本发明专利技术提供基板处理装置和基板处理方法。本发明专利技术在构成多模块的模块为不可使用模块时，能够迅速地进行基板的搬送，抑制制品不良的发生。在将基板搬送至搬送目的地模块之前，该搬送目的地模块变得不能够使用时，将基板的搬送目的地变更为该基板的下一个基板将要搬入的模块。在出现不可使用模块时，在为上述搬送部件例如访问搬送循环的上游端的模块之前时，以进行搬送循环直至成为前一基板能够从变更后的搬送目的地模块内搬出的状态的方式进行控制。此外，在出现不可使用模块时，在上述搬送部件在搬送循环中位于上述不可使用模块的上游侧时，以使搬送部件的搬送动作待机直至成为前一基板能够从变更后的搬送目的地模块搬出的状态的方式进行控制。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及例如向半导体晶体或LCD基板(液晶显示器用玻璃基板)等基板的表面供给处理液，进行规定的基板处理例如抗蚀剂液的涂敷、曝光后的显影处理等的。
技术介绍
在半导体器件、LCD基板的制造工艺中，通过被称作光刻的技术，对基板进行抗蚀剂图案的形成。该技术通过下述一系列工序而进行在例如半导体晶片(以下称为晶片) 等基板上涂敷抗蚀剂液，在该晶片的表面形成液体膜，使用光刻掩模对该抗蚀剂膜进行曝光之后，进行显影处理，由此得到期望的图案。这样的处理一般使用将曝光装置连接于进行抗蚀剂液的涂敷、显示的涂敷、显影装置而成的抗蚀剂图案形成装置进行。例如，在该装置中，如图18所示，从收纳有多块晶片的载体10接受晶片，利用臂12交接至处理部1B，在该处理部IB中，进行反射防止膜形成模块(未图示)的反射防止膜的形成、涂敷模块13的抗蚀剂膜的形成，之后经由接口部IC搬送至曝光装置1D。另一方面，曝光处理后的晶片再次回到处理部1B，由显影模块14进行显影处理，之后回到原来的载体10内。在上述反射防止膜、抗蚀剂膜的形成处理的前后、显影处理的前后，利用在支架模块1 15c中排列有多层的加热模块、冷却模块进行晶片的加热处理、冷却处理。在处理部IB内，晶片通过主臂16A、16B在各模块之间被搬送，但在晶片被实施上述处理时，预先编程使其经由规定的通路被搬送，对预定处理的全部的晶片，预先决定分别在哪个时刻搬送至哪个模块的搬送行程表存储在存储器内，晶片依据该搬送行程表被搬送。如果将晶片被放置的场所称为模块，则上述搬送行程表是对晶片分配编号(顺序)，将使晶片的编号和模块的编号相关联并指定搬送循环的搬送循环数据依时间顺序排列而制成的。此处，在抗蚀剂图案形成装置中，从提高生产率的观点出发，多设定有多模块。该多模块是指，搬送的编号相同，对晶片进行相同处理的多个模块，但由于故障、维修等理由可能不能够使用构成多模块的模块。对于此时的晶片的搬送，例如在专利文献1中有作出提案。该方法是，将预定搬送至不能够使用的模块的晶片搬送至暂时退避模块，在由构成多模块的其它能够使用的模块结束其它晶片的处理之后，将退避至退避模块的晶片搬送至上述其它的能够使用的模块。但是，为了提高生产率，要求在处理部IB中设置有多个与处理关联的模块，难以确保退避模块的设置空间。更何况在多模块中，可能在多个模块同时发生药液交换、泵维修等维修、喷嘴的故障等。此时为了应对多个模块不能够使用的情况，必须准备多个退避模块，但很难确保这样的空间。此外，如果代替退避模块，使晶片暂时退避至编入搬送行程表的接收台，则不能够依据记载于搬送行程表的搬送循环搬送晶片，发生晶片搬送停止、搬送延迟等问题。因此，可能会导致例如在加热模块中晶片停留，该晶片在模块内过热，由此膜质劣化、晶片制品不良。专利文献1 日本特开2006-203003号公报(0037 0039段)
技术实现思路
本专利技术鉴于上述问题而提出，其目的在于提供下述技术在构成多模块的多个模块的一个不能够使用，成为不可使用模块时，通过将基板的搬送目的地变更为能够使用的模块并进行搬送，也能够迅速地进行基板的搬送，能够抑制基板制品不良的发生。因此，本专利技术提供一种基板处理装置，其包括载置各基板且搬送的编号顺序已被确定的模块组，在模块组中，包括搬送的编号顺序相同且对基板进行相同处理的多个模块构成的多模块，利用搬送部件从一个模块取出基板，在接受下一模块的基板之后将先前的基板交于该下一模块中，由此通过将置于各模块中的基板向顺序上为后一个的模块移动来进行一个搬送循环，在进行该一个搬送循环之后，进入下一搬送循环，通过依次进行各搬送循环， 基板依次从上述模块组中的编号顺序小的模块搬送至编号顺序大的模块，并被实施规定的处理，在通常时，对上述多模块的各模块从之前的模块开始以基板的规定顺序进行分配，该基板处理装置的特征在于，包括存储部，其存储对基板分配编号顺序，将使基板的编号顺序与各模块相关联并指定搬送循环的搬送循环数据依时间顺序排列而制成的搬送行程表；和控制部，其以参照上述搬送行程表，将写入搬送循环数据的基板搬送至与该基板对应的模块的方式控制上述搬送部件，由此实施搬送循环，上述控制部构成为，在构成上述多模块的多个模块的至少一个为不能够使用的不可使用模块并且至少一个处于能够使用的状态时，进行下述(1)和O)的动作(1)在出现不可使用模块时，在上述搬送部件在搬送循环中位于上述不可使用模块的下游侧或者访问搬送循环的上游端的模块之前，(Ι-a)将预定搬入不可使用模块的、置于不可使用模块的前一个模块中的基板的搬送目的地，变更为该基板的下一个基板将要搬入的模块，(Ι-b)在该基板的下一个基板将要搬入的模块为不可使用模块时，进一步检索下一个基板将要搬入的模块，这样搜索能够使用的模块，并将该能够使用的模块作为搬送目的地，(1-c)在前一基板为不能够从这样决定的搬送目的地模块内搬出的状态时，不使搬送部件待机地进行搬送循环，直至成为基板能够搬出的状态；(2)在出现不可使用模块时，在搬送循环开始，上述搬送部件在搬送循环中位于上述不可使用模块的上游侧时，(2-a)将预定搬入不可使用模块的、置于不可使用模块的前一个模块的基板的搬送目的地变更为该基板的下一个基板将要搬入的模块，(2-b)在该基板的下一个基板将要搬入的模块为不可使用模块时，进一步检索下一个基板将要搬入的模块，由此搜索能够使用的模块，将该能够使用的模块作为搬送目的地，(2-c)在前一基板为不能够从这样决定的搬送目的地模块内搬出的状态时，使搬送部件的搬送动作至少在被确定为上述搬送目的地的模块的上游侧待机。根据本专利技术，在构成多模块的多个模块的至少一个为不能够使用的不可使用模块并且至少一个处于能够使用的状态时，将基板的搬送目的地变更为该基板的下一个基板将要搬入的能够使用的模块，迅速地搬送基板，因此，能够抑制由于基板停留在模块内导致的基板的制品不良。附图说明图1是表示本专利技术的抗蚀剂图案形成装置的实施方式的平面图。图2是表示上述抗蚀剂图案形成装置的立体图。图3是表示上述抗蚀剂图案形成装置的侧部截面图。图4是表示上述抗蚀剂图案形成装置的控制部的一个例子的结构图。图5是表示上述抗蚀剂图案形成装置的第三块的模块组的一具例子的结构图。图6是表示上述第三块的搬送方案的一个例子的说明图。图7是表示上述第三块的搬送行程表的一个例子的说明图。图8是表示上述第三块的搬送行程表的一个例子的说明图。图9是由上述抗蚀剂图案形成装置进行的处理的流程图。图10是表示上述第三块的晶片的搬送例和搬送模块的一个例子的说明图。图11是表示上述第三块的晶片的搬送例和搬送模块的一个例子的说明图。图12是表示上述第三块的晶片的搬送例和搬送模块的一个例子的说明图。图13是表示上述第三块的晶片的搬送例的说明图。图14是表示抗蚀剂图案形成装置的第三块和第四块的晶片的搬送例的说明图。图15是表示抗蚀剂图案形成装置的第一块的晶片的搬送例的说明图。图16是表示上述第一块的晶片的搬送例的说明图。图17是表示上述第三块的晶片的搬送例的说明图。图18是表示现有的抗蚀剂图案形成装置的一个例子的平面图。附图标记W半导体晶片C交接部件Al A4搬送臂D交接臂E穿棱臂F 接口臂3控制部31方案存储部32方案选择部本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种基板处理装置，其包括载置各基板且搬送的编号顺序已被确定的模块组，在模块组中，包括搬送的编号顺序相同且对基板进行相同处理的多个模块所构成的多模块，利用搬送部件从一个模块取出基板，在接受下一模块的基板之后将先前的基板交于该下一模块中，由此通过将置于各模块中的基板向顺序上为后一个的模块移动来进行一个搬送循环，在进行该一个搬送循环之后，进入下一搬送循环，通过依次进行各搬送循环，基板依次从所述模块组中的编号顺序小的模块被搬送至编号顺序大的模块，并被实施规定的处理，在通常时，对所述多模块的各模块从之前的模块开始以基板的规定顺序进行分配，该基板处理装置的特征在于，包括：存储部，其存储对基板分配编号顺序，将使基板的编号顺序与各模块相关联并指定搬送循环的搬送循环数据依时间顺序排列而制成的搬送行程表；和控制部，其以参照所述搬送行程表，将写入搬送循环数据的基板搬送至与该基板对应的模块的方式控制所述搬送部件，由此实施搬送循环，所述控制部构成为，在构成所述多模块的多个模块的至少一个为不能够使用的不可使用模块并且至少一个处于能够使用的状态时，进行下述（１）和（２）的动作：（１）在出现不可使用模块时，在所述搬送部件在搬送循环中位于所述不可使用模块的下游侧或者访问搬送循环的上游端的模块之前，（１－ａ）将预定搬入不可使用模块的、置于不可使用模块的前一个模块中的基板的搬送目的地，变更为该基板的下一个基板将要搬入的模块，（１－ｂ）在该基板的下一个基板将要搬入的模块为不可使用模块时，进一步检索下一个基板将要搬入的模块，由此搜索能够使用的模块，并将该能够使用的模块作为搬送目的地，（１－ｃ）在前一基板为不能够从这样决定的搬送目的地模块内搬出的状态时，不使搬送部件待机来进行搬送循环，直至成为基板能够搬出的状态；（２）在出现不可使用模块时，在搬送循环开始，所述搬送部件在搬送循环中位于所述不可使用模块的上游侧时，（２－ａ）将预定搬入不可使用模块的、置于不可使用模块的前一个模块的基板的搬送目的地变更为该基板的下一个基板将要搬入的模块，（２－ｂ）在该基板的下一个基板将要搬入的模块为不可使用模块时，进一步检索下一个基板将要搬入的模块，由此搜索能够使用的模块，将该能够使用的模块作为搬送目的地，（２－ｃ）在前一基板为不能够从这样决定的搬送目的地模块内搬出的状态时，使搬送部件的搬送动作至少在被确定为所述搬送目的地的模块的上游侧待机。...
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：松山健一郎，松本武志，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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