一种光纤珐珀磁场传感器制造技术

技术编号:6251008 阅读:262 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种光纤珐珀磁场传感器,包括光纤,其特征在于,在光纤的一端面设置一个以气体或者空气为介质的珐珀腔,所述珐珀腔包括两个反射面,一个反射面为光纤的端面,另一反射面是与光纤端面相对应的膜片,所述膜片镀有或者粘贴有磁材料或者金属材料,靠近磁场时,磁力带动膜片运动而改变所述珐珀腔的腔长,所述光纤拾取珐珀腔的反射光学信号获取珐珀腔腔长信息,实现对磁场的测量。该传感器能克服现有技术的缺陷,能实现长期稳定、准确的测量磁场,而且灵敏度高,制备方法简单。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光纤传感
,具体涉及一种光纤珐珀磁场传感器
技术介绍
磁场测量是电磁测量技术的一个重要分支。在工业生产和科学研究的许多领域都 要涉及到磁场测量问题。如电流测量、磁探矿、磁悬浮列车、地质勘探、同位素分离、质谱 仪、电子束和离子束加工装置、受控热核反应,以及人造地球卫星等,甚至在医学和生物学 方面也有应用。例如,磁场疗法治病,用“心磁图”、“脑磁图”来诊断疾病,环境磁场对生物 和人体的作用,以及磁现象与生命现象的研究等都需要磁场测量技术和测磁仪器的研制, 因此,磁场的测量技术与人们的生活密切相关。传统的磁场传感器是以电测试原理为主,如霍尔效应和电磁感应原理,已经有成 熟产品。但作为电测原理的传感器往往易受电磁干扰、容易磁饱和等,因而光学式的磁 场传感器越来越受到关注。现有的光学磁场传感器主要是基于法拉第旋转效应或者是 磁-机_光转换原理,存在长期稳定性差、测量精度不高等缺点。
技术实现思路
本技术所要解决的问题是如何提供一种光纤珐珀磁场传感器,该传感器能 克服现有技术的缺陷,能实现长期稳定、准确的测量磁场,而且灵敏度高。本技术所提出的技术问题是这样解决的提供一种光纤珐珀磁场传感器,包 括光纤,其特征在于,在光纤的一端面设置一个以气体或者空气为介质的珐珀腔,所述珐珀 腔包括两个反射面,一个反射面为光纤的端面,另一反射面是与光纤端面相对应的膜片,所 述膜片镀有或者粘贴有磁材料或者金属材料,靠近磁场时,磁力带动膜片运动而改变所述 珐珀腔的腔长,所述光纤拾取珐珀腔的反射光学信号获取珐珀腔腔长信息,实现对磁场的 测量。按照本技术所提供的光纤珐珀磁场传感器,其特征在于,所述珐珀腔的横截 面大于、等于或者小于光纤的纤芯的横截面。按照本技术所提供的光纤珐珀磁场传感器,其特征在于,所述珐珀腔是由设 置在光纤端面内部正中心的圆柱形微槽和对接在光纤端面的膜片构成。按照本技术所提供的光纤珐珀磁场传感器,其特征在于,所述珐珀腔是由光 纤的端面、套设在光纤上的套管和设置在套管另一端的膜片构成。按照本技术所提供的光纤珐珀磁场传感器,其特征在于,所述光纤是采用石 英、聚合物、宝石或光子晶体材料制成的单模光纤。本技术的工作原理是设置一个以气体或者空气为介质包含两个光学反射面 构成的珐珀腔,珐珀腔的一端为一膜片,在膜片上镀上或粘贴上磁材料或金属材料,膜片和 磁(金属)材料的厚度和FP腔尺寸可调节灵敏度。靠近磁场,磁(金属)材料的磁场与垂 直于膜片的磁场产生磁力作用,磁力带动膜片运动从而改变FP腔腔长,用光纤拾取FP腔的3反射光学信号获得腔长信息,便可实现对磁场的测量。本技术结构简单合理,可以实现长期稳定、准确的测量磁场,而且灵敏度很 高,实现方法也很简单。附图说明图1是本技术第一种实施例的结构示意图;图2a是本技术第二种实施例的结构示意图,其中图2b是图2a的右侧端面示 意图;图3是本技术第三种实施例的结构示意图;图4a是本技术第四种实施例的结构示意图,其中图4b是图4a的右侧端面示 意图。其中,1、光纤,2、膜片,3、珐珀腔,4、磁性材料层,5、套管,6、胶水层,7、金属层。具体实施方式以下结合附图对本技术作进一步描述如图1 4所示,该光纤珐珀磁场传感器,包括光纤1,在光纤1的一端面设置一个 以气体或者空气为介质的珐珀腔3,珐珀腔3包括两个反射面,一个反射面为光纤的端面, 另一反射面是与光纤端面相对应的膜片2,膜片2镀有或者粘贴有磁材料层4或者金属层 7,靠近磁场时,磁力带动膜片运动而改变所述珐珀腔的腔长,所述光纤拾取珐珀腔的反射 光学信号获取珐珀腔腔长信息,实现对磁场的测量。本技术的的光纤1是采用石英、聚合物、宝石或光子晶体材料制成的单模光 纤,本技术所述的加工是采用157nm激光加工、飞秒激光加工、红外激光加工或电子束 刻蚀,本技术所述对接是采用激光熔接、电弧熔接、或粘接,本技术所述切割是采 用激光、切割刀或研磨方法切掉。本技术的光纤由包层和纤芯构成,所述珐珀腔的横截 面可大于、等于或小于光纤的纤芯的横截面。实施例1包括光纤1,在光纤1的一端面设置圆柱形微槽,深度在ΙΟμπι至IOmm之间,在圆 柱形微槽外对接与光纤端面相对应的膜片2,形成珐珀腔3,膜片2镀有或者粘贴有磁材料 或者金属材料层。制备方法是①在光纤的端面上用157mm激光器加工出一个圆柱形微槽, 深度IOym至IOmm之间;②在圆柱形微槽外对接上同种材料的膜片,形成珐珀腔;③在膜 片上镀上磁性材料4或金属材料7,制成了光纤法珀磁场传感器。实施例2包括光纤1,在光纤1的一端面设置一个以气体或者空气为介质的珐珀腔3,珐珀 腔3是由光纤1的端面、套设在光纤1上的套管5和设置在套管5另一端的膜片2构成,膜 片2镀有或者粘贴有磁材料或者金属材料层。制备方法是①将套管5两端切平,套管5内 圆能套设光纤1 ;②在套管5的一端对接上和套管5同种材料的膜片2 ;③在膜片2表面镀 上磁材料4或者金属材料层7,将光纤1插入套管5中,并和膜片2保持微小的距离,用胶水 层6固定,制成了光纤法珀磁场传感器。权利要求一种光纤珐珀磁场传感器,包括光纤,其特征在于,在光纤的一端面设置一个以气体或者空气为介质的珐珀腔,所述珐珀腔包括两个反射面,一个反射面为光纤的端面,另一反射面是与光纤端面相对应的膜片,所述膜片镀有或者粘贴有磁材料或者金属材料,靠近磁场时,磁力带动膜片运动而改变所述珐珀腔的腔长,所述光纤拾取珐珀腔的反射光学信号获取珐珀腔腔长信息,实现对磁场的测量。2.根据权利要求1所述的光纤珐珀磁场传感器,其特征在于,所述珐珀腔的横截面大 于、等于或者小于光纤的纤芯的横截面。3.根据权利要求2所述的光纤珐珀磁场传感器,其特征在于,所述珐珀腔是由设置在 光纤端面内部正中心的圆柱形微槽和对接在光纤端面的膜片构成。4.根据权利要求2所述的光纤珐珀磁场传感器,其特征在于,所述珐珀腔是由光纤的 端面、套设在光纤上的套管和设置在套管另一端的膜片构成。5.根据权利要求1 4任一所述的光纤珐珀磁场传感器,其特征在于,所述光纤是采用 石英、聚合物、宝石或光子晶体材料制成的单模光纤。专利摘要本技术公开了一种光纤珐珀磁场传感器,包括光纤,其特征在于,在光纤的一端面设置一个以气体或者空气为介质的珐珀腔,所述珐珀腔包括两个反射面,一个反射面为光纤的端面,另一反射面是与光纤端面相对应的膜片,所述膜片镀有或者粘贴有磁材料或者金属材料,靠近磁场时,磁力带动膜片运动而改变所述珐珀腔的腔长,所述光纤拾取珐珀腔的反射光学信号获取珐珀腔腔长信息,实现对磁场的测量。该传感器能克服现有技术的缺陷,能实现长期稳定、准确的测量磁场,而且灵敏度高,制备方法简单。文档编号G02B26/06GK201689165SQ20102021866公开日2010年12月29日 申请日期2010年6月8日 优先权日2010年6月8日专利技术者冉曾令, 饶云江, 鲁恩 申请人:电子科技大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光纤珐珀磁场传感器,包括光纤,其特征在于,在光纤的一端面设置一个以气体或者空气为介质的珐珀腔,所述珐珀腔包括两个反射面,一个反射面为光纤的端面,另一反射面是与光纤端面相对应的膜片,所述膜片镀有或者粘贴有磁材料或者金属材料,靠近磁场时,磁力带动膜片运动而改变所述珐珀腔的腔长,所述光纤拾取珐珀腔的反射光学信号获取珐珀腔腔长信息,实现对磁场的测量。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:冉曾令饶云江鲁恩
申请(专利权)人:电子科技大学
类型:实用新型
国别省市:90[中国|成都]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利