光学薄膜、图像显示装置、二乙炔基芴及其聚合物制造方法及图纸

本发明专利技术的光学薄膜包含用下述通式（Ⅴ）表示的聚酰亚胺系聚合物。本发明专利技术的光学薄膜显示了相位差的波长色散从短波长侧到长波长侧几乎不变的光学特性。本发明专利技术的光学薄膜可以典型地用作液晶显示装置的相位差板。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光学薄膜和图像显示装置、可用作该光学薄膜的形成材料的二乙炔基芴和含有该二乙炔基芴的聚合物。
技术介绍
相位差板是用于实现例如液晶显示装置的视角扩大等和补偿液晶单元等的光学薄膜。相位差板的相位差具有波长依赖性，其相位差的波长色散大致分为以下三类。第一种显示相位差值越是在短波长侧越大的波长色散(以下称为正色散)，第二种显示相位差值从短波长侧到长波长侧几乎不变的波长色散(以下称为平坦色散)，第三种显示了相位差值越是在短波长侧越小的波长色散(以下称为逆色散)。另外，正色散和逆色散具有相位差的波长依赖性大的光学性质，而平坦色散具有相位差的波长依赖性小的光学性质。在所述三种相位差板当中，以往，作为显示平坦色散的相位差板，使用将降冰片烯系树脂制膜拉伸的降冰片烯系薄膜(例如，JSRi朱式会社制造，商品名Arton Film )。然而，降冰片烯系薄膜较厚，具有大约60~ 80pm的厚度，因此，不能实现光学部件的薄膜轻质化。另一方面，已知聚酰亚胺通过涂布到基材上显示了规定的相位差(专利文献l)。因此，包含聚酰亚胺的相位差板能够以较薄的厚度形成。然而，由于聚酰亚胺通常显示了正色散，使用聚酰本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学薄膜，其包含具有用下述通式（Ⅰ）表示的重复单元的聚合物，　＊＊＊　（Ⅰ）　其中，在式（Ⅰ）中，Ａ、Ａ’、Ｂ和Ｂ’各自表示取代基，ａ和ａ’表示对应的Ａ和Ａ’的取代数（０～４的整数），ｂ和ｂ’表示对应的Ｂ和Ｂ’的取代数（０ ～３的整数），Ａ、Ａ’、Ｂ和Ｂ’各自独立地表示卤素或者碳数１～４的烷基，Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］各自独立地表示氢、卤素、碳数１～１０的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的乙烯基、取代或未取代的乙炔基、ＳｉＲ↑［３］Ｒ↑［４］Ｒ↑［５］（Ｒ↑［３］～Ｒ↑［５］各自是碳数１～６的烷基或芳基）或ＣＲ↑［６］Ｒ↑［７］（ＯＨ）（Ｒ↑［６］和Ｒ↑［７］...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2006-10-2 270530/2006;JP 2007-2-14 032858/20071. 一种光学薄膜，其包含具有用下述通式(I)表示的重复单元的聚合物，其中，在式(I)中，A、A’、B和B’各自表示取代基，a和a’表示对应的A和A’的取代数(0～4的整数)，b和b’表示对应的B和B’的取代数(0～3的整数)，A、A’、B和B’各自独立地表示卤素或者碳数1～4的烷基，R1和R2各自独立地表示氢、卤素、碳数1～10的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的乙烯基、取代或未取代的乙炔基、SiR3R4R5(R3～R5各自是碳数1～6的烷基或芳基)或CR6R7(OH)(R6和R7各自是碳数1～4的烷基)。2. 根据权利要求l所述的光学薄膜，其中前述聚合物是聚 酰亚胺系聚合物。3. 根据权利要求2所述的光学薄膜，其中前述聚酰亚胺系 聚合物具有用下述通式(II)表示的重复单元，其中，在式(II)中，Y表示共价键或者选自CH2基、C(CH3)2 基、C(CZ3)2基(其中，Z是卤素)、CO基、O原子、S原子、S02 基、Si(CH2CH3)2基和N(CH3)基所组成的组中的原子或基团，E是取代基，e表示E的取代数(0~ 3的整数)，E是卣素、碳数1~ 3的烷基、碳数1 3的卣代烷基、苯基或者取代苯基，在具有多 个E时，它们各自是相同或不同的。4.根据权利要求2所述的光学薄膜，其中前述聚酰亚胺系 聚合物具有用下述通式(II)表示的重复单元和下述通式(III) 表示的重复单元，<formula>formula see original document page 3</formula>其中，在式(II)中，Y表示共价键或者选自CHb基、C(CH3)2 基、C(CZ3)2基(其中，Z是卣素)、CO基、O原子、S原子、so2 基、Si(CH2CH3)2基和N(CH3)基所组成的组中的原子或基团，E 是取代基，e表示E的取代数(0~ 3的整数)，E是卣素、碳数1~ 3的烷基、碳数1 3的卣代烷基、苯基或者取代苯基，在具有多 个E时，它们各自是相同或不同的；<formula>formula see original document page 3</formula>其中，在通式(III)中，X表示共价键或者选自CH2基、 C(CH3)2基、C(CZ3)2基(其中，Z是卤素)、CO基、O原子、S 原子、S02基、Si(CH2CH3)2基和N(CH3)基所组成的组中的原子 或基团，G和H是取代基，g表示G的取代数(0~ 4的整数)，h 表示H的取代数(0~4的整数)，G和H各自是相同或不同的， 表示选自卣素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫代烷基、烷 氧基、芳基、取代芳基、烷酯基和取代烷酯基所组成的组中的原子或基团，在具有多个时，它们各自是相同或不同的，ql表 示0 3的整数，q2表示l 3的整数。5.根据权利要求l ~ 4的任一项所述的光学薄膜，其中前述 通式(I)用下述通式(IV)表示，(IV)其中，在式(IV)中，RS R各自独立地表示氢或者曱基， 1^和112与式(I)含义相同。6. 根据权利要求l ~ 5的任一项所述的光学薄膜，其中前述 1^和112各自独立地是氢、碳数1 6的烷基、三曱基曱硅烷基或 者C(CH3)2(OH)基。7. 根据权利要求l ~ 6的任一项所述的光学薄膜，其含有 5mol。/。以上的用前述通式(I)表示的重复单元。8. 根据权利要求l所述的光学薄膜，其中前述聚合物是用 下述通式(V)表示的聚酰亚胺系聚合物其中，在式(V)中，Aa、 A，a，、 Bb和B，b,以及R^和R2与前述式(I)含义相同，X和Y表示共价键或者选自CH2基、C(CH3);基、C(CZ3...

【专利技术属性】
技术研发人员：饭田敏行，大森裕，黑木美由纪，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]