污染性评价方法、污染性评价装置、光学部件的制造方法、光学叠层体以及显示器产品制造方法及图纸

本发明专利技术提供可适用于各种部件、再现性高、可检测微妙的污迹差异 的防污性定量的污染性评价方法、污染性评价装置、光学部件的制造方 法、以及具有防指纹附着性、抗污染性、从污染的恢复度的光学叠层体、 和具有该光学叠层体的显示器产品。本发明专利技术的染性评价方法对试验体照 射光，检测在该试验体上反射或透射的散射光，评价上述试验体的表面 的污染程度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及利用从试验体透射或反射的散射光的污染性评价方法、 采用该方法的污染性评价装置、光学部件的制造方法、光学叠层体以及 采用该光学叠层体的显示器产品。
技术介绍
在以显示器用防反射膜或触摸面板用防反射膜等光学膜为代表的光 学部件中，其要求的性能之一是具有防污性。作为在防污性中主要关注 的方面，具体来说可举出指纹附着性及指纹擦去性。即，在光学部件中， 由于指纹附着而产生的污迹和指纹擦去后残留的污迹而导致本来应该发 现的光学特性降低，因此需要如指纹附着性低、且即使附着也能够简单 擦去这样的性能。另外，根据要求光学部件的防污性提高的情况，该防污性自身评价 的再现性也变得重要。例如，在专利文献l中记载了高再现性地定量评价 光盘表面的防污性、指纹附着性或指纹去除性用的人工指纹液。专利文献1日本专利第3745317号公报(段落0006， 0057) 如上所述，当前的现状是虽然很重视防污性自身评价的再现性，但 还没有提出高再现性地定量评价防污性的方法。例如，专利文献l的目的 是通过开发人工指纹液来提高指纹附着阶段中的再现性。关于指纹附着 性及指纹去除性的定量评价，在该文献中是通过测定记录本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种污染性评价方法，其特征在于，　对试验体照射光，检测在该试验体上反射或透射的散射光，来评价上述试验体的表面的污染程度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2006.9.8 JP 244543/20061. 一种污染性评价方法，其特征在于，对试验体照射光，检测在该试验体上反射或透射的散射光，来评价上述试验体的表面的污染程度。2. 根据权利要求l所述的污染性评价方法，其特征在于， 上述试验体的表面被人为地污染。3. 根据权利要求2所述的污染性评价方法，其特征在于， 上述人为的污染是由于指纹附着引起的污染。4. 根据权利要求1 3中任意一项所述的污染性评价方法，其特征在于，在评价了上述试验体的表面的污染程度后，清洗该试验体的表面， 并再次评价该试验体的污染程度，由此来评价上述表面从污染的恢复程 度。5. 根据权利要求1 4中任意一项所述的污染性评价方法，其特征在于，利用由国际照明委员会(C正)规定的I^a^^色彩模型来评价上述试 验体的表面的污染程度。6. —种污染性评价装置，其特征在于，具有 试验体的设置台；光源，其对设置在该设置台上的试验体照射光； 积分球，其会聚在该试验体上反射或透射的散射光；以及 散射光检测器，其检测会聚的散射光，评价上述试验体的表面的污 染程度。7. —种光学部件的制造方法，其特征在于，具有以下的工序-取得光学部件的工序；以及在人为地污染了上述光学部件的表面后，对该光学部件照射光，检 测在该光学部件上反射或透射的散射光，评价上述光学部件的污染程度 的检查工序。8. 根据权利要求7所述的光学...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤洁，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：JP