新应用制造技术

技术编号:578512 阅读:174 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供式(Ⅰ)化合物或其金属衍生物在制备用于杀灭或减缓微生物生长的药物中的应用,杀灭或减缓微生物生长的方法不包括让该化合物暴露于光动力学治疗光源中或声动力学治疗超声波源中,其中式(Ⅰ)的X↓[1]、X↓[2]、X↓[3]、X↓[4]、Y↓[1]、Y↓[2]、Y↓[3]、Y↓[4]和Z具有说明书中所给含义。优选该等微生物选自细菌、支原体、酵母、真菌和病毒。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及卟啉化合物的新应用,具体而言,涉及此化合物在治疗或预防性治疗微生物定居和感染中的应用。
技术介绍
越来越多的微生物产生抗生素抗性,这已被认为是世界性的健康问题(Tunger等,2000,Int.J.Microb.Agents 15131-135;Jorgensen等,2000,Clin.Infect.Dis.30799-808)。因此,迫切需要开发新的杀灭微生物的方法。通过光动力学疗法(PDT)来治疗微生物感染,这代表了一种新近用于根除细菌的有价值的方法,因为其涉及的机理明显不同于大部分抗生素的典型机理。因此,PDT基于光敏分子的应用,光敏分子一旦通过光激活,则产生对包括细菌、支原体和酵母在内的大部分原核和真核细胞有毒的活性氧物质(Malik等,1990,J.Photochem.Photobiol.B Biol.5281-293;Bertoloni等,1992,Microbios 7133-46)。重要的是很多针对细菌的光能剂的光敏活性并不会因抗生素抗性而受到削弱,而是主要取决于其化学结构(Malik等,1992,J.Photochem.Photobiol.B Bio本文档来自技高网...

【技术保护点】
下面式Ⅰ化合物在制备用下述方法杀灭或减缓微生物生长的药物中的应用,所述方法不包括让所述化合物暴露于光动力学治疗光源中或声动力学治疗超声源中,    ***  Ⅰ    其中:    X↓[1]、X↓[2]、X↓[3]和X↓[4]独自代表氢原子、亲脂部分、苯基、低级烷基、烷芳基或芳烷基或下式阳离子基团;    -L-R↓[1]-N↑[+](R↓[2])(R↓[3])R↓[4]    其中:    L为连接部分或不存在;    R↓[1]代表低级亚烷基、低级亚烯基或低级亚炔基,其任选由选自低级烷基、低级亚烷基(任选由氧中断)、氟、OR↓[5]、C(O)R↓[6]、C(O)OR↓[7]、C(O)NR...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:WG洛夫W赖斯威廉斯D布伦迪什
申请(专利权)人:命运之神药品有限公司
类型:发明
国别省市:GB[英国]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利