一种用于高性能声表面波器件的压电薄膜及其制备方法技术

技术编号:6130496 阅读:254 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种用于高性能声表面波器件的压电薄膜,由金刚石衬底和该衬底表面形成的一层六方氮化硼薄膜构成,所述六方氮化硼薄膜是厚度为0.6-0.8?m的纳米薄膜;其制备方法是:在在MOCVD沉积系统的进样室,先对金刚石衬底表面进行表面等离子体清洗,然后采用磁控溅射工艺在金刚石衬底表面沉积一层六方氮化硼h-BN薄膜。本发明专利技术的优点是:提供了一种用于高性能声表面波(SAW)器件的压电薄膜,用其制备的SAW器件频率高(≥2.5GHz),且可以承受大功率(≥37dBm),可以满足高频率和/或大功率移动通信的要求。本发明专利技术还提供了该压电薄膜的制备方法,其工艺条件方便易行,有利于大规模推广应用,具有重大的生产实践意义。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及声表面波器件
,特别是涉及一种用于高性能声表面波器件的 压电薄膜及其制备方法。
技术介绍
近年来,移动通信的飞速发展,使得无线电通信频带成为一个有限而宝贵的自然 资源。对于移动通信系统,低于IGHz的频带已被占满(第一代数字系统);第二代数字系统 的频率从900 MHz到1.9 GHz ;在第三代数字系统中,全球漫游游游频率范围为1.8 2. 2 GHz,卫星定位系统(GPS)频率为1.575 GHz,低地球轨道新卫星通信(LEO)的应用频率范围 为1. 6GHz 2. 5GHz,因此,目前的移动通信系统的应用频率越来越高,急需高频的声表面 波(SAW)滤波器,而且,移动通动通信装置都要求声表面波SAW滤波器尽量小型化以及具有 较大的功率承受能力。常规SAW材料,如石英、铌酸锂LiNbO3、氧化锌ZnO等,声表面波相速较低,一般 低于4000m/s,用其制作频率为2. 5GHz的SAW器件,其叉指换能器(IDT)指宽d必须小于 0. 4 μ m,频率为5GHz的SAW器件所对应的IDT指宽d小于0. 2 μ m,已经逼近目前半导体工 业水平的极限,因此在生产中会本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于高性能声表面波器件的压电薄膜,其特征在于:由金刚石衬底和该衬底表面形成的一层六方氮化硼h-BN薄膜构成,所述六方氮化硼h-BN薄膜是厚度为0.6-0.8μm的纳米薄膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:薛玉明杨保和潘宏刚朱亚东刘君宋殿友辛治军
申请(专利权)人:天津理工大学
类型:发明
国别省市:12

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