氟化气体化合物的制造方法及装置制造方法及图纸

技术编号:5457978 阅读:156 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种氟化气体化合物制造装置,利用下述区域形成循环系统,所述区域为:使含有前述原料液体的混合液体与原料气体反应的反应区域;只有前述混合液体流动的流动区域;使反应后的前述混合液体从前述反应区域的上部向前述流动区域的上部流动的上部移动区域;使前述混合液体从前述流动区域的下部向前述反应区域的下部移动的下部移动区域,通过(A)将前述原料气体导入前述反应区域的下部并(B)将作为前述反应区域反应生成物的第一氟化气体化合物及使该第一氟化气体化合物进一步氟化获得的第二氟化气体化合物中选择出来的至少一种氟化气体化合物导入,使前述混合液体循环。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
氟化的气态化合物,例如,NF3> IF5, IF7, CIF3、WF6等,作为CVD装置、PVD装置等的 半导体制造装置的内部清洗剂使用。对于高效率地生产这些气体化合物用的方法,进行了 各种研究。另外,前述NF3、IF5,IF7、cif3、WF6,是在本专利技术中作为例子列举出来的氟化反应 完全进行的物质。
技术介绍
例如,本申请人,提出了使液体状的氨络合物与气态的CIF3等的卤间化合物反应, 合成用化学式NFXL3_X(L是F之外的卤素,表示的气态的卤化氮的方法(参照专 利文献1)。该卤化氮,在后面的工序中被进一步氟化,转化成NF3。为了高效率地制造气态 的氟化的化合物,优选利用连续的生产工序进行。这里,所谓“连续的”,指的是在技术方案 的运作工程中,没有间断地导入原料,引起反应使之产生功能气体。被氟化的化合物,在大 多数情况下,通过使原料气体和不是气体的原料反应而进行制造。例如,在专利文献1中, 使原料液体L和原料气体进行反应。在这种条件下,为了高效率地进行连续的生产,有必要持续地向原料液体L和原 料气体反应的反应区域供应原料液体L。作为向反应区域持续地供应原料液体L的方本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氟化气体化合物的制造方法,该氟化气体化合物的制造方法使原料液体和原料气体进行反应,制造被氟化的气体化合物,其特征在于,利用下述区域形成循环系统,所述区域为:使含有前述原料液体的混合液体与原料气体反应的反应区域;只有前述混合液体流动的流动区域;使反应后的前述混合液体从前述反应区域的上部向前述流动区域的上部移动的上部移动区域;使前述混合液体从前述流动区域的下部向前述反应区域的下部移动的下部移动区域;通过将(A)和(B)导入前述反应区域的下部,使前述混合液体循环,(A)是前述原料气体,(B)是从作为前述反应区域反应生成物的第一氟化气体化合物及使该第一氟化气体化合物进一步氟化获得的第二氟化气体化合...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:田中久雄毛利勇田仲健二
申请(专利权)人:中央硝子株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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