同步晶化制备无基底的TiO2纳米管/线复合阵列透明薄膜的方法技术

技术编号:5428640 阅读:201 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种同步晶化制备无基底的TiO2纳米管/线复合阵列透明薄膜的方法,其具体作法是:a、将0.2-0.3mm厚的纯钛箔放入丙酮中进行25-40分钟超声清洗;再放入按浓硫酸25-40ml/L,氢氟酸15-40ml/L,冰乙酸60-100ml/L的抛光液中;以9-11V的恒流直流电进行10-20分钟电化学抛光;b、以0.25-0.30wt%NH4F的乙二醇溶液为电解液、钛箔为阳极,铂箔为阴极,极间距离为3-4cm,电压为60-70V,温度65-75℃、磁力搅拌下,反应5-7小时。该方法设备简单,能耗低,适合大规模生产;且其制备的薄膜无基底、透明,更适宜作太阳能电池、超级电容器等材料。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种同步晶化制备无基底的Ti02纳米管/线复合阵列透明薄膜的方法。
技术介绍
自1991年Iijima发现碳纳米管以来,管状结构纳米材料因其独特的物理化学性 能,在微电子、应用催化和光电转换等领域展现出良好的应用前景。在Zwilling等人通过 阳极氧化制备TW2多孔薄膜的基础上,2001年Grimes教授领导的科研小组首次在低电压 下用含有氢氟酸的电解液成功制备出了分布均勻、排列整齐有序的TW2纳米管阵列。TW2 纳米管阵列在氢气敏传感器、光解水制氢、染料敏化太阳能电池等方面均具有很好的应用 前景,引起了广泛关注。目前TiO2纳米管阵列主要通过阳极氧化的方法制备。阳极氧化制 备方法的研究集中在通过调整和优化阳极氧化的参数在钛箔上直接氧化得到不同性能的 TiO2纳米管阵列。但是所制TW2纳米管都是基于钛箔上,这将大大限制TW2纳米管的应 用由于纳米管底部存在0. I-Imm厚度的不透明钛金属,且不易除去,用于太阳能电池只能 采用背光照射,使效率降低;容易使一些器件(如气体传感器)造成短路,也限制了在透明 光学器件(如染料敏化太阳能电池、电致变色器件)的应用,也不适合于微型化器件的组 装;其次,在振动的环境下,以钛箔为基底的器件容易因为缺乏机械强度而失效。
技术实现思路
本专利技术目的就是提供一种同步晶化制备无基底的TiA纳米管/线复合阵列透明 薄膜的方法,该方法设备简单,能耗低,适合大规模生产;同时用该法制备的薄膜没有基底、 透明,更适宜作为太阳能电池、超级电容器等材料。本专利技术实现其专利技术的目所采用的技术方案是一种同步晶化制备无基底的1102纳 米管/线复合阵列透明薄膜的方法,其具体作法是a、钛箔的预处理将0. 2-0. 3mm厚、纯度彡99. 6%的纯钛箔放入丙酮中进行25-40分钟、50_200Hz 的超声清洗;取出、风干后放入按浓硫酸25-40ml/L,氢氟酸15_40ml/L,冰乙酸60_100ml/ L比例配置的抛光液中;以9-llv的恒流直流电进行10-20分钟电化学抛光;b、阳极氧化以0. 25-0. 30wt% NH4F的乙二醇溶液为电解液、a步得到的钛箔为阳极,钼箔为阴 极,钼箔的面积>钛箔面积,两电极间距离为3-km,电压恒定为60-70V,电解液温度控制 在65-75°C、磁力搅拌下,反应时间为5-7小时,即得。本专利技术方法的可能机理是在阳极氧化法制备TiA纳米管阵列的过程大致经过三个阶段首先,在Ti基底表 面形成一层致密的氧化膜(即阻挡层),反应过程为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种同步晶化制备无基底的TiO↓[2]纳米管/线复合阵列透明薄膜的方法,其具体作法是:a、钛箔的预处理将0.2-0.3mm厚、纯度≥99.6%的纯钛箔放入丙酮中进行25-40分钟、50-200Hz的超声清洗;取出、风干后放入按浓硫酸25-40ml/L,氢氟酸15-40ml/L,冰乙酸60-100ml/L比例配置的抛光液中;以9-11v的恒流直流电进行10-20分钟电化学抛光;b、阳极氧化以0.25-0.30wt%NH4F的乙二醇溶液为电解液、a步得到的钛箔为阳极,铂箔为阴极,铂箔的面积≥钛箔面积,两电极间距离为3-4cm,电压恒定为60-70V,电解液温度控制在65-75℃、磁力搅拌下,反应时间为5-7小时,即得。

【技术特征摘要】
1. 一种同步晶化制备无基底的TiA纳米管/线复合阵列透明薄膜的方法,其具体作法是a、钛箔的预处理将0. 2-0. 3mm厚、纯度彡99. 6 %的纯钛箔放入丙酮中进行25-40分钟、50_200Hz的超 声清洗;取出、风干后放入按浓硫酸25-40ml/L,氢氟酸15_40ml/L,冰乙酸60_100ml/L比例 配置的...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨峰蔡芳共赵勇
申请(专利权)人:西南交通大学
类型:发明
国别省市:90[中国|成都]

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