彩色滤光片构造及其制造方法技术

本发明专利技术公开一种彩色滤光片构造及其制造方法，一种彩色滤光片构造包含一玻璃基板、一黑色矩阵层、一彩色画素层、多个间隙子、一透明导电层及一透明平坦化光阻层。本发明专利技术通过在制作所述彩色画素层的同时能以相同色阻材料来形成所述多个间隙子，因此本发明专利技术的所述彩色滤光片构造相对较为简单及成本较低，从而可以节省制造成本。另外，所述透明平坦化光阻层可防止在组装时，所述透明导电层发生短路。

Color filter structure and manufacturing method thereof

The invention discloses a color filter structure and manufacturing method thereof, a color filter structure comprises a glass substrate, a black matrix layer, a color layer, a plurality of pixel spacers, a transparent conductive layer and a transparent flat photoresist layer. The present invention through in the same color resistance material to form a plurality of spacers in the production of the color pixel layer, so the color filter structure of the invention is relatively simple and low cost, which can save the manufacturing cost. In addition, the transparent planarization photoresist layer prevents short circuit of the transparent conducting layer when assembled.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶面板
，特别是涉及一种。
技术介绍
液晶显示器(Liquid Crystal Display, LCD)是利用液晶材料的特性来显示图像 的一种平板显示装置(Flat Panel Display, FPD)，其相较于其他显示装置而言更具轻薄、 低驱动电压及低功耗等优点，已经成为整个消费市场上的主流产品。现今液晶显示器的制作过程中，大致可分为前段矩阵(Array)工艺、中段成盒 (Cell)工艺及后段模块化(Module)工艺。前段的矩阵工艺为生产薄膜式晶体管(TFT)基 板及彩色滤光片(Color Film)基板。中段成盒工艺则负责将TFT基板与CF板组合，并两 者之间注入液晶与切割合乎产品尺寸之面板。后段模块化工艺则负责将组合后的面板与背 光模块、面板驱动电路、外框等做组装的工艺。液晶显示器所以能呈现彩色的影像，主要就是靠着彩色滤光片所产生的功能当 液晶显示器的背光源透过液晶及驱动IC的控制形成灰阶光源，彩色滤光片上因涂布着红、 绿、蓝三色颜料光阻，此光源再通过彩色滤光片即形成红、绿、蓝色光，最后混合形成彩色影 像。因此，彩色滤光片是液晶显示器的关键组件，而彩色滤光片的基本结构是由玻璃基板 (Glass Substrate)、黑色矩阵层(Black Matrix)、彩色画素层(Color Layer)及透明导电 层(ΙΤ0，indium tin oxide铟锡氧化物)等所组成。请参照图IA至图IG所示，图IA至图IG揭示一种现有的彩色滤光片的制造方法 的流程示意图。首先，如图IA所示，准备一玻璃基板11，形成一黑色矩阵层12于所述玻璃基板11 上，所述黑色矩阵层12具有多个空隙。接着，如图IB所示，形成第一色阻单元13a于所述玻璃基板11上的所述黑色矩阵 层12的对应空隙内。接着，如图IC所示，形成第二色阻单元1 于所述玻璃基板11上的所述黑色矩阵 层12的对应空隙内。接着，如图ID所示，形成第三色阻单元13c于所述玻璃基板11上的所述黑色矩阵 层12的对应空隙内。其中，所述各色阻单元13a，13b，13c具有相同水平高度，并分别位于所述黑色矩 阵层12的对应空隙内。一个所述第一色阻单元13a、一个所述第二色阻单元1 及一个所 述第三色阻单元13c形成一组画素(pixel)单元130，而所有的画素单元130共同组成一彩 色画素层13。接着，如图IE所示，形成一透明导电层14覆盖于所述黑色矩阵层12及所述彩色 画素层13。接着，如图IF所示，形成一光阻层15于所述透明导电层14上。最后，如图IG所示，以一光掩膜(mask)(未绘示)对所述光阻层15进行曝光显影以定义形成若干间隙子15a。通过上述步骤可完成一现有的彩色滤光片构造10。如图IG所示，所述现有彩色 滤光片构造10包含一玻璃基板11、一黑色矩阵层12、一彩色画素层13、一透明导电层14 及多个间隙子15a。所述玻璃基板11作为基底的材料，所述黑色矩阵层12设于所述玻璃 基板11上，所述黑色矩阵层12具有多个空隙(未标示)；所述彩色画素层13包含数个第 一色阻单元13a、数个第二色阻单元1 及数个第三色阻单元13c，所述第一、第二及第三色 阻单元13a，13b，13c分别位于所述黑色矩阵层12的对应空隙内。所述色阻单元13a，13b， 13c的材料优选是红色(I )光阻、绿色(G)光阻及蓝色(B)光阻。再者，所述透明导电层14覆盖于所述黑色矩阵层12及所述彩色画素层13上；所 述多个间隙子1 设于所述透明导电层14上，所述多个间隙子1 具有一高度大于所述色 阻单元13a，13b，13c的高度，在进一步将所述彩色滤光片构造10与另一薄膜式晶体管TFT 基板组装时，所述多个间隙子1 用以保持两个基板的间隔距离，以均勻填充液晶。然而，在现有的彩色滤光片构造10的制造方法中，因为最后要通过曝光显影的方 式来制作间隙子15a，必需执行形成光阻层15、制作掩膜及曝光显影的步骤。因此，其制造 过程较为复杂及所需制造成本较高，从而提高所述彩色滤光片构造10的制造成本。故，有必要提供一种，以解决现有技术所存在的问 题。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种彩色滤光片的制造方法，能够减少一道形成光阻层 以及将所述光阻层局部曝光以制造间隙子的步骤。为达上述目的，本专利技术提供一种彩色滤光片构造，所述彩色滤光片构造包含一玻璃基板；一黑色矩阵层，设于所述玻璃基板上，具有多个空隙；一彩色画素层，设于所述玻璃基板上，包含数个第一色阻单元、数个第二色阻单元 及数个第三色阻单元，所述第一、第二及第三色阻单元分别位于所述黑色矩阵层的对应空 隙内；多个间隙子，设于所述黑色矩阵层上，每一所述间隙子是由所述第一、第二及第三 色阻单元中至少一相同的色阻材料所形成，其中所述间隙子的高度大于所述第一、第二及 第三色阻单元各自的高度；及一透明导电层，覆盖所述黑色矩阵层、所述彩色画素层及所述多个间隙子。在本专利技术的一实施例中，所述彩色滤光片构造另包含一透明平坦化光阻层，覆盖 于所述透明导电层上。在本专利技术的一实施例中，所述间隙子包含第一、第二及第三间隔部，所述第一、第 二及第三间隔部分别由所述第一、第二及第三色阻单元相同的色阻材料所形成。在本专利技术的一实施例中，所述第一、第二及第三间隔部依次从下到上堆叠，所述第 一间隔部的面积大于所述第二间隔部的面积，所述第二间隔部的面积大于所述第三间隔部 的面积。为达上述另一目的，本专利技术提供一种彩色滤光片构造的制造方法，其包含以下步骤准备一玻璃基板，形成一黑色矩阵层于所述玻璃基板上，所述黑色矩阵层具有多 个空隙；形成数个第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元位于所述黑色矩阵层的对 应空隙内；所述第一、第二及第三色阻单元共同构成一彩色画素层；在与形成所述第一、第二及第三色阻单元的至少一种色阻单元的同一道工序中， 以与该至少一种色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层上形成多个间隙子；以及形成一透明导电层覆盖于所述黑色矩阵层、所述彩色画素层及所述间隙子。在本专利技术的一实施例中，在形成所述透明导电层的步骤后，另包含形成一透明平 坦化光阻层覆盖于所述透明导电层上。在本专利技术的一实施例中，所述在与形成所述第一、第二及第三色阻单元的至少一 种色阻单元的同一道工序中，以与该至少一种色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层 上形成多个间隙子的步骤包括在与形成所述第一色阻单元的同一道工序中，以与第一色阻单元相同的色阻材料 在所述黑色矩阵层上形成第一间隔部；在与形成所述第二色阻单元的同一道工序中，以与第二色阻单元相同的色阻材料 在所述第一间隔部上形成第二间隔部；以及在与形成所述第三色阻单元的同一道工序中，以与第三色阻单元相同的色阻材料 在所述第二间隔部上形成第三间隔部，由堆叠的所述第一间隔部、第二间隔部和第三间隔 部组成所述间隙子。在本专利技术的一实施例中，所述形成数个第一色阻单元位于所述黑色矩阵层的对应 空隙内，以及在与形成所述第一色阻单元的同一道工序中，以与第一色阻单元相同的色阻 材料在所述黑色矩阵层上形成第一间隔部的步骤包括形成一第一色阻层于所述玻璃基板 及黑色矩阵层上，对所述第一色阻层进行曝光显影制程以同时形成第一色阻单元于所述黑 色矩阵层的对应空隙内，以及本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种彩色滤光片构造，其特征在于：所述彩色滤光片构造包含：一玻璃基板；一黑色矩阵层，设于所述玻璃基板上，具有多个空隙；一彩色画素层，设于所述玻璃基板上，包含数个第一色阻单元、数个第二色阻单元及数个第三色阻单元，所述第一、第二及第三色阻单元分别位于所述黑色矩阵层的对应空隙内；多个间隙子，设于所述黑色矩阵层上，每一所述间隙子是由所述第一、第二及第三色阻单元中至少一相同的色阻材料所形成，其中所述间隙子的高度大于所述第一、第二及第三色阻单元各自的高度；及一透明导电层，覆盖所述黑色矩阵层、所述彩色画素层及所述多个间隙子。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：伍浚铭，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：94