高分子电解质乳液的制备方法技术

本发明专利技术提供具有下述工序(1)和(2)的高分子电解质乳液的制备方 法。工序(1)：将高分子电解质溶解在含该高分子电解质的良溶剂的溶 剂中，制备高分子电解质浓度0.1-10重量％的高分子电解质溶液的工 序。工序(2)：将所述工序(1)中得到的高分子电解质溶液与该高分子 电解质的不良溶剂，以相对于该高分子电解质溶液1重量份该不良溶 剂4-99重量份的比例进行混合的工序。另外，本发明专利技术提供高分子电 解质乳液的制备方法，其包括用膜将其中高分子电解质粒子分散在分 散介质中的高分子电解质分散液分离。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种分散有含高分子电解质的高分子电解质粒子的 。本专利技术更详细地涉及适于制造燃料电 池用部件的。
技术介绍
具有磺酸基、羧基、膦羧基(尔只求:/酸基)等亲水性基团的聚合 物，即高分子电解质，被用作燃料电池的质子传导膜，或者用作粘合剂，该粘合剂用来与碳载铂(platinum-supported carbon)等复合化而 形成催化剂层。作为这种高分子电解质，包括Dupont公司制的 Nafion(注册商标)、旭化成制的Aciplex(注册商标)、旭硝子制的 Flemion(注册商标)等，它们以含氟类高分子电解质的固体微粒分散在 分散介质中的形式在市场上销售。但是，该氟类高分子电解质被分解 而产生的氟化物排出到环境中，而且考虑到需要低成本化，因而急切 需要能代替它们的高分子电解质。例如，日本专利申请特开(JP-A) No. 2005-132996中公开了含 磺化聚有机硅氧烷的水分散体，表明该分散体可提供耐水性、成膜性 优异的被膜。此外，JP-A No. 2004-319353公开了一种固体电解质膜，其通过 将由表面具有离子性基团的微粒构成的固体电解质与可溶于溶剂的 其他高本文档来自技高网...

【技术保护点】
高分子电解质乳液的制备方法，其包括：　工序（１）：将高分子电解质溶解在含该高分子电解质的良溶剂的溶剂中，制备高分子电解质浓度０．１－１０重量％的高分子电解质溶液；以及　工序（２）：将所述工序（１）中得到的高分子电解质溶液与该高分 子电解质的不良溶剂，以相对于该高分子电解质溶液１重量份该不良溶剂４－９９重量份的比例进行混合。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2006.7.4 JP 184245/2006;2006.7.4 JP 184246/20061. 高分子电解质乳液的制备方法，其包括工序(1)将高分子电解质溶解在含该高分子电解质的良溶剂的溶剂中，制备高分子电解质浓度0.1-10重量％的高分子电解质溶液；以及工序(2)将所述工序(1)中得到的高分子电解质溶液与该高分子电解质的不良溶剂，以相对于该高分子电解质溶液1重量份该不良溶剂4-99重量份的比例进行混合。2. 权利要求1所述的制备方法，其中，所述工序(l)是将高分子 电解质溶液置于高分子电解质的不良溶剂中的工序。3. 权利要求1或2所述的制备方法，其中，所述良溶剂的相对 介电常数为sl、所述不良溶剂的相对介电常数为s2时，其差值 (I ￡l-s2 I )为7以上100以下。4. 权利要求1或2所述的制备方法，其中，所述良溶剂的相对 介电常数为sl、所述不良溶剂的相对介电常数为￡2时，其差值 (I sl-s2 I )为20以上100以下。5. 权利要求1-4中任一项所述的制备方法，其中，所述良溶剂为 选自N-曱基-2-吡咯烷酮、N，N-二甲基曱酰胺、N，N-二曱基乙酰胺以 及二曱基亚砜中的至少一种。6. 高分子电解质乳液的制备方法，该方法包括用膜将其中高分 子电解质粒子分散于分散介质中的高分子电解质分散液分离。7. 权利要求6所述的制备方法，其中，所述膜为透析膜或超滤膜。8. 权利要求6所述的制备方法，其中，所述膜为透析膜。9. 权利要求6-...

【专利技术属性】
技术研发人员：黑田竜磨，斋藤伸，栗田宽之，增井建太朗，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP