【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及嘧啶衍生物，涉及它们的生产方法、它们用作药物的用途，以及涉及包含它们的药物组合物。更具体地，本专利技术在第一方面提供了游离形式或盐形式的式I化合物， 其中，X为＝CR0-或＝N-；R0，R1，R2，R3和R4中的每一个独立地是氢；羟基；C1-C8烷基；C2-C8链烯基；C3-C8环烷基；C3-C8环烷基-C1-C8烷基；羟基C1-C8烷基；C1-C8烷氧基C1-C8烷基；羟基C1-C8烷氧基C1-C8烷基；任选地在环上可以被羟基、C1-C8烷氧基、羧基或C1-C8烷氧基羰基取代的芳基C1-C8烷基；或R3和R4及与它们连接的氮和碳原子一起形成5到10元杂环，并额外地包含1、2或3个选自N、O和S的杂原子；或R1、R2和R3中的每一个独立地是卤素、卤代-C1-C8烷基；C1-C8烷氧基、卤代-C1-C8烷氧基、羟基C1-C8烷氧基；C1-C8烷氧基C1-C8烷氧基；芳基；芳基C1-C8烷氧基；杂芳基；杂芳基-C1-C4烷基；5到10元杂环；硝基；羧基；C2-C8烷氧基羰基；C2-C8烷基羰基；-N(C1-C8烷基)C(O)C1-C8烷基；-N(R10)R...
【技术保护点】
游离形式或盐形式的下式Ⅰ化合物： ＊＊＊ （Ⅰ） 其中，Ｘ为＝ＣＲ↑［０］－或＝Ｎ－； Ｒ↑［０］，Ｒ↑［１］，Ｒ↑［２］，Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］中的每一个独立地是氢；羟基；Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基；Ｃ↓［２］－Ｃ↓［８］链烯基；Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］环烷基；Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］环烷基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基；羟基Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基；Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷氧基Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基；羟基Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷氧基Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基；任选地在环上可以被羟基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷氧基、羧基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷氧基羰基...
【技术特征摘要】
GB 2002-3-15 0206215.61.游离形式或盐形式的下式I化合物 其中，X为＝CR0-或＝N-；R0，R1，R2，R3和R4中的每一个独立地是氢；羟基；C1-C8烷基；C2-C8链烯基；C3-C8环烷基；C3-C8环烷基-C1-C8烷基；羟基C1-C8烷基；C1-C8烷氧基C1-C8烷基；羟基C1-C8烷氧基C1-C8烷基；任选地在环上可以被羟基、C1-C8烷氧基、羧基或C1-C8烷氧基羰基取代的芳基C1-C8烷基；或R3和R4及与它们连接的氮和碳原子一起形成5到10元杂环，并额外地包含1、2或3个选自N、O和S的杂原子；或R1、R2和R3中的每一个独立地是卤素、卤代-C1-C8烷基；C1-C8烷氧基、卤代-C1-C8烷氧基、羟基C1-C8烷氧基；C1-C8烷氧基C1-C8烷氧基；芳基；芳基C1-C8烷氧基；杂芳基；杂芳基-C1-C4烷基；5到10元杂环；硝基；羧基；C2-C8烷氧基羰基；C2-C8烷基羰基；-N(C1-C8烷基)C(O)C1-C8烷基；-N(R10)R11；-CON(R10)R11；-SO2N(R10)R11；或-C1-C4-亚烷基-SO2N(R10)R11；其中R10和R11中的每一个独立地是氢；羟基；C1-C8烷基；C2-C8链烯基；C3-C8环烷基；C3-C8环烷基-C1-C8烷基；C1-C8烷氧基C1-C8烷基；羟基C1-C8烷氧基C1-C8烷基；羟基C1-C8烷基；(C1-C8烷基)-羰基；任选地可以在环上被羟基、C1-C8烷氧基、羧基或C2-C8烷氧基羰基取代的芳基C1-C8烷基；或5到10元杂环；或R1和R2和与它们连接的C-原子一起形成芳基或包含一个或两个选自N、O和S的杂原子的5到10元杂芳基；或R5和R6中的每一个独立地是氢；卤素；氰基；C1-C8烷基；卤代-C1-C8烷基；C2-C8链烯基；C2-C8炔基；C3-C8环烷基；C3-C8环烷基C1-C8烷基；C5-C10芳基C1-C8烷基；R7、R8和R9中的每一个独立地是氢；羟基；C1-C8烷基；C2-C8链烯基；卤代-C1-C8烷基；C1-C8烷氧基；C3-C8环烷基；C3-C8环烷基C1-C8...
【专利技术属性】
技术研发人员：R巴特里，G森克，NG库克，R杜塔勒，G托马，A冯马特，本田敏幸，松浦直子，野野村和彦，大森治，梅村一郎，K欣特尔丁，C帕帕耶奥尔尤，
申请(专利权)人：诺瓦提斯公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]
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