杂环化合物及其药物组合物制造技术

本发明专利技术提供一种通式（１）表示的杂环化合物：，式中，Ｒ１表示Ｒ５－Ｚ１－等，Ｚ１表示低级亚烷基等，Ｒ５表示下述通式表示的基团，，式中，Ｒ１３表示氢原子等，ｍ表示１～５的整数；Ｒ２表示氢原子；Ｙ表示ＣＨ或Ｎ；Ａ１表示选自吲哚二基中的杂环，其中所述杂环可以具有至少一个取代基；Ｔ表示－ＣＯ－等；Ｒ３表示氢原子等；Ｒ４表示任选地被一个以上羟基取代的低级烷基等；Ｒ３及Ｒ４和与它们键合的氮原子一同，可以相互键合，形成５元～１０元饱和杂环，其中杂环可以具有至少一个取代基。本发明专利技术的杂环化合物具有优异的抑制胶原产生及／或治疗肿瘤的作用。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种通式（１）表示的杂环化合物或其盐，　　＊＊＊　（１）　　式中，Ｒ↑［１］表示Ｒ↑［５］－Ｚ↓［１］－、Ｒ↑［５］－Ｂ－Ｎ（Ｒ↑［６］］）－、Ｒ↑［５］－Ｎ（Ｒ↑［６］）－Ｂ－、Ｒ↑［５］－Ｎ（Ｒ↑［７］）－、Ｒ↑［５］－Ｎ（Ｒ↑［８］）－ＣＯ－Ｎ（Ｒ↑［９］）－、Ｒ↑［５］－Ｎ（Ｒ↑［１０］）－ＣＳ－Ｎ（Ｒ↑［１１］）－、Ｒ↑［５］－ＳＯ↓［２］－Ｎ（Ｒ↑［１２］）－、Ｒ↑［５］－ＣＯ－Ｂ↓［１］－、Ｒ↑［５］－Ｂ↓［２］－ＣＯ－Ｎ（Ｒ↑［１２ａ］）－、Ｒ↑［５］－Ｂ↓［Ａ↓［１］表示选自吲哚二基及二氢吲哚二基中的杂环，其中所述杂环可以具有至少一个取代基；Ｔ表示－Ｎ（Ｒ↑［１４］）－Ｂ↓［...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：住田卓美，田房不二男，关口和生，儿玉健志，安村贡一，小岛裕，本山晶章，宫岛启介，吉田宪司，菅庆三，坂元诚，高须英树，中川崇，大井直人，原田康男，桥本典和，松山弘典，饭田正俊，藤田繁和，福岛多惠，
申请(专利权)人：大塚制药株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]