作为CETP抑制剂的氨基-哌啶衍生物制造技术

本发明专利技术提供了式（Ⅰ）化合物，其中变量Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７如文中所定义，并且其中所述化合物是ＣＥＴＰ抑制剂，因此其可用于治疗由ＣＥＴＰ介导的或对抑制ＣＥＴＰ响应的病症或疾病。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】专利说明作为CETP抑制剂的氨基-哌啶衍生物 本专利技术涉及新的式(I)化合物或其药学上可接受的盐或其光学异构体或光学异构体的混合物 R1是取代或未取代的杂环基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的烷氧基羰基、取代或未取代的烷酰基或者取代或未取代的烷基； R2是烷基、环烷基或环烷基烷基； R3是R8-O-C(O)--、(R8)(R9)N-C(O)--、R8-C(O)-、R8-S(O)2--、取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基或者取代或未取代的芳基烷基； R4或R5相互独立地是氢；取代或未取代的烷基、环烷基、芳基或杂芳基；取代或未取代的芳基烷基；取代或未取代的环烷基烷基；或取代或未取代的杂芳基烷基； R6和R7独立地是氢、烷基、卤代烷基、卤素、氰基、硝基、羟基、二烷基氨基或烷氧基；或 R6是取代或未取代的芳基或者取代或未取代的杂芳基； R8是氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的芳基烷基或者取代或未取代的环烷基烷基。 在一个实施方案中，本专利技术提供式(I)化合物或其药学上可接受的盐或其光学异构体或光学异构体的混合物，其中 R1是杂环基、芳基、烷氧基羰基、烷酰基或烷基，其中每个杂环基或芳基任选被1-3个取代基取代，所述取代基选自烷基、卤代烷基、羟基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、HSO3--、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、链烯基氧基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、烷基-S--、烷基-SO--、烷基-SO2--、氨基、H2N-SO2--、烷酰基或杂环基；并且其中每个烷酰基、烷氧基羰基或烷基任选被1-3个取代基取代，所述取代基选自羟基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、HSO3--、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、链烯基氧基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、烷基-S--、烷基-SO--、烷基-SO2--、氨基、H2N-SO2--、烷酰基或杂环基； R2是烷基； R3是R8-O-C(O)--、(R8)(R9)N-C(O)--、R8-C(O)-、R8-S(O)2--、烷基、环烷基或取代的或芳基烷基； R4或RS相互独立地是氢、芳基烷基、环烷基烷基或杂芳基烷基，其中每个芳基、环烷基或杂芳基任选被1-3个取代基取代，所述取代基选自烷基、卤代烷基、羟基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、HSO3--、环烷基、链烯基、烷氧基、卤代烷氧基、环烷氧基、链烯基氧基、烷氧基羰基、烷基-S--、烷基-SO--、烷基-SO2--、氨基、N-单或双取代(烷基、环烷基、芳基和/或芳基烷基)氨基、H2N-SO2--或烷酰基； R6和R7独立地是氢、烷基、卤代烷基、卤素、氰基、硝基、羟基或烷氧基；或 R6是芳基或杂芳基； R8是氢、烷基、环烷基、芳基、芳基烷基或环烷基烷基。 在一个实施方案中，本专利技术提供式(I)化合物，其中 R1是杂环基、烷酰基或烷氧基羰基，其中每个杂环基任选被1-3个取代基取代，所述取代基选自烷基、羟基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、HSO3--、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、链烯基氧基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、烷基-S--、烷基-SO--、烷基-SO2--、氨基、H2N-SO2--、烷酰基或杂环基。 在一个实施方案中，本专利技术提供式(I)化合物，其中 R1是嘧啶基、吡啶基、吡嗪基或烷氧基羰基，其中每个嘧啶基、吡啶基、吡嗪基任选被1-3个取代基取代，所述取代基选自烷基、羟基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、HSO3--、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、链烯基氧基、烷氧基羰基、甲脒基(carbamimidoyl)、烷基-S--、烷基-SO--、烷基-SO2--、氨基、H2N-S2--、烷酰基或杂环基，例如哌啶基、哌嗪基或吗啉基。 在一个实施方案中，本专利技术提供式(I)化合物，其中 R3是烷基-O-C(O)-、环烷基-O-C(O)--、芳基烷基-O-C(O)--、(烷基)2N-C(O)--、烷基-C(O)-、芳基烷基-C(O)-、烷基-S(O)2--、芳基-S(O)2--、烷基或芳基烷基。 在一个实施方案中，本专利技术提供式(I)化合物，其中 R4或R5相互独立地是氢、苄基或环烷基-CH2--，其中每个苄基或环烷基任选被1-3个取代基取代，所述取代基选自烷基、卤代烷基、羟基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、HSO3--、烷氧基、卤代烷氧基、氨基、N-单或双取代(烷基、环烷基、芳基和/或芳基烷基)氨基、H2N-S2--或烷酰基。 在一个实施方案中，本专利技术提供式(I)化合物，其中 R4和R5中的一个(优选R5)是氢，并且另一个(优选R4)是文中所定义的除氢外的基团。 在一个实施方案中，本专利技术提供式(I)化合物，其中 R6和R7独立地是氢、烷基、卤代烷基、卤素或烷氧基。 在一个实施方案中，本专利技术提供式(I)化合物，其中 R6和R7是氢、烷基或卤代烷基例如三氟甲基。 本专利技术还提供式(I)化合物或其药学上可接受的盐或其光学异构体或光学异构体的混合物，其中R1是环烷基、杂环基、芳基、烷基-O-C(O)-、烷酰基或烷基，其中每个环烷基、杂环基或芳基任选被1-3个取代基取代，所述取代基选自烷基、芳基、卤代烷基、羟基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、HSO3-、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、链烯基氧基、烷基-O-C(O)-、烷酰基、氨基甲酰基、烷基-S-、烷基-SO-、烷基-SO2-、氨基、单或双取代(烷基、环烷基、芳基和/或芳基-烷基-)氨基、H2N-SO2-或杂环基，并且其中每个烷酰基、烷基-O-C(O)-、烷基、烷氧基或杂环基还任选被1-3个取代基取代，所述取代基选自羟基、烷基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、HSO3-、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、链烯基氧基、烷基-O-C(O)-、烷酰基、氨基甲酰基、烷基-S-、烷基-SO-、烷基-SO2-、氨基、单或双取代(烷基、环烷基、芳基和/或芳基-烷基-)氨基、H2N-SO2-或杂环基； R2是烷基、环烷基、环烷基-烷基-或烷氧基，其中每个烷基、环烷基或烷氧基任选被1-3个取代基取代，所述取代基选自烷基、烷氧基或卤素； R3是R8-O-C(O)-、(R8)(R9)N-C(O)-、R8-C(O)-、R8-S(O)2-、烷基、环烷基或芳基-烷基-，其中每个烷基、环烷基或芳基-烷基-任选被1-3个取代基取代，所述取代基选自烷基、羟基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、HSO3-、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、链烯基氧基、烷基-O-C(O)-、烷酰基、甲脒基、烷基-S-、烷基-SO-、烷基-SO2-、氨基、H2N-SO2-、杂环基， 其中R8和R9独立地是氢、烷基、环烷基、芳基、芳基-烷基-或环烷基-烷基-，其中每个烷基、环烷基、芳基、芳基-烷基-或环烷基-烷基-任选被1-3个取代基取代，所述取代基选自烷基、羟基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、HSO3-、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、链烯基氧基、烷基-O-C(O)-、烷酰基、甲脒基、烷基-S-、烷基-SO-、烷基-SO2-、氨基、H2N-SO2-、杂环基； R4和R5独立地是氢、烷基、烷氧基本文档来自技高网...

【技术保护点】
式（Ⅰ）化合物或其药学上可接受的盐或其光学异构体或光学异构体的混合物，　＊＊＊　（Ⅰ）　其中Ｒ１是环烷基、杂环基、芳基、烷基－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、烷酰基或烷基，其中环烷基、杂环基和芳基中的每一个任选被１－３个取代基取代，所述取代基 选自烷基、芳基、卤代烷基、羟基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、ＨＳＯ↓［３］－、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、链烯基氧基、烷基－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、烷酰基、氨基甲酰基、烷基－Ｓ－、烷基－ＳＯ－、烷基－ＳＯ↓［２］－、氨基、单或双取代（烷基、环烷基、芳基和／或芳基－烷基－）氨基、Ｈ↓［２］Ｎ－ＳＯ↓［２］－或杂环基，并且其中烷酰基、烷基－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、烷基、烷氧基和杂环基中的每一个还任选被１－３个取代基取代，所述取代基选自羟基、烷基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、ＨＳＯ↓［３］－、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、链烯基氧基、烷基－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、烷酰基、氨基甲酰基、烷基－Ｓ－、烷基－ＳＯ－、烷基－ＳＯ↓［２］－、氨基、单或双取代（烷基、环烷基、芳基和／或芳基－烷基－）氨基、Ｈ２Ｎ－ＳＯ↓［２］－或杂环基；　 　Ｒ２是烷基、环烷基、环烷基－烷基－或烷氧基，其中烷基、环烷基和烷氧基中的每一个任选被１－３个取代基取代，所述取代基选自烷基、烷氧基或卤素；　Ｒ３是Ｒ８－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、（Ｒ８）（Ｒ９）Ｎ－Ｃ（Ｏ）－、Ｒ８－Ｃ（Ｏ）－、Ｒ８－Ｓ（Ｏ ）↓［２］－、烷基、环烷基或芳基－烷基－，其中烷基、环烷基和芳基－烷基中的每一个任选被１－３个取代基取代，所述取代基选自烷基、羟基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、ＨＳＯ↓［３］－、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、链烯基氧基、烷基－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、烷酰基、甲脒基、烷基－Ｓ－、烷基－ＳＯ－、烷基－ＳＯ↓［２］－、氨基、Ｈ↓［２］Ｎ－ＳＯ↓［２］－、杂环基，　其中Ｒ８和Ｒ９独立地是氢、烷基、环烷基、芳基、芳基－烷基－、环烷基－烷基－或非芳香族杂环基，其中烷基、环烷基、芳基、 芳基－烷基－、环烷基－烷基－和非芳香族杂环基中的每一个任选被１－３个取代基取代，所述取代基选自烷基、羟基、卤素、硝基、羧基、巯基、氰基、ＨＳＯ↓［３］－、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、链烯基氧基、烷基－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、烷基－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、烷基－Ｃ（Ｏ）－ＮＨ－、烷酰基、甲脒基、烷基－Ｓ－、烷基－ＳＯ－、烷基－ＳＯ↓［２］－、氨基、Ｈ↓［２］Ｎ－ＳＯ↓［２］－...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：今濑英智，岩切英之，川波纪雄，三宅高广，茂树宗登，大森治，H秦，梅村一郎，山田建，八十岛华杨，
申请(专利权)人：诺瓦提斯公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]