Method and in situ Raman characterization of preparation system of the invention discloses a graphene intercalation compound, preparation method comprises ferric chloride tablets and graphene were placed in mutually connected and communicated with the glass tube and the cuvette with molecular pump the glass tube and cuvette evacuating after alcohol lamp sealed and heated to 340 degrees Celsius and 6 to 24 hours, cooling to room temperature. Including in situ Raman characterization system: containing graphene and ferric chloride with sealed glass tube and a cuvette; a laser Raman spectrometer;; a heating station; a lifting platform; a translation stage; two mirror. The preparation methods of graphene / provided FeCl3 intercalation compound is simple and practical, in situ Raman characterization of micro Raman spectroscopy system can be used for in situ characterization of graphene / FeCl3 intercalation compounds, and in situ monitoring of graphene / FeCl3 intercalation compound formation.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及材料制备和光谱分析
，尤其涉及一种石墨烯片插层化合物的制备方法及原位显微拉曼表征系统。
技术介绍
石墨插层化合物是在石墨的石墨烯层间插入原子或分子层的一种化合物。由于其在结构、电学和光学性质方面具有独特的特征，石墨插层化合物自1841年被发现以来就被广泛地研究。它们被广泛地应用于电极、导体、超导体、催化剂、电池等领域。最近石墨烯的发现和物理研究获得了诺贝尔物理学奖，因此，能否将石墨烯片插入其它原子或分子层而形成石墨烯片插层化合物，就是一个十分重要的问题。如果能制备， 有什么简便的方法？以前石墨插层化合物的尺寸和体积都非常大，因此表征石墨插层化合物就十分方便，无论是X射线还是拉曼光谱等技术。但是，由于石墨烯片往往非常薄和非常小，X射线已经很难应用到石墨烯片插层化合物中。对于拉曼光谱而言，表征石墨烯也不是易事，这涉及到如何定位微小的石墨烯片。这时，利用显微拉曼光谱来表征石墨烯片插层化合物就非常必要。石墨烯片插层化合物的形成跟温度有很明显的关系。一般合成石墨插层化合物时，需要通过控制石墨烯和三氯化铁之间的温度差来实现不同的插层阶次，这样制备石墨插层...
【技术保护点】
１．一种石墨烯片插层化合物的制备方法，其特征在于，该方法包括：将石墨烯片放置在与玻璃管相连且相通的比色皿内；将三氯化铁放置在玻璃管内；利用分子泵将玻璃管和比色皿抽成真空，真空度优于１０－３托；将玻璃管用酒精灯加热密封；以及将玻璃管和比色皿加热到３４０摄氏度并保持６至２４小时；然后降温到常温。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：谭平恒，赵伟杰，韩文鹏，历巧巧，姬扬，
申请(专利权)人：中国科学院半导体研究所，
类型：发明
国别省市：11
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