【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光刻装置和一种器件制造方法。
技术介绍
光刻装置是可在衬底、通常是衬底的目标部分上施加所需图案的机器。光刻装置 例如可用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可采用图案形成装置来产生将形成于 IC的单个层上的电路图案，该图案形成装置也称为掩模或分划板。该图案可被转移到衬底 (如硅晶片)上的目标部分(例如包括一个或多个管芯)上。图案的转移通常借助于成像 到设于衬底上的一层辐射敏感材料(抗蚀剂)上来实现。通常来说，单个衬底包含被连续 地形成图案的相邻目标部分的网络。已知的光刻装置包括所谓的步进器，其中通过将整个 图案一次性地曝光在目标部分上来照射各目标部分，还包括所谓的扫描器，其中通过沿给 定方向(“扫描”方向)由辐射光束来扫描图案并以平行于或反向平行于此方向的方向同 步地扫描衬底来照射各目标部分。还可以通过将图案压印在衬底上来将图案从图案形成装 置转移到衬底上。已经提出了可将光刻投影装置中的衬底浸入到具有相对较高折射率的液体如水 中，以便填充投影系统的最后元件与衬底之间的空间。其目的是用于成像较小的特征，这是 因为曝光辐射在液体中将具有更短...
【技术保护点】
１．一种光刻投影装置，所述光刻投影装置设置成通过液体将图案从图案形成装置投射到衬底上，所述光刻投影装置包括：构造成将气体提供到待干燥的表面上的气刀；和抽取器，所述抽取器与所述气刀相邻设置，用于去除气体、液体或者这两者；其中所述气刀的出口和所述抽取器的入口形成在大致为平的表面上，所述抽取器的入口和所述出口之间的距离是所述大致为平的表面在所述气刀的相对于抽取器的另一侧延伸至另一抽取器或在所述另一侧的所述平的表面的末端中的更近的一个的距离的０．５倍至０．８倍。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：N·R·坎帕，S·N·L·唐德斯，C·A·胡根达姆，N·坦凯特，S·舒勒波夫，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL
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