【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种在光学显微镜(以下简称光镜)和扫描电子显微镜 (以下简称扫描电镜)下测试低维材料在应力状态下光学、电学性质的拉伸 装置。本技术利用压电陶瓷精确的变形量实现低维材料拉伸或压縮变形 的同时利用所配备的双悬臂梁(硬悬臂梁和软悬臂梁)实时的监测施加在材 料上的应力信号。另外,可以利用该装置进行低维材料在应力状态下拉曼光 谱、光致发光光谱等光学性质的研究,属于低维材料应力状态下综合性能测 试领域。
技术介绍
近年来,随着科学技术的不断发展,低维材料(像纳米线、纳米带、纳 米薄膜、纳米棒等)越来越受到人们的关注,但是由于尺寸的限制,使得不 能向操作宏观材料一样操作低维纳米材料,因此,对于低维材料在应力状态 下性质的变化的研究相对落后,然而,作为将来纳米器件的基本元件的地位 材料在应力作用下的服役情况及可靠度却极大的影响着材料的性能,发展测 试低维材料在应力状态下的性质的方法就显得尤为重要。目前,用来测试低维纳米材料在应力作用下的性能的方法大致有以下几种。一、 利用扫描探针显微镜(SPM,包括AFM、 STM等)实现低维纳米材 料应力作用下性质的研究,2007年 ...
【技术保护点】
低维材料应力状态下性能测试装置,其特征在于:包括底座和一端固定在底座上、另一端为自由端的压电陶瓷,在底座固定压电陶瓷的一侧安装了一个三轴位移调节装置,该三轴位移调节装置的自由端位于压电陶瓷的上方并在三轴位移调节装置上固定着支撑台,软悬臂梁固定在支撑台上;压电陶瓷的自由端上固定着支持座,支持座一侧固定在压电陶瓷上,另一侧位于压电陶瓷的上方,并与三轴位移调节装置自由端相对平行放置,支持座上固定着另一支撑台,硬悬臂梁固定在另一支撑台上;压电陶瓷通过外接引线连接到外加驱动电源上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:韩晓东,岳永海,张跃飞,张泽,
申请(专利权)人:北京工业大学,
类型:实用新型
国别省市:11[中国|北京]
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