分析反应中光损伤的缓解制造技术

本发明专利技术涉及用于减少和／或消除照射分析反应中对一种或多种反应物的光损伤的组合物、装置、系统和方法，所述方法通过将一种或多种光损伤缓解剂结合到反应混合物中和／或在比光损伤阈值时间段短的时间段询问反应混合物的不同观察区。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种组合物，包括：　第一反应物；　第二反应物；和　光损伤缓解剂；　其中第一反应物在激发辐射条件下与第二反应物的相互作用在光损伤缓解剂不存在时，引起对第一反应物的光损伤。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：J埃德，D默菲，G奥托，S特纳，
申请(专利权)人：加利福尼亚太平洋生物科学公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]