防尘薄膜组件制造技术

本发明专利技术的目的在于提供一种光刻用防尘薄膜组件，即使将该防尘薄膜组件贴合于曝光原版上，也能够尽可能降低因为该防尘薄膜组件框架的变形所导致的曝光原版的变形。为了达成上述目的，本发明专利技术提供一种光刻用防尘薄膜组件，其特征为：在防尘薄膜组件框架的一端面上设置防尘薄膜，在另一端面上设置粘合层，该粘合层的气泡的容量含有率为１０～９０％，且该粘合层所含有的气泡的数量平均直径宜为１０～２００μｍ。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种光刻用防尘薄膜组件，其在制造LSI、超LSI等半导体装置或液 晶显示板时作为光刻用掩膜的防尘器使用。
技术介绍
在LSI、超LSI等半导体装置或液晶显示板等产品的制造过程中，会用光照射半导 体晶圆或液晶用原板以制作形成图案，如果此时所使用的曝光原版有灰尘附着的话，由于 该灰尘会吸收光，使光反射，除了会让转印的图案变形、使边缘变粗糙之外，还会使基底污 黑，并损坏尺寸、品质、外观等。另外，在本专利技术中，“曝光原版”是光刻用掩膜(亦简称“掩 膜”)以及初缩掩膜的总称。以下，以掩膜为例进行说明。这些作业通常是在无尘室中进行，即使在该无尘室内要经常保持曝光原版的干净 仍是相当困难，所以我们在曝光原版的表面贴合对曝光用光线的透光性良好的防尘薄膜组 件作为防尘器使用。防尘薄膜组件的基本构造，是由防尘薄膜组件框架以及设置于其上的防尘薄膜所 构成。防尘薄膜是由硝化纤维素、醋酸纤维素、氟系聚合物等物质所构成，其对曝光用光线 (g线、i线、248nm、193nm等)具备良好的透光性。在防尘薄膜组件框架上边部涂布防尘薄 膜的良好溶剂，将防尘薄膜风干粘合，或用丙烯酸树脂、环氧树脂或氟树本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻用防尘薄膜组件，其特征为，在防尘薄膜组件框架的一端面上设置防尘薄膜，在另一端面上设置粘合层，该粘合层的气泡的容量含有率为１０～９０％。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：白崎享，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]