一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法技术

本发明专利技术涉及一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的设计和合成，它是以氯硅烷或氯硅氧烷、羟烷基乙烯基醚和羟烷基烯丙基醚为原料，制备端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅单体，该反应合成方法简单、反应条件温和，易于提纯，产率较高，均在80％以上。合成的单体为混合聚合型光固化单体，是可用于成像信息记录材料的新型光聚合型材料。本发明专利技术有效解决了现有含硅光聚合型单体制备工艺复杂、产率较低、成本较高、环境污染等问题，为光固化材料和光成像信息记录材料开发了一种新的单体。

Synthesis method of silicon containing polymerization monomer with end group containing vinyl ether and allyl ether

The invention relates to a group of silicon containing vinyl ether and allyl ether polymerization design and synthesis of monomer, it is with chlorine or chlorine silane siloxane, hydroxyalkyl vinyl ether and allyl hydroxyalkyl ether as raw material, preparation containing silicon containing monomer vinyl ether and allyl ether the synthetic method, simple reaction, mild reaction condition, easy purification, high yield, were more than 80%. The synthesized monomer is a mixed polymerization type photocurable monomer, and is a novel photopolymerization material which can be used for imaging information recording material. The invention solves the existing silicon containing a photopolymerizable monomer preparation process complex, low yield, high cost, environmental pollution and other issues, as the light curing material and optical imaging information recording material of a single new development.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于成像信息记录用光功能材料的制备
，特别涉及一种端基为乙 烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法。
技术介绍
所谓光自由基-阳离子混合固化体系是指在同一体系内同时发生自由基和阳离 子两种活性种，从而同时发生自由基光聚合反应和阳离子光聚合反应的体系(陈其道，陈 明，洪啸吟.混杂聚合.化学通报.2000，(6) :1-5;陈明，陈其道，肖善强，洪啸吟.混 杂光固化体系的原理及应用.感光科学与光化学.2001，19 (3) :208-216.)。自由基光 聚合有一些严重的缺点首先，自由基光聚合氧阻聚严重，易造成表面固化不良，常要在惰 性气氛下固化，操作不方便；其次，自由基光聚合通常会伴随着较大的体积收缩。阳离子光 聚合体系与自由基光固化体系相比有以下优点不受氧抑制、聚合室体积收缩小，形成的聚 合物附着力更强；活性中心寿命长，固化反应不易终止；更重要的是其引发机理不涉及自 由基和激发三线态，因而不被氧气阻聚，在空气氛围中可获得快速而完全的聚合。但是阳 离子聚合体系也有其自身的缺点，受湿气影响大，聚合速度慢，性能不易调节等。使用光阳 离子-自由基混合光固化体系则可以取长补短，充分发挥自由基和阳离子光固化体系的特 点，从而拓宽光固化体系的适用范围。在单体中引入硅链，增加了固化成膜的机械性能和耐磨性，该性质对单体用于纳 米压印事业和阴图型光刻胶的发展具有推动型的作用。
技术实现思路
本专利技术提出。本专利技术合成的端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体，其结构如下式所示权利要求1.-种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体，其结构如下式所示2.根据权利要求1所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方 法，其具体制备步骤为1)无水无氧条件下，将氯硅烷或氯硅氧烷与催化剂混合搅拌，并用溶剂稀释，然后降 温到0°C ；滴加用溶剂稀释的羟烷基乙烯基醚和羟烷基烯丙基醚的混合溶液，或者滴加用 溶剂稀释的羟烷基乙烯基醚和烯丙醇的混合溶液；滴加完毕后，升温至20-30°C继续搅拌 1. 5-llh ；2)将步骤1)的产物过滤，将滤液除去溶剂，得到粗产物；粗产物用有机溶剂萃取，过滤 掉固体杂质，减压蒸馏除去有机溶剂，得到端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体。3.根据权利要求2所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方 法，其特征在于，步骤1)中所述的氯硅烷或氯硅氧烷，其结构式如下4.根据权利要求3所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方 法，其特征在于，步骤1)中所述的羟烷基乙烯基醚的结构式如下5.根据权利要求4所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方 法，其特征在于，步骤1)中所述的催化剂为有机碱，具体为二甲胺、二乙胺、三乙胺、三丁 胺、二异丙基甲胺、乙基二异丙胺、吡啶、2-甲基吡啶、3-甲基吡啶或吡咯；用量为氯硅烷或 氯硅氧烷质量的2-2. 5倍。6.根据权利要求5所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方 法，其特征在于，步骤1)中氯硅烷或氯硅氧烷与羟烷基乙烯基醚、羟烷基烯丙基醚或烯丙 醇的物质的量的比例为1 1-1 10，优选1 1-1 4。7.根据权利要求6所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方 法，其特征在于，步骤1)中的溶剂为丙酮、丁酮、甲苯、四氢呋喃、环己烷、1，4_ 二氧六环、二 氯甲烷或乙腈，用量为溶质体积的10-15倍。8.根据权利要求7所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方 法，其特征在于，步骤1)中搅拌时间视氯硅烷或氯硅氧烷的硅原子数而定，其具体时长为 1. 5+0. 5 (m+n-1)小时。9.根据权利要求8所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方 法，其特征在于，步骤幻中萃取用的有机溶剂为乙二醇单乙烯基醚、乙醇、正己烷、环己烷 或四氯化碳。10.根据权利要求2-9任一所述的合成方法得到的端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅 聚合单体，其特征在于，其具体结构如下单体A-I至A-24 全文摘要本专利技术涉及一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的设计和合成，它是以氯硅烷或氯硅氧烷、羟烷基乙烯基醚和羟烷基烯丙基醚为原料，制备端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅单体，该反应合成方法简单、反应条件温和，易于提纯，产率较高，均在80％以上。合成的单体为混合聚合型光固化单体，是可用于成像信息记录材料的新型光聚合型材料。本专利技术有效解决了现有含硅光聚合型单体制备工艺复杂、产率较低、成本较高、环境污染等问题，为光固化材料和光成像信息记录材料开发了一种新的单体。文档编号G03F7/027GK102140116SQ201110053569公开日2011年8月3日 申请日期2011年3月7日 优先权日2011年3月7日专利技术者方圆, 邹应全 申请人:北京师范大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体，其结构如下式所示：式中Ｒ１为乙烯基醚烷氧基，结构式为其中Ｒ７为Ｈ、碳原子数为１－４的烷基或苯基，ａ为１－１０的整数；Ｒ２为烯丙基醚烷氧基，结构式为其中Ｒ８为Ｈ、碳原子数为１－４的烷基或苯基，ｂ为１－１０的整数；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６为Ｈ、ＣＨ３、苯基或对甲基苯基；ｎ为０－１０的整数；ｍ为１－１０的整数。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：邹应全，方圆，
申请(专利权)人：北京师范大学，
类型：发明
国别省市：11