【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种一维周期结构的光场产生方法。其特点是利用纯相位型空间光调 制器直接调制光束的偏振态分布,产生强度和圆偏振度一维周期变化的光场。在半导体输 运动力学测量和微结构光刻制做领域具有重要应用价值。
技术介绍
一维周期结构光场在现代科学
具有广泛的应用价值。传统的产生方法是 使用两束非平行传播的线偏振光束的相干迭加,在交迭区域产生一维周期结构的光场,而 周期由两束光的夹角决定。两束偏振平行的光迭加能够产生光强度一维周期变化的光场。 这种周期光场在一维正弦型光栅的光刻制作、半导体中电子双极输运动力学测量方面得到 应用。两束偏振正交或垂直的光迭加能够产生圆偏振度或偏振态一维周期变化的光场。这 种周期光场在半导体中电子自旋输运动力学测量方面得到应用。然而,这种双光束相交迭 加产生方法的缺点是明显的,需要两束光,增加了光路的复杂性。此外,产生的周期结构容 易受到两束光之间的光程差波动而漂动。同时,对于飞秒脉冲激光束,还需要精确调节两束 光的光程,使之几乎相等,因为容许的光程误差仅几十微米。这些缺点,限制了这种双光束 相干迭加产生一维周期结构光场方法的广泛应用,增加了设备的复杂性和实验操作难度。 因而,专利技术新的、简单的一维周期光场产生方法是非常必要的。
技术实现思路
本专利技术发展了一种简单的、基于纯相位型液晶空间光调制器调制单光束产生一维 周期结构光场的方法。产生方法的原理如附图说明图1所示。与目前报道的双光束相干迭加产生一 维周期结构光场方法对比,本专利技术的新方法具有如下四个优点。第一,实验装置结构简单; 因为只需要一束光。第二,产生的一维周期 ...
【技术保护点】
1.一种一维周期结构光场产生方法,其特征是使用纯相位型液晶空间光调制器调制单光束代替传统的双光束相干迭加,产生稳定的、容易操控的一维周期结构光场;线偏振光束透过纯相位型液晶空间光调制器,当其偏振面与液晶双折射的寻常偏振方向成45度角,并设置液晶空间光调制器象素列的施加电压随列指标在V0→V2π之间周期变化时,则可产生一维圆偏振度正弦周期变化的光场。
【技术特征摘要】
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。