取代的4-咪唑类化合物制造技术

本发明专利技术涉及式（Ⅰ）化合物和药学上可接受的酸加成盐，其中Ｒ↑［１］是氢或低级烷基；Ｒ↑［２］是氢或低级烷基；Ｒ↑［３］是氢、低级烷基、低级烷氧基、苯基氧基、苄基氧基、卤素或被卤素取代的低级烷基；Ｒ↑［４］是氢或低级烷基；Ｘ是－ＣＨ↓［２］－、－ＣＨ－或－Ｏ－；Ｙ是－ＣＨ↓［２］－、－ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］－、－ＣＨ－或键；当Ｘ是－Ｏ－时，则Ｙ是－ＣＨ↓［２］－；Ｚ是－ＣＨ↓［２］－或－ＣＨ－；ｍ是１或２；当ｍ是２时，Ｒ↑［２］可以是相同或不同的；ｎ是１或２；当ｎ是２时，Ｒ↑［３］可以是相同或不同的。已经发现式Ⅰ化合物对痕量胺相关受体（ＴＡＡＲ）、尤其对ＴＡＡＲ１具有很好的亲和力。所述化合物可以用于治疗抑郁、焦虑症、双相情感障碍、注意力缺陷多动症（ＡＤＨＤ）、应激相关障碍、精神病例如精神分裂症、神经性疾病例如帕金森氏病、神经退行性疾病例如阿尔茨海默病、癫痫、偏头痛、高血压、物质滥用和代谢性疾病例如进食障碍、糖尿病、糖尿病并发症、肥胖、血脂异常、能量消耗和同化障碍、体温稳态的紊乱和机能障碍、睡眠和昼夜节律障碍以及心血管疾病。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】专利说明取代的4-咪唑类化合物 本专利技术涉及式I化合物和药学上可接受的酸加成盐， 其中 R1 是氢或低级烷基； R2 是氢或低级烷基； R3 是氢、低级烷基、低级烷氧基、苯基氧基、苄基氧基、卤素或被卤素取代的低级烷基； R4 是氢或低级烷基； X 是-CH2-、-CH-或-O-； Y 是-CH2-、-CH2CH2-、-CH-或键；当X是-O-时，则Y是-CH2-； Z 是-CH2-或-CH-； m 是1或2；当m是2时，R2可以是相同或不同的； n 是1或2；当n是2时，R3可以是相同或不同的。 本专利技术包括所有外消旋混合物、它们的所有相应对映体和/或光学异构体。 另外，式I化合物的所有互变异构形式也包括在本专利技术中。 已经发现式I化合物对痕量胺相关受体(TAAR)、尤其对TAAR1具有很好的亲和力。 所述化合物可以用于治疗抑郁、焦虑症、双相情感障碍、注意力缺陷多动症(ADHD)、应激相关障碍、精神病例如精神分裂症、神经性疾病例如帕金森氏病、神经退行性疾病例如阿尔茨海默病、癫痫、偏头痛、高血压、物质滥用和代谢性疾病例如进本文档来自技高网...

【技术保护点】
式Ⅰ化合物和药学上可接受的酸加成盐，　＊＊＊　Ⅰ　其中　Ｒ↑［１］是氢或低级烷基；　Ｒ↑［２］是氢或低级烷基；　Ｒ↑［３］是氢、低级烷基、低级烷氧基、苯基氧基、苄基氧基、卤素或被卤素取代的低级烷基；　Ｒ ↑［４］是氢或低级烷基；　Ｘ是－ＣＨ↓［２］－、－ＣＨ－或－Ｏ－；　Ｙ是－ＣＨ↓［２］－、－ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］－、－ＣＨ－或键；当Ｘ是－Ｏ－时，则Ｙ是－ＣＨ↓［２］－；　Ｚ是－ＣＨ↓［２］－或－ＣＨ－；　ｍ是１ 或２；当ｍ是２时，Ｒ↑［２］可以是相同或不同的；　ｎ是１或...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：G盖雷，K格勒布克斯宾登，R诺克罗斯，H思塔德尔，
申请(专利权)人：弗哈夫曼拉罗切有限公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]