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地下地膜截水墙制造技术

技术编号:628 阅读:259 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术是一种地下地膜截水墙,属于农、林业节水技术领域。其特征是在山区或坡地上挖沟(坑),沟(坑)深0.5-1.0米,贴沟(坑)壁埋设地膜形成截水墙,可拦截壤中流、径流,充分利用天然降水供作物吸收,节水效益明显,其成本低廉、简单易行,既可适用于旱作农地,也适用于果树栽培和荒山植被恢复,非常有利于我国干旱山区坡(台)地的广泛推广使用。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
地下地膜截水墙本专利技术是一种地下地膜截水墙,属于农、林业节水
,特别涉及干旱、山区坡地的农、林业节水技术。节水农业技术是干旱区农、林业发展的必由之路。目前,滴灌、雾灌、喷灌等节水灌溉技术节水效果显著,一般均能节水50%以上,但其投资成本高、工艺复杂,很难在我国经济落后、地形复杂的干旱贫困山区大面积发展。本专利技术的目的在于避免上述现有技术的不足而提供一种节水效益显著,成本低廉,工艺简单,适于我国干旱山区、坡地大力发展的地下地膜截水墙农、林业节水新技术。本专利技术的目的可以通过以下措施来达到:坡地挖沟(坑)深度0.5米~1.0米,沿沟(坑)壁埋设地膜。本专利技术的目的还可以通过以下措施来达到:在坡地沿等高线挖沟,在沟的下方壁垂直埋设地膜;在作物种植坑的下方壁铺设地膜,填肥土后定植作物,在作物种植坑的四壁铺设无底地膜袋,填肥土后,定植作物。附图说明:图1为本专利技术实施例一结构图图2为本专利技术实施例二结构图图3为本专利技术实施例三结构图本专利技术下面将结合附图作进一步说明:如图1所示:在荒山草坡上沿等高线挖沟(1),沟深0.5~1.0米,在沟的下方壁垂直埋设地膜(2),形成截水本文档来自技高网...

【技术保护点】
地下地膜截水墙,其特征在于坡地上挖沟(坑)(1),沟(坑)深0.5-1.0米,贴沟(坑)壁埋设地膜(2)。

【技术特征摘要】
1、地下地膜截水墙,其特征在于坡地上挖沟(坑)(1),沟(坑)深0.5-1.0米,贴沟(坑)壁埋设地膜(2)。2、如权利要求1所述的地下地膜截水墙,其特征在于在坡地上沿等高线挖沟(1)贴沟下方壁埋设地膜(2)。3、...

【专利技术属性】
技术研发人员:张信宝张建平杨忠朱波
申请(专利权)人:中国科学院水利部成都山地灾害与环境研究所
类型:发明
国别省市:90[中国|成都]

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