一种AM60镁合金表面厚层处理方法技术

本发明专利技术公开了一种AM60镁合金表面厚层处理方法，属于AM60镁合金表面厚层处理研究领域，本发明专利技术在交流等离子体微弧氧化处理方法基础上，通过向处理液中喷入氧气以增强和改善对保护层的烧结作用，并在氟化钾浓度为406～408g/L、氢氧化钾浓度为188～190g/L、工频交流电压为114～116V、每升处理液氧气喷入量为0.01～0.016L/s条件下，对AM60镁合金进行119～149秒的交流等离子体微弧氧化表面处理，可在AM60镁合金表面形成55～65μm厚的组织致密、均匀的厚保护层。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
１．一种ＡＭ６０镁合金表面厚层处理方法，采用交流等离子体微弧氧化处理方法对ＡＭ６０镁合金进行表面处理，其特征在于，在进行表面处理前１分钟开始向处理液中喷入氧气，并在氟化钾浓度为４０６～４０８ｇ／Ｌ、氢氧化钾浓度为１８８～１９０ｇ／Ｌ、工频交流电压为１１４～１１６Ｖ、每升处理液氧气喷入量为０．０１～０．０１６Ｌ／ｓ条件下，对ＡＭ６０镁合金进行１１９～１４９秒的交流等离子体微弧氧化表面处理。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张鹏，杜云慧，刘汉武，
申请(专利权)人：北京交通大学，
类型：发明
国别省市：11