结构制作来降低折本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种抗反射涂布材料，包括以下步骤所得的产物：提供一聚硅倍半氧烷；将该聚硅倍半氧烷与一硅氧烷化合物反应得到一中间产物；将该中间产物与一低折射率化合物反应，得到抗反射涂布材料。

【技术特征摘要】
1.一种抗反射涂布材料，包括以下步骤所得的产物提供一聚硅倍半氧烷；将该聚硅倍半氧烷与一硅氧烷化合物反应得到一中间产物； 将该中间产物与一低折射率化合物反应，得到抗反射涂布材料。2.如权利要求1所述的抗反射涂布材料，其中该聚硅倍半氧烷包含具有如公式(I)所示结构的化合物(R1SiO^x)72 (OH) x)n 公式⑴，其中，X是各自独立且为1或2 ;n为大于或等于1的整数；R1是各自独立且为氢、烷基、或芳香基。3.如权利要求1所述的抗反射涂布材料，其中该硅氧烷化合物包含具有如公式(II)所示结构的化合物Si(OR2)4 公式(II)， 其中，R2是各自独立且为烷基。4.如权利要求1所述的抗反射涂布材料，其中该低折射率化合物为氟硅氧烷、或具有反应官能基的氟烷化合物。5.如权利要求4所述的抗反射涂布材料，其中该具有反应官能基的氟烷化合物的该反应官能基为羧基、环氧基、或异氰酸盐基。6.如权利要求1所述的抗反射涂布材...

【专利技术属性】
技术研发人员：庄文斌，陈魏素美，沈永清，张义和，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：71