【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种利用微通道和沸腾现象的、用于冷却半导体的热交换 器和一种制造这种热交换器的方法。
技术介绍
已经开发展出用于传递由半导体产生的大量热量的技术,所述技术包 括将具有高热导率的材料粘附到半导体的外部部分,并形成直径为数百微 米或小于数百微米的微通道,从而执行液体冷却。近来,正在研究使用在接近沸点的温度下在通道中流动的冷却剂,从 而利用冷却剂的蒸发热量并因此获得更高热传递效果的技术。虽然还没有说明通过沸腾提高热传递性能的详细机构,但是例如在蒸 汽产生器中,随着蒸汽干燥度的增加,传热系数变得越低却是公知常识。假设这是因为用作热传递表面的通道的内壁与气相冷却剂之间的接 触面沿着流动方向变得更大。通常,气相的热传递性能比液相的热传递性 能低,由此自然地,不能预期通过从液相到气相的相移提高热传递性能。尽可能快地使产生的气泡从热量产生表面分离并从通道内除去所述 气泡的可行方法包括增加冷却剂的流动速度从而强制清除气泡;对通道的内壁进行表面处理以抑制气泡的产生;和连接通道以使其相交,从而最 小化通道中的压差(例如,参考专利文献l)。然而,这些恰恰是导致损害微 通道 ...
【技术保护点】
一种用于冷却半导体芯片的热交换器,包括: 第一层,所述第一层包括多个微通道,冷却剂流动通过所述多个微通道; 第二层,所述第二层被设置成与所述第一层相邻且包括供应通路,所述冷却剂通过所述供应通路被供应给所述微通道;和 阻挡单 元,所述阻挡单元阻挡所述冷却剂从所述供应通路流入到所述微通道中, 其中,所述第一层与所述第二层之间的分隔部基本上由弹性材料构成。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:坂本仁,三洼和幸,北城荣,
申请(专利权)人:日本电气株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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