【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种包括涂有多层透明抗反射(AR)涂层且具有改善的热 阻和良好的耐磨损性的基材的光学制品，特别是眼用透镜和这种光学制品 的制造方法。
技术介绍
在透镜基材如眼用透镜或透镜坯(lens blank)的至少一个主表面上涂 布若干用于赋予最终透镜额外或改进的光学或机械性质的涂层是本领域常 用技术。这些涂层一般称作功能涂层。因此，在典型由有机玻璃材料制得的透镜基材的至少一个主表面上依 次涂布(从该透镜基材的表面起)耐冲击涂层(耐冲击底层)、耐磨损和/ 或耐刮伤涂层(硬涂层)、抗反射涂层和任选防污顶涂层是通常技术。在 透镜基材的一个或两个表面上也可以施加其它涂层如偏振涂层、光致变色 或染色涂层。抗反射涂层定义为当沉积在光学制品的表面上时改善其抗反射性的涂 层。它减少相对宽的可见光谱波段的光在制品_空气界面的反射。抗反射涂层是公知的，并且传统地包括介电材料如Si02、 SiO、 A1203、 MgF2、 LiF、 Si3N4、 Ti<32、 ZK)2、 Nb2Os、 Y203、 Hf02、 Sc203、 Ta2Os、 Pr203及其混合物的单层或多层堆叠...
【技术保护点】
一种具有抗反射性的光学制品，其包括具有至少一个涂有多层抗反射涂层的主面的基材，所述多层抗反射涂层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层的叠层，其中： －各低折射率层的折射率为１．５５或更低， －各高折射率层的折射率高于１．５５，并且该层不包含五氧化二铌（Ｎｂ↓［２］Ｏ↓［５］）， －光学制品的所述经涂布主面的平均发光反射系数Ｒ↓［ｖ］≤１％，以及： （ａ）抗反射涂层在所述涂层最外层以下的低折射率层各自具有小于１００ｎｍ的物理厚度，比率 Ｒ↓［Ｔ］＝抗反射涂层的低折射率层的物理厚度之和／抗反射涂层的高折射率层的物理厚度之和 大于２．１，并且抗反射涂层不包括含铌（Ｎｂ）亚层...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2006-6-28 11/427,1991. 一种具有抗反射性的光学制品，其包括具有至少一个涂有多层抗反射涂层的主面的基材，所述多层抗反射涂层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层的叠层，其中-各低折射率层的折射率为1.55或更低，-各高折射率层的折射率高于1.55，并且该层不包含五氧化二铌(Nb2O5)，-光学制品的所述经涂布主面的平均发光反射系数Rv≤1％，以及(a)抗反射涂层在所述涂层最外层以下的低折射率层各自具有小于100nm的物理厚度，比率大于2. 1，并且抗反射涂层不包括含铌(Nb)亚层，或者(b)抗反射涂层包括-至少一个物理厚度≥100nm且不是抗反射涂层最外层的低折射率层，和-至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，它们位于所述物理厚度≥100nm且不是距基材最远的抗反射涂层最外层的低折射率层上方，并且比率大于2. 1，条件是所述比率RT计算中所考虑的抗反射涂层的各层仅是位于所述物理厚度≥100nm且不是距基材最远的抗反射涂层最外层的低折射率层上方的各层，并且优选抗反射涂层不包括含铌(Nb)亚层。2. 根据权利要求1的光学制品，其中Rt大于或等于2.15,优选大于 或等于2.2,更优选大于或等于2.25，大于或等于2.3甚至更好。3. 根据权利要求l的光学制品，其临界温度275。C。4. 根据权利要求l的光学制品，其中抗反射涂层的高折射率层包含选 自Ti02、 PrTi03、 Zr02及其混合物的至少一种材料。5. 根据权利要求l的光学制品，其中抗反射叠层的至少一个高折射率 层包含Ti02。6. 根据权利要求l的光学制品，其中抗反射叠层的至少一个低折射率 层包含Si02和A1203的混合物。7. 根据权利要求l的光学制品，其中抗反射涂层的所有低折射率层都 包含Si()2和A1203的混合物，如果所述抗反射涂层包括具有至少一个低折 射率层的亚层，则所述亚层的低折射率层例外。8. 根据权利要求l的光学制品，其中抗反射涂层包括亚层。9. 根据权利要求8的光学制品，其中亚层A^于SK)2的不含A1203 的单层亚层。10. 根据权利要求8的光学制品，其中亚层是由如下层构成的多层亚层-一层由SiOz构成的层；以及-插在所述由Si02构成的层与光学制品基材之间的至多3层。11. 根据权利要求8的光学制品，其中亚层由至少一种金...
【专利技术属性】
技术研发人员：F阿鲁伊，O贝纳特，L努韦罗，M托马斯，
申请(专利权)人：埃西勒国际通用光学公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]
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