玻璃抛光组合物及方法技术

本发明专利技术提供适用于在约１１０ｇ／ｃｍ↑［２］或更小的下压力下抛光玻璃基板的玻璃抛光组合物及方法。一种优选的抛光组合物包含悬浮于含有聚合物稳定剂及任选的水溶性无机盐的含水载体中的颗粒状二氧化铈研磨剂，其中，所述聚合物稳定剂的量例如为约５０至约１５００ｐｐｍ，所述颗粒状二氧化铈研磨剂的量例如为约１至约１５重量％。优选地，该颗粒状二氧化铈研磨剂具有约０．３５μｍ至约０．９μｍ的平均粒度。另一优选的组合物包含约１至约１５重量％的悬浮于含水载体中的颗粒状二氧化铈研磨剂，其中，所述颗粒状二氧化铈研磨剂的特征在于平均粒度为至少约０．２μｍ且ＣｅＯ↓［２］的纯度为至少约９９．９重量％，所述含水载体的ｐＨ值比该二氧化铈研磨剂的等电点（ＩＥＰ）高或低至少约１个单位。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于抛光玻璃基板的组合物及方法。更具体地说，本专利技术涉 及二氧化铈抛光组合物在抛光玻璃表面中的用途。
技术介绍
液晶显示器(LCD)及有机发光二极管(OLED)平板器件通常包括位于 LCD或OLED单元结构的外侧显示表面上的薄玻璃面板。期望的是，该面板 薄且非常均匀，以使面板的重量最小化且提供优良的光学性质。OLED及LCD 级玻璃包括钠钙玻璃及碱土金属氧化物-Al20rSi02玻璃，例如EAGLE⑧2000 玻璃、EAGLE⑧XL玻璃及1737玻璃等，其可得自Coming Inc., Coming, New York。优选地，玻璃的碱土金属氧化物组分包含一种或多种选自MgO、 CaO、 SrO及BaO的氧化物。用于玻璃面板抛光的常规系统通常利用两步法，该两步法包括移除材料 的主体(bulk)的初始研磨或蚀刻步骤(主体移除步骤)，以及随后的利用抛光组 合物的磨光或抛光步骤，其中，该抛光组合物包含与水混合并与固定研磨垫 或研磨带组合使用的相对大的二氧化铈颗粒(例如，平均粒度为约2微米或更 大)。磨光或抛光步骤主要用于移除由主体移除步骤所造成的损坏(例如，凹 坑、划痕等本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种玻璃抛光方法，其包括用含水玻璃抛光组合物研磨玻璃基板的表面一段足以从该表面移除该玻璃的至少一部分的时间；其中，该抛光组合物包含约１至约１５重量％的悬浮于含水载体中的颗粒状二氧化铈研磨剂，所述颗粒状二氧化铈研磨剂的特征在于平均粒度为约０．３５μｍ至约０．９μｍ，所述含水载体含有约５０至约１５００ｐｐｍ的聚合物稳定剂。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：内文纳吉布，凯文莫根伯格，
申请(专利权)人：卡伯特微电子公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]