在片材涂覆处理中用于片材的悬浮垫传输制造技术

本发明专利技术涉及片材引导，更具体地涉及片材引导。用于无接触引导片材的引导装置设置有具有面向片材的表面和设置在表面中并适于为片材提供悬浮垫的大量气体出口的装置。此外，用于涂覆片材的设备和用于无接触引导片材的方法包括在表面上移动片材；并且从该表面发出大量气体流，由此在表面和片材之间产生悬浮垫。此外，用于产生薄膜太阳能电池的方法包括用于根据此处描述的实施例无接触引导片材的方法。用于生产薄膜太阳能电池的方法还包括在片材上沉积支撑接触，并沉积透明和传导的氧化层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术一般涉及薄膜形成设备和方法。具体而言，本专利技术涉及用于在薄膜形成过 程中片材引导和/或片材冷却的装置和方法。更具体地，本专利技术涉及用于在薄膜太阳能电 池的生产过程中片材引导的装置和方法。
技术介绍
在用于在诸如生产薄膜太阳能电池中涂覆片材的设备和方法中，必须引导片材。 这是由于这样的情况必须改变片材的移动方向。引导片材的另一可行的应用是涂覆片材 的前侧，并且必须支撑片材的后侧。对于这些情况和其他应用，公知提供允许改变片材的移 动方向和/或者支撑片材的辊子和鼓。然而，在许多应用中，尤其在薄膜太阳能电池生产应用中，已经涂覆的片材与已经 涂覆的片材一侧的辊子的直接接触会对涂覆造成损害。结果，涂覆设备必须设计成辊子与 片材专门在片材的后侧接触。如此处所述，术语“片材的后侧”是指片材的未被涂覆的一 面。由于这些设计限制，必须在涂覆设备内设计复杂的移动路径，并且/或者显著限制了涂 覆设备的整个路径长度。在需要长的涂覆路径长度的应用中出现了另一问题。术语“涂覆路径长度”是指 片材必须暴露到诸如蒸发器的一个或者多个涂覆装置所沿的长度。例如，在薄膜太阳能电 池生产领域中，用于ρ掺杂层和η掺杂层的涂覆路径长度通常在IOm的范围内。为了在此 范围的距离支撑蹼，在涂覆过程中为了引导和支撑蹼，必须提供巨大的鼓。结果，涂覆设备 的空间要求达到了低效率的高水平。
技术实现思路
鉴于以上，提供此出所描述的引导装置、涂覆设备、用于无接触引导片材的方法、 用于涂覆片材的方法和用于此处所描述的薄膜太阳能电池的方法。根据此处描述的实施例，用于无接触片材的引导装置设置有具有面向片材的表面 和设置在表面中并适于为片材提供悬浮垫的大量气体出口的装置。根据此处描述的另一实施例，用于无接触引导片材的引导装置设置有具有面向片 材的表面和设置在表面中的大量气体出口的装置，其中，该表面是不可旋转的。根据此处描述的其他实施例，提供一种用于涂覆具有根据此处描述的实施例的引 导装置的片材的设备。根据此处描述的另一实施例，提供一种用于生产具有根据此处描述的实施例的引 导装置的非晶硅太阳能电池的设备。根据此处描述的其他实施例，提供用于无接触片材的方法，其包括在表面上移动 片材；并且从该表面发出大量气体流，由此在该表面和片材之间产生悬浮垫。根据此处描述的其他实施例，用于涂覆片材的方法包括用于根据此处描述的实施 例无接触引导片材的方法。根据此处描述的另一实施例，用于生产薄膜太阳能电池的方法包括用于根据此处 描述的实施例无接触引导片材的方法。用于生产薄膜太阳能电池的方法还包括在片材上沉 积支撑接触，并沉积透明和传导的氧化层。从从属权利要求、说明书和附图中，能与以上实施例结合的其他优点、特征、方面 和细节将变得明显。实施例还涉及用于执行每个所公开的方法并包括用于执行每个所描述的方法步 骤的设备部件的设备。这些方法步骤可以通过硬件部件、由适合的软件编程的计算机，通过 这两种的任何组合或者以任何其他方式来执行。此外，实施例还涉及所描述的设备工作所 用或者所描述的设备制造所用的方法。该方法包括用于执行设备的功能或者制造设备的部 件的方法步骤。附图说明本专利技术的上述和其他更详细的方面的一部分将在以下描述中描述并部分地参照 附示。其中图IA示出了根据此处描述的实施例的引导装置的示意视图；图IB示出了根据此处描述的实施例的引导装置的示意视图；图IC示出了根据此处描述的实施例的引导装置的示意视图；图2示出了根据此处描述的实施例的引导装置的示意视图；图3示出了根据此处描述的实施例的引导装置的示意视图；图4A、图4B和图4C示出了根据此处描述的实施例的引导装置的引导装置表面的 示意视图，该引导装置表面具有设置在其中的大量气体出口 ；图5示出了根据此处描述的实施例的引导装置的示意视图；图6示出了根据此处描述的实施例的引导装置的示意视图；图7A示出了根据此处描述的实施例的用于引导片材的设备的示意视图；图7B示出了根据此处描述的实施例的用于引导片材的设备的示意视图；以及图7C示出了根据此处描述的实施例的用于引导片材的设备的示意视图。具体实施例方式在以下对附图的描述中，相同的参考标号是指相同的部件。一般地，仅仅描述各个 实施例的不同。图IA是图示引导装置的实施例的示意横截面视图。如Vl和V2的箭头所示，片材 100能从附图的左侧移动到右侧。根据其他实施例，片材还从右侧移动到左侧。用在此处描述的实施例中的蹼通常特征在于其可弯曲。术语“片材”可以同义地 用作“带硅”。例如，在此处实施例中描述的片材可以是箔。诸如蹼的片材由引导装置110引导。引导装置包括面向蹼的引导装置120。在此 上下文中术语“面向”指的是当引导装置在工作时引导装置定位和取向为片材在表面的上 方轻微地移动的情况。更详细地，当气体从设置在引导装置Iio的表面120中的大量气体 出口 130发出时，片材100在引导装置的表面和片材之间产生的悬浮垫140上移动。根据 能与此处描述的所有其他实施例结合的此处描述的通常方法实施例，从表面发出气体包括弓丨导气体通过设置在表面中的大量出口。在此处描述的许多实施例中，引导装置的引导装置表面是静止的，S卩，它不适于被 旋转。该表面通常是不可旋转的。如此处所描述，术语“气垫”和“悬浮垫”同义使用。根 据此处描述的许多实施例，悬浮垫使得在片材和表面之间没有摩擦。通常，被引导的片材与 表面不直接接触。通常，根据此处描述的许多实施例，所产生的悬浮垫能将片材承载在该垫上。换言 之，当引导装置处于工作中时，引导装置的表面与片材不直接接触。片材完全被悬浮垫承 载。因而，根据此处所描述的通常的实施例，片材能布置成使得片材的涂覆侧面向引导装置 的表面。尽管涂覆侧可以面向该表面，但是涂覆侧通常不与该表面有任何直接的接触。参照图IA描述的实施例的表面示出为部分椭圆横截面的截面。以下，诸如圆柱状 和/或卵形和/或椭圆形的几何形状的术语“截面”仅仅是指物体的一部分。一般，引导装置表面可以具有非圆柱状。即，引导装置可以具有任何形状，只要通 常不需要将其进行旋转即可。例如，根据能与此处描述的任何一种实施例组合的不同实施 例，引导装置表面可以具有诸如椭圆或者部分椭圆横截面的卵形或者部分卵形。在这些实 施例中，主轴线和副轴线可以指定到表面形状。主轴线的长度可达20m，更通常地达15m，甚 至更通常地达10m。副轴线的长度通常选择为1. 5m以下，更通常地Im以下，甚至更通常地 0. 5m以下。鉴于空间要求，期望将主轴线和副轴线之间的关系最大化。然而，为了确保片材 对表面(之间是所产生的悬浮垫)的最小接触压力，通常将主轴线和副轴线之间的关系限 制为例如不大于20、15、10或者5。如此处所描述，椭圆根据这些几何学的数学理解而理解 为卵形的具体情况。相较于现有技术中公知的引导装置，此处描述的实施例能提供许多优点。首先，可 以以无接触的方式引导片材。即，当处于工作中时，片材不与引导装置的表面直接接触地在 悬浮垫上单独地移动。例如，这在当片材已经在片材面向引导装置的表面的面上涂覆有诸 如非晶硅的涂覆材料时是有利的。在此情况的许多应用以及其他应用中，必须避免表面和 片材的涂覆面之间的直接接触。此处描述的实施例允许以无接触的方式(即，不接本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在片材涂覆处理中无接触引导片材（１００）的引导装置（１１０），所述引导装置具有表面（１２０），其用于面向所述片材；以及大量气体出口（１３０），其设置在所述表面中，并且适于为所述片材提供悬浮垫。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：沃夫冈布斯史贝克，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]