一种用于还原气体气氛平衡的坩埚制造技术

本实用新型专利技术提供了一种用于还原气体气氛平衡的坩埚，该坩埚包括坩埚本体（１１）、坩埚盖（１３），其特征在于，所述坩埚还含有位于坩埚壁上、可用于承托物料烧结容器的数个卡槽（１４）或突起（１２），所述卡槽的个数为大于等于２的整数，突起的个数为大于等于４的双数。本实用新型专利技术提供的坩埚能在整个盖实的密闭环境中分层放置不同原料进行烧结，且有利于扩大烧结原料与还原气体的接触面积从而有利于烧结反应的发生。能应用在普通的箱式电炉中，且使用方便，适合工业化生产。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种用于还原气体气氛平衡的坩埚。
技术介绍
目前荧光粉生产大都需要经过高温烧结，陶瓷坩埚可作为其烧结时用的容器。对于钇铝石榴石(YAG)等需要还原的荧光粉来说，烧结步骤可在高温管式炉中通入还原气体还原，也可在密闭的坩埚内利用碳粉等生成CO作为还原剂。以上两种方法各有优势，其中，后一种方法可在简单、廉价的高温箱式炉中使用。但传统的双层坩埚成倒“凸”字形，烧结YAG时，碳粉放置在底层，而待烧结的YAG粉放置在第二层上，因第二层空间有限，无法满足工业生产的需求。CN1308503C中公开了一种用于锂气氛气相传输平衡方法的坩埚，该坩埚是Al2O3陶瓷坩埚，由坩埚、架角、中间隔板和坩埚盖构成，在该坩埚内安置该架角，在该架角上放置该中间隔板，该中间隔板上开设有若干通气孔和供样品放置的细槽，坩埚盖的边沿设有与坩埚的周边相配合的环行凹槽。这样的坩埚对于晶体生长的气相传输平衡方法有用，但是对于YAG这种粉体物料的气相传输并不适合，不能使物料的气氛保持一致。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是现有可用于还原气体气氛平衡的坩埚无法满足生产对于物料承载空间的问题。本技术提供一种用于还原气体气氛平衡的坩埚，该坩埚包括坩埚本体、坩埚盖，所述坩埚还含有位于坩埚壁上、可用于承托物料烧结容器的数个卡槽或突起，所述卡槽的个数为大于等于2的整数，突起的个数为大于等于4的双数。当承托物料烧结容器的为卡槽时，物料烧结容器(如烧舟)可以直接卡入卡槽内，从而得以固定。当承托物料烧结容器的为突起时，物料烧结容器(如烧舟)可架设于两个突起之间。本技术提供的坩埚能在整个盖实的密闭环境中分层放置不同原料进行烧结，且有利于扩大烧结原料与还原气体的接触面积从而有利于烧结反应的发生。能应用在普通的箱式电炉中，且使用方便，适合工业化生产。附图说明图1为本技术的一种设有突起的坩埚的正面剖视示意图；图2为与技术坩埚配合使用的烧舟的俯视图；图3为图2中A-A向剖视示意图；图4为本技术的一种设有突起的坩埚配合烧舟使用状态的侧面剖视示意图；图5为图1中配合烧舟使用状态的正面剖视示意图；-->图6为本技术的一种设有卡槽的坩埚配合烧舟使用状态的正面剖视示意图；图7为本技术的另一种设有卡槽的坩埚配合烧舟使用状态的正面剖视示意图；其中，附图标记：11、坩埚本体；12、突起；13、坩埚盖；14、卡槽；2、放置还原碳粉的空间。具体实施方式为了使本技术所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。一种用于还原气体气氛平衡的坩埚，该坩埚包括坩埚本体11、坩埚盖13，所述坩埚还含有位于坩埚壁上、可用于承托物料烧结容器的数个卡槽14或突起12，所述卡槽的个数为大于等于2的整数，突起的个数为大于等于4的双数。所述物料烧结容器为本领域的技术人员公知的各种耐烧结温度同时又不与物料发生反应的容器，比如烧舟。所述烧舟3的俯视图如图2所示，为中间设有凹槽的陶瓷体；所述图3为图2中A-A向剖视示意图。烧舟3中间的凹槽可用于盛放烧结物料，如待烧结的YAG粉。坩埚本体11的形状为本领域的技术人员公知的各种形状，本技术中的坩埚本体的形状可以为圆筒型、方盒型、梯形、倒“凸”字形、碗形中的一种。优选地，所述坩埚本体11的形状为方盒型，坩埚本体的形状为方盒型可以比较方便设置卡槽或者突起的空间位置，方便物料烧结容器的取出和放置，同时，较大程度地合理分化了坩埚内的空间，有利于需要还原气体气氛平衡的情况，如烧结YAG时。所述坩埚本体的形状为方盒型，所述数对突起分别对称分布在坩埚的两个相对的壁上，突起所在的两个壁均垂直于坩埚底面，坩埚盖所在的平面与坩埚底面相平行。优选地，与突起所在的壁相邻接的两个平面分别为第一平面、第二平面，靠近第一平面设有相互平行的数个第一排突起，靠近第二平面设有相互平行的数个第二排突起，与第一排突起相对的壁上对称设有第三排突起，与第二排突起相对的壁上对称设有第四排突起，所述沿第一排突起的突起轨迹形成的直线为第一直线，沿第二排突起的突起轨迹形成的直线为第二直线，第一直线与第二直线不相同且相互平行。突起成对分别对称分布在坩埚的两个相对的壁上，如图4或图5所示，承托烧舟时，只要将烧舟架设在两个对称分布的突起之间即可，烧舟的两端被突起承托住，烧舟的中间架设于坩埚的空间中，烧舟比较稳定，而且烧舟非常容易放置。所述图1为本技术的突起对称分布在坩埚的两个相对的壁上的一种坩埚的正面剖视示意图；作为本技术公开的坩埚的一种实施方式，如图1所示，该坩埚中的突起个数为8个；图5为上述坩埚配合烧舟使用状态的正面剖视示意图，从图5中可以看出烧舟架设在两个对称分布的突起之间，各烧舟在空间上相互平行。与突起所在的某个壁相邻接的两个平面分别为第一平面、第二平面，如图4所示，靠近第一平面(即图4中的左边2个突起，)设有相互平行的2个第一排突起(即图4中的左边2个相互平行的突起，也即图1中左边2个未被剖开的突起)，靠近第二平面设有相互平行的2个第二排突起(即图-->4中的右边2个相互平行的突起，也即图1中左边2个被剖开的突起)，与第一排突起相对的壁上对称设有第三排突起，与第二排突起相对的壁上对称设有第四排突起，所述沿第一排突起的突起轨迹形成的直线为第一直线，沿第二排突起的突起轨迹形成的直线为第二直线，第一直线与第二直线不相同且相互平行。即第一排突起与第二排突起在空间上相互交错，如图4所示为上述坩埚配合烧舟使用状态的侧面剖视示意图；从图4中可以清楚地看出第一排突起与第二排突起在空间上相互交错。所述坩埚本体的形状为方盒型，所述数个卡槽均设在坩埚的一个壁上(如图6所示)或均匀分布在两个相对的壁上(如图7所示)，卡槽所在的壁垂直于坩埚底面，坩埚盖所在的平面与坩埚底面相平行。优选地，与卡槽所在的壁相邻接的两个平面分别为第一平面、第二平面，靠近第一平面设有相互平行的数个第一排卡槽，靠近第二平面设有相互平行的数个第二排卡槽，所述沿第一排卡槽的卡槽轨迹形成的直线为第一直线，沿第二排卡槽的卡槽轨迹形成的直线为第二直线，第一直线与第二直线不相同且相互平行。所述的卡槽14如图6所示，烧结容器烧舟被卡在卡槽内得以固定，图6中的卡槽14的个数为3个，其中，第一排卡槽的个数为1个，第二排卡槽的个数为2个。所述的卡槽14如图7所示，烧结容器烧舟被卡在卡槽内得以固定，图7中的卡槽14均匀分布在两个相对的壁上，卡槽的个数为4个，其中，第一排卡槽的个数为2个，第二排卡槽的个数为2个。所述卡槽或突起在所在的壁上延伸的长度占所在壁长度的1/4-2/5；优选为2/5，如图4所示，此时，烧舟比较容易放置；卡槽或突起在所在的壁上延伸的长度占所在壁长度最好不超过1/2，超过1/2，那么就不能设置成两排突起或凹槽了，那么烧结空间的设置就不能更大限度地排布物料烧结容器。所述卡槽的个数优选为大于等于3的整数，突起的个数优选为大于等于8的双数；卡槽或者突起的个数越多，那么坩埚的空间被划分地越多，越有利于放置更多的物料，但是因物料烧结容器有一定的高度，所以可以根据坩埚的空本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于还原气体气氛平衡的坩埚，该坩埚包括坩埚本体（１１）、坩埚盖（１３），其特征在于，所述坩埚还含有位于坩埚壁上、可用于承托物料烧结容器的数个卡槽（１４）或突起（１２），所述卡槽的个数为大于等于２的整数，突起的个数为大于等于４的双数。

【技术特征摘要】
1.一种用于还原气体气氛平衡的坩埚，该坩埚包括坩埚本体(11)、坩埚盖(13)，其特征在于，所述坩埚还含有位于坩埚壁上、可用于承托物料烧结容器的数个卡槽(14)或突起(12)，所述卡槽的个数为大于等于2的整数，突起的个数为大于等于4的双数。2.根据权利要求1所述的用于还原气体气氛平衡的坩埚，所述物料烧结容器为烧舟(3)。3.根据权利要求1所述的用于还原气体气氛平衡的坩埚，坩埚本体(11)的形状为圆筒型、方盒型、梯形、倒“凸”字形、碗形中的一种。4.根据权利要求1所述的用于还原气体气氛平衡的坩埚，所述坩埚本体的形状为方盒型，所述数对突起分别对称分布在坩埚的两个相对的壁上，突起所在的两个壁均垂直于坩埚底面，坩埚盖所在的平面与坩埚底面相平行。5.根据权利要求4所述的用于还原气体气氛平衡的坩埚，与突起所在的壁相邻接的两个平面分别为第一平面、第二平面，靠近第一平面设有相互平行的数个第一排突起，靠近第二平面设有相互平行的数个第二排突起，与第一排突起相对的壁上对称设有第三排突起，与第二排突起相对的壁上对称设有第四排突起，所述沿第一排突起的突起轨迹形成的直线为第一直线，沿第二排突起的突起轨迹形成的...

【专利技术属性】
技术研发人员：周芳享，陈秋绘，
申请(专利权)人：比亚迪股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]