反射型光调制装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及反射型光调制装置。反射型液晶装置（反射型光调制装置）（１）具备：包含透过光（Ｌ）的导电性材料的透明导电膜（２２）；沿着透明导电膜（２２）二维排列的金属制的多个像素电极（１６）；配置于多个像素电极（１６）和透明导电膜（２２）之间并对应于由各像素电极（１６）以及透明导电膜（２２）形成的电场而将光（Ｌ）进行调制的液晶层（２０）；以及形成于多个像素电极（１６）上的电介质多层膜（１８）。电介质多层膜（１８）包含与像素电极（１６）接触的第１层和折射率高于第１层且与第１层接触的第２层。由此，实现了具备能够抑制向光调制层的电场施加效率的降低并能够实现高反射率的电介质多层膜的反射型光调制装置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及反射型光调制装置。
技术介绍
作为反射型光调制装置，公知有反射型液晶(LCoS(注册商标)=Liquid crystal on silicon)装置。反射型液晶装置具备二维排列的多个像素电极；导电性光透过层；以 及配置于多个像素电极和导电性光透过层之间的液晶层(光调制层)，经由导电性光透过 层将入射的光反射并在任意的像素电极和导电性光透过层之间形成电场而使液晶层产生 调制作用，从而得到所期望的光像。而且，为了提高光的反射率而得到更高亮度的光像，在 液晶层和多个像素电极之间设置有电介质多层膜。例如非专利文献1，2中，公开了具备反射型液晶构造的液晶光阀(LCLV =Liquid Crystal Light Valve) 0非专利文献1中所记载的电介质多层膜由具有λ/4( λ :入射光 的波长)的光学膜厚的多个Si层以及SiO2层交替地层叠而成。另外，非专利文献2中所 记载的电介质多层膜由具有λ /4的光学膜厚的多个TiO2层以及S^2层交替地层叠而成。非专禾Ij 文献 1 :U. Efron et al. ,"Silicon liquid crystal light v本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反射型光调制装置，其特征在于，　　其为将从前方入射的光反射并在二维排列的多个像素的每一个中将所述光进行调制从而向前方输出光像的反射型光调制装置，　　具备：　　导电性光透过层，包含透过所述光的导电性材料；　　金属制的多个像素电极，沿着所述导电性光透过层二维排列；　　光调制层，配置于所述多个像素电极和所述导电性光透过层之间，对应于由各像素电极以及导电性光透过层形成的电场而将所述光进行调制；以及　　电介质多层膜，形成于所述多个像素电极上，　　所述电介质多层膜包含：　　与所述像素电极接触的第１层；以及　　折射率高于所述第１层且与所述第１层接触的第２层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：大林宁，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]