杀虫化合物制造技术

技术编号:5411145 阅读:136 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
式(Ⅰ)化合物,其中A↑[1]、A↑[2]、A↑[3]、A↑[4]、R↑[1]、R↑[2]、G↑[1]、G↑[2]、Q↑[1]和Q↑[2]如权利要求1中定义;或者其盐或N-氧化物。此外,本发明专利技术涉及用来制备式(Ⅰ)化合物的方法和中间体,涉及包含它们的杀昆虫、杀螨、杀软体动物和杀线虫组合物以及涉及用它们来对抗和防治昆虫、蜱螨类、软体动物和线虫病虫害的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及某些双酰胺衍生物,涉及用来制备它们的方法和中间体,涉及包含它们的杀虫、杀螨、杀软体动物和杀线虫组合物以及涉及用它们来对抗和防治昆虫、蜱螨类、软体动物和线虫病虫害的方法。具杀虫性质的芳香双酰胺衍生物公开于例如WO 05/073165、JP2006/306771、WO 06/137376、WO 06/137394和WO 07/017075中。现在令人惊讶地发现某些新型双酰胺衍生物具有改善的杀虫性质。所以,本专利技术提供式(I)化合物:其中A1、A2、A3和A4各自独立地是C-X-R3、C-R5或氮,条件是A1、A2、A3和A4中至少一个是C-X-R3并且A1、A2、A3和A4中不超过两个是氮;R1和R2各自独立地是氢、C1-C4烷基或C1-C4烷基羰基;G1和G2各自独立地是氧或硫;R3各自独立地是氢,C1-C12烷基,C1-C12卤代烷基,C2-C8链烯基,C2-C8炔基,芳基或者被卤素或C1-C4烷基取代的芳基,或者杂环基或者被卤素或C1-C4烷基取代的杂环基;X各自独立地是氧、硫或N-R4;其中R4各自独立地是氢、C1-C4烷基或C1-C4烷基羰基;R5各自独立地是氢、卤素、C1-C4烷基或三氟甲基;-->Q1是芳基或被一个到五个取代基R6取代的芳基,所述取代基可以是相同或不同的,或者Q1是杂环基或被一个到五个取代基R6取代的杂环基,所述取代基可以是相同或不同的;其中R6各自独立地是氰基、硝基、羟基、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4链烯基、C2-C4卤代链烯基、C2-C4炔基、C2-C4卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、C1-C3烷基亚磺酰基、C1-C3卤代烷基亚磺酰基、C1-C3烷基磺酰基、C1-C3卤代烷基磺酰基、C1-C4烷基氨基、二-(C1-C4烷基)氨基、C1-C4烷基羰基、C1-C4烷基羰氧基、C1-C4烷氧基羰基、C1-C4烷基羰基氨基或苯基;和Q2是式(II)或(III)的部分其中Y1和Y5各自独立地是氰基、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基-C1-C4-烷基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、C1-C3烷基亚磺酰基、C1-C3卤代烷基亚磺酰基、C1-C3烷基磺酰基或C1-C3卤代烷基磺酰基;Y3是C2-C6全氟烷基、C1-C6全氟烷硫基、C1-C6全氟烷基亚磺酰基或C1-C6全氟烷基磺酰基;Y2和Y4各自独立地是氢、卤素或C1-C4烷基;Y6和Y9各自独立地是氰基、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基-C1-C4-烷基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、C1-C3烷基亚磺酰基、C1-C3卤代烷基亚磺酰基、C1-C3烷基磺酰基或C1-C3卤代烷基磺酰基;Y8是C1-C4卤代烷氧基、C2-C6全氟烷基、C1-C6全氟烷硫基、C1-C6全氟烷基亚磺酰基或C1-C6全氟烷基磺酰基;Y7是氢、卤素或C1-C4烷基;-->或者其盐或N-氧化物。式(I)化合物可以以不同的几何或旋光异构体或者互变异构形式存在。本专利技术涵盖全部这样的异构体和互变异构体及其所有比例的混合物以及比如氘化化合物的同位素形式。每个烷基部分无论单独的或作为更大基团(比如烷氧基、烷氧基羰基、烷基羰基)的一部分是直链或支链并且是,例如,甲基、乙基、正丙基、正丁基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基或叔丁基。所述烷基基团优选是C1-C6烷基基团,更优选C1-C4并最优选C1-C3烷基基团。链烯基和炔基部分(无论单独的或作为如链烯氧基或炔氧基的更大基团的一部分)可以是直链或支链形式,并且所述链烯基部分合适时可以是(E)-或(Z)-构型。实例是乙烯基、烯丙基和炔丙基。所述链烯基和炔基基团优选是C2-C6链烯基或炔基基团,更优选C2-C4并最优选C2-C3链烯基或炔基基团。卤素是氟、氯、溴或碘。卤代烷基基团(无论单独的或作为如卤代烷氧基或卤代烷硫基的更大基团的一部分)是被一个或多个、相同或不同的卤素原子取代的烷基基团,并且是,例如,-CF3、-CF2Cl、-CH2CF3或-CH2CHF2。全氟烷基基团(无论单独的或作为如全氟烷硫基的更大基团的一部分)是卤代烷基基团的一种特别类型,它们是完全被氟原子取代的烷基基团并且是,例如,-CF3、-CF2CF3或-CF(CF3)2。卤代链烯基和卤代炔基基团(无论单独的或作为如卤代链烯氧基或卤代炔氧基的更大基团的一部分)分别是被一个或多个、相同或不同的卤素原子取代的链烯基和炔基基团并且是,例如,-CH=CF2、-CCl=CClF或-CHClC≡CH。环烷基基团可以是单-或二-环形式并且可以可选地被一个或多个甲基基团取代。所述环烷基基团优选包含3到8碳原子,更优选3到6个碳原子。单环环烷基基团的实例是环丙基、1-甲基环丙基、2-甲基环丙基、环丁基、环戊基和环己基。卤代环烷基基团是被一个或多个、相同或不同的卤素原子取代的-->并且可以可选地被一个或多个甲基基团取代的环烷基基团。单环卤代环烷基基团的实例是2,2-二氯-环丙基、2,2-二氯-1-甲基-环丙基和2-氯-4-氟环己基。在本说明书的上下文中,术语“芳基”表示可以是单-、二-或三环的环系。这样的环的实例包括苯基、萘基、蒽基、茚基或菲基。优选的芳基基团是苯基。术语“杂芳基”表示包含至少一个杂原子并且由单环或者两个或两个以上稠环组成的芳香环系。优选地,单环包含至多三个杂原子而二环系包含至多四个杂原子,所述杂原子优选选自氮、氧和硫。这样的基团的实例包括吡啶基、哒嗪基、嘧啶基、吡嗪基、呋喃基、噻吩基、噁唑基、异噁唑基、噁二唑基、噻唑基、异噻唑基、噻二唑基、吡咯基、吡唑基、咪唑基、三唑基和四唑基。优选的杂芳基基团是吡啶。二环基团的实例是苯并噻吩基、苯并咪唑基、苯并噻二唑基、喹啉基、噌啉基和喹喔啉基。术语“杂环基”被定义为包括杂芳基以及它们的不饱和或部分不饱和类似物,比如哌啶基、1,3-二氧环戊基、1,3-二噁烷基、4,5-二氢-异噁唑基、四氢呋喃基和吗啉基。A1、A2、A3、A4、R1、R2、G1、G2、R3、X、R4、R5、Q1、R6、Q2、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5、Y6、Y7、Y8和Y9的优选值,以任意组合,如下所述。优选A1是C-X-R3或C-R5。优选A2是C-本文档来自技高网...

【技术保护点】
式(Ⅰ)化合物: *** (Ⅰ) 其中 A↑[1]、A↑[2]、A↑[3]和A↑[4]各自独立地是C-X-R↑[3]、C-R↑[5]或氮,条件是A↑[1]、A↑[2]、A↑[3]和A↑[4]中至少一个是C-X-R↑[3] 并且A↑[1]、A↑[2]、A↑[3]和A↑[4]中不超过两个是氮; R↑[1]和R↑[2]各自独立地是氢、C↓[1]-C↓[4]烷基或C↓[1]-C↓[4]烷基羰基; G↑[1]和G↑[2]各自独立地是氧或硫; R↑[3 ]各自独立地是氢,C↓[1]-C↓[12]烷基,C↓[1]-C↓[12]卤代烷基,C↓[2]-C↓[8]链烯基,C↓[2]-C↓[8]炔基,芳基或者被卤素或C↓[1]-C↓[4]烷基取代的芳基,或者杂环基或者被卤素或C↓[1]-C↓[4]烷基取代的杂环基; X各自独立地是氧、硫或N-R↑[4];其中 R↑[4]各自独立地是氢、C↓[1]-C↓[4]烷基或C↓[1]-C↓[4]烷基羰基; R↑[5]各自独立地是氢、卤素、C↓[1]-C↓[4]烷基或三氟甲基;   Q↑[1]是芳基或被一个到五个取代基R↑[6]取代的芳基,所述取代基可以是相同或不同的,或者Q↑[1]是杂环基或被一个到五个取代基R↑[6]取代的杂环基,所述取代基可以是相同或不同的;其中 R↑[6]各自独立地是氰基、硝基、羟基 、卤素、C↓[1]-C↓[4]烷基、C↓[1]-C↓[4]卤代烷基、C↓[2]-C↓[4]链烯基、C↓[2]-C↓[4]卤代链烯基、C↓[2]-C↓[4]炔基、C↓[2]-C↓[4]卤代炔基、C↓[3]-C↓[6]环烷基、C↓[3]-C↓[6]卤代环烷基、C↓[1]-C↓[3]烷氧基、C↓[1]-C↓[3]卤代烷氧基、C↓[1]-C↓[3]烷硫基、C↓[1]-C↓[3]卤代烷硫基、C↓[1]-C↓[3]烷基亚磺酰基、C↓[1]-C↓[3]卤代烷基亚磺酰基、C↓[1]-C↓[3]烷基磺酰基、C↓[1]-C↓[3]卤代烷基磺酰基、C↓[1]-C↓[4]烷基氨基、二-(C↓[1]-C↓[4]烷基)氨基、C↓[1]-C↓[4]烷基羰基、C↓[1]-C↓[4]烷基羰氧基、C↓[1]-C↓[4]烷氧基羰基、C↓[1]-C↓[4]烷基羰基氨基或苯基;和 Q↑[2]是式(Ⅱ)或(Ⅲ)的部分 *** 其中 Y↑[1]和Y↑[5]各自独立地是氰基、卤素、...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】GB 2006-6-27 0612713.81.式(I)化合物:
其中
A1、A2、A3和A4各自独立地是C-X-R3、C-R5或氮,条件是A1、A2、
A3和A4中至少一个是C-X-R3并且A1、A2、A3和A4中不超过两个是氮;
R1和R2各自独立地是氢、C1-C4烷基或C1-C4烷基羰基;
G1和G2各自独立地是氧或硫;
R3各自独立地是氢,C1-C12烷基,C1-C12卤代烷基,C2-C8链烯基,
C2-C8炔基,芳基或者被卤素或C1-C4烷基取代的芳基,或者杂环基或
者被卤素或C1-C4烷基取代的杂环基;
X各自独立地是氧、硫或N-R4;其中
R4各自独立地是氢、C1-C4烷基或C1-C4烷基羰基;
R5各自独立地是氢、卤素、C1-C4烷基或三氟甲基;
Q1是芳基或被一个到五个取代基R6取代的芳基,所述取代基可以
是相同或不同的,或者Q1是杂环基或被一个到五个取代基R6取代的杂
环基,所述取代基可以是相同或不同的;其中
R6各自独立地是氰基、硝基、羟基、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代
烷基、C2-C4链烯基、C2-C4卤代链烯基、C2-C4炔基、C2-C4卤代炔基、
C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、C1-C3烷基亚磺酰基、C1-C3卤代烷基亚磺酰
基、C1-C3烷基磺酰基、C1-C3卤代烷基磺酰基、C1-C4烷基氨基、二-(C1-C4烷基)氨基、C1-C4烷基羰基、C1-C4烷基羰氧基、C1-C4烷氧基羰基、C1-C4烷基羰基氨基或苯基;和
Q2是式(II)或(III)的部分
其中
Y1和Y5各自独立地是氰基、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基-C1-C4-烷基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、C1-C3烷基亚磺酰
基、C1-C3卤代烷基亚磺酰基、C1-C3烷基磺酰基或C1-C3卤代烷基磺酰
基;
Y3是C2-C6全氟烷基、C1-C6全氟烷硫基、C1-C6全氟烷基亚磺酰基
或C1-C6全氟烷基磺酰基;
Y2和Y4各自独立地是氢、卤素或C1-C4烷基;
Y6和Y9各自独立地是氰基、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基-C1-C4-烷基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、C1-C3烷基亚磺酰
基、C1-C3卤代烷基亚磺酰基、C1-C3烷基磺酰基或C1-C3卤代烷基磺酰
基;
Y8是C1-C4卤代烷氧基、C2-C6全氟烷基、C1-C6全氟烷硫基、C1-C6全氟烷基亚磺酰基或C1-C6全氟烷基磺酰基;
Y7是氢、卤素或C1-C4烷基;
或者其盐或N-氧化物。
2.权利要求1的化合物,其中A1是C-X-R3或C-R5。
3.权利要求1或权利要求2的化合物,其中A2是C-X-R3或C-R5。
4.权利要求1到3...

【专利技术属性】
技术研发人员:P迈恩费什W赞巴赫P容W鲁兹T皮特纳P雷诺
申请(专利权)人:先正达参股股份有限公司
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]

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