沉积薄层的方法和获得的产品技术

本发明专利技术的一个主题是一种处理至少一个被沉积在基材的第一个面 上的连续的薄层的方法，其特征在于将所述至少一个薄层升高到至少 300℃的温度同时在所述基材的与所述第一个面的相对的面上保持温度 小于或等于150℃，以便提高所述薄层的结晶度，同时保持其连续并且 没有熔化所述薄层的步骤。本发明专利技术的又一主题是可以通过这样的方法获 得的材料。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】专利说明沉积薄层的方法和获得的产品 本专利技术涉及的领域是薄的无机层，特别地在玻璃基材上沉积的那些。更具体地说，涉及所述薄层的至少部分结晶的方法和使用这种方法获得的某些产品。 许多薄层被沉积在基材(特别地由平的或略微弯曲的玻璃制成的那些)上，以便使所得的材料具有特别的性能光学特性，例如对于具有给定的波长范围的辐射的反射或吸收性能；特别的电导性能，或与清洗方便性或与材料是自清洁的可能性有关的性能。 这些薄层最通常是基于无机化合物氧化物、氮化物，或者金属。其厚度通常从数纳米变化到几百纳米，因此其被称为“薄的”。 作为实例，可以提及基于以下的薄层铟和锡混合氧化物(称为ITO)、铟和锌混合氧化物(称为IZO)、掺杂镓的或掺杂铝的氧化锌、掺杂铌的二氧化钛、镉或锌的锡酸盐、或者掺杂氟的和/或掺杂锑的氧化锡。这些不同的层具有为透明然而导电性或半导电性层的特征并且用于许多其中这两种性能是必需的系统中液晶显示器(LCD)、太阳能或光伏式传感器、电致变色或电致发光设备等。 还可提及基于金属银或金属钼或铌的薄层，其具有电导性能和反射红外辐射的性能，因此其用于阳光控制玻璃板，特别地阳光保护玻璃板(以便降低本文档来自技高网...

【技术保护点】
处理至少一个被沉积在基材的第一个面上的连续的薄层的方法，其特征在于将在所述至少一个薄层的每个点升高到至少３００℃的温度同时在所述基材的与所述第一个面相对的面上的所有点处保持温度小于或等于１５０℃，以便提高所述薄层的结晶度，同时保持其连续并且没有熔化所述薄层的步骤。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2007.1.5 FR 07525501.处理至少一个被沉积在基材的第一个面上的连续的薄层的方法，其特征在于将在所述至少一个薄层的每个点升高到至少300℃的温度同时在所述基材的与所述第一个面相对的面上的所有点处保持温度小于或等于150℃，以便提高所述薄层的结晶度，同时保持其连续并且没有熔化所述薄层的步骤。2.权利要求1的方法，其中所述基材由玻璃、特别地钠钙硅玻璃制成。3.根据前述权利要求中任一项的方法，其中在所述基材的与薄层沉积在其上的面相对的面上的所有点处维持温度小于或等于100℃，特别地50℃。4.根据前述权利要求中任一项的方法，其中使薄层的每个点升高到高于或等于300℃的温度达小于或等于1秒，或甚至0.5秒的时间。5.根据前述权利要求中任一项的方法，其中所获得的结晶度为大于或等于20％，特别地50％。6.根据前述权利要求中任一项的方法，其中基材具有至少一个大于或等于1m，甚至2m的尺寸。7.根据前述权利要求中任一项的方法，其中薄层基于金属、氧化物、氮化物或氧化物的混合物，其选自银，钼，铌，二氧化钛，铟和锌或铟和锡混合氧化物，掺杂铝的或掺杂镓的氧化锌，钛、铝或锆的氮化物，掺杂铌的二氧化钛，锡酸镉和/或锡酸锌，掺杂氟的和/或掺杂锑的氧化锡。8.根据前述权利要求中任一项的方法，其中处理前的薄层不包含水性或有机溶剂，其特别地通过阴极溅射获得。9.根据前述权利要求中任一项的方法，其中薄层是导电性的，并且通过感应进行该薄层的加热。10.根据权利要求1-8中任一项的方法，其中薄层吸收至少一部分的红外辐射，并且使用这样的辐射进行加热该薄层，所述辐射的波长被包括在被所述层吸收的红外辐射的所述部分中。11.根据权利要求1-8中任一项的方法，其中通过热喷涂技术，特别地通过等离子炬喷涂技术，加热薄层。12.根据权利要求1-8中任一项的方法，其中通过使所述薄层经受...

【专利技术属性】
技术研发人员：N·纳道，A·卡申科，U·希勒特，R·吉，
申请(专利权)人：法国圣戈班玻璃厂，
类型：发明
国别省市：FR