曝光设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种曝光设备，其包括曝光机，特别地，还包括遮光装置，该遮光装置包括：连接元件，可转动地安装在曝光机的对位镜头上；遮光元件，固定连接于上述连接元件；其中，遮光元件可选择地遮盖母版上的测量窗口。具体地，根据本实用新型专利技术的遮光元件在曝光机对感光干膜进行曝光时遮盖母版上的测量窗口。紫外光无法穿过本遮光装置而照射到与测量窗口相对的感光干膜上，从而使感光干膜区不会曝光，这样在随后的蚀刻显影过程中，与该部分感光干膜区对应的ＩＴＯ薄膜就会被蚀刻掉，而不会形成会对封排气密性造成影响的多余的ＩＴＯ图形。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及等离子显示屏制造领域，具体涉及用于光刻工艺的曝光i殳备。
技术介绍
目前，在等离子显示屏的制造中，主要应用光刻工艺在等离子显示屏上形成线条图形(例如ITO线条图形)。在光刻工艺中，曝光机是制作图形的关键设备，通过曝光机制作图形的基本原理是利用具有光敏特性的感光材料，通过在其上方覆盖母版图形并通过曝光机发出的平行紫外光对感光材料进行曝光，从而获得与母版图形一致的感光图形。在制作ITO线条图形时，首先利用石兹控溅射法在玻璃基板的整个表面上形成ITO薄膜，接着在覆盖有ITO薄膜的玻璃基板上贴附一层感光性干膜，随后利用具有特定线条图形的母版作为掩模板在曝光4几紫外光下进行曝光，随后对曝光后的感光干膜进行显影，没有被母版遮盖的感光干膜部分经过曝光、显影操作而消除，显影操作后玻璃基板上就显现出与母版上的特定线条图形相同的图形，此时再通过蚀刻工艺将显影后没有被感光干膜覆盖的ITO薄膜部分去除，这样就形成了相应的ITO线条图形。如本领域4支术人员所知的那样，在利用曝光才几进4亍曝光时，需要对玻璃基板与母版之间的距离进行测定，测定的方法就是利用测定装置所发出的激光能量的反射量计算出母版厚度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光设备，包括曝光机，其特征在于，所述曝光设备还包括遮光装置，所述遮光装置包括：　连接元件（１４），可转动地安装在所述曝光机的对位镜头（１３）上；　遮光元件（１２），固定连接于所述连接元件（１４）；　其中，所述遮光元件 （１２）选择性地遮盖母版（２）上的测量窗口（１）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：田玉民，
申请(专利权)人：四川虹欧显示器件有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]