一种TiO2/SiO2复合薄膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种无机材料二氧化钛/二氧化硅(TiO2/SiO2)的制备，尤其是TiO2/SiO2复合薄膜的制备方法。本发明专利技术是采用磁控溅射法，把TiO2/SiO2复合纳米粉末，碾磨、充分混合均匀；然后压制成固体靶材，而后热处理，即制得靶材；用石英玻璃为衬底，以较低功率对靶材预溅射，然后升高射频功率，待机器各方面参数稳定一段时间，打开样片挡板开始沉积薄膜，沉积一定时间，地石英玻璃衬底表面上一层透明且发亮的沉积物即为TiO2/SiO2复合薄膜。本发明专利技术的优点：工艺可控性强，易操作，成本低，制得的产物纯度高。本发明专利技术所制备的产品具有广泛的用途。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及无机材料二氧化钛/ 二氧化硅(Ti02/Si02)的制备，尤其是Ti02/Si02 复合薄膜的制备方法。
技术介绍
二氧化钛(TiO2)具有良好的光催化性和亲水性能，并由于其化学稳定性好、反应活性高，成本低而受青睐。光催化TiO2材料可用于降解有机物、杀菌消毒、污水处理、空气净化、防雾玻璃、自清洁玻璃等方面，已成为环保纳米材料研究开发的一个热点。但是，纯 TiO2表面暴露的活性位有限，在光催化降解过程中Ti02有效利用率受到限制。而采用Ti02/ SiO2复合光催化剂，不仅可以降低成本，并且在不损失有效光照的情况下，可以提高TiO2的表面活性位。这种Ti02/Si02复合薄膜能有效提高光催化活性、亲水性等性能。目前制备 Ti02/Si02复合薄膜的制备的方法主要有溶胶-凝胶(&)l-gel)法，化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition, CVD)，物理气相沉积(Physical Vapor Deposition, PVD)，射频磁控溉射(Radio Frequency Magnetron Sputtering)等方法。在这些方法中，溶液本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种ＴｉＯ２／ＳｉＯ２复合薄膜的制备方法，其特征是包括如下步骤：（１）按Ｓｉ／Ｔｉ摩尔比为１∶１的量，称取ＴｉＯ２／ＳｉＯ２复合纳米粉末，用玛瑙碾钵碾磨使复合纳米粉末混合均匀；用压片机将ＴｉＯ２／ＳｉＯ２复合粉末压制成直径为５０－６０ｍｍ的固体靶材，而后经５８０－６２０℃热处理３ｈ以上，即制得Ｓｉ／Ｔｉ比为１／１靶材；（２）将干净的石英玻璃衬底固定在样品托上，关好各气阀后抽真空，直至真空度达到１．０×１０－４Ｐａ以上，通入高纯气体氮气、氩气、或氦气，调节分子泵闸板阀，将气压调整到０．６Ｐａ，打开射频源起辉，以小于６０Ｗ的功率对靶材预溅射４－５分钟，然后升高射频功率至１５０－２００Ｗ，打开样...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王顺利，李培刚，唐为华，朱晖文，刘洋溢，
申请(专利权)人：浙江理工大学，
类型：发明
国别省市：86