用于形成电极的光敏导电糊料及电极制造技术

一种用于形成电极的光敏导电糊料，该糊料包含导电金属颗粒、玻璃粘结剂、单体、光引发剂、有机聚合物粘结剂、有机介质和紫外光吸收剂，所述紫外光吸收剂基本上不会改变该糊料在可见光范围的反射率。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于形成电极的光敏导电糊料及电极
技术介绍
专利
本专利技术涉及一种等离子体显示板(PDP)的电极。更具体地，本专利技术涉及通 过改进可用光形成图案(photo-patternable)的糊料来改进曝光宽容度并提 供改进的PDP质量的技术。
技术介绍
在PDP中可形成大于或等于1000个电极，所述电极测得为80-100微米宽 度，0.5-1. 5米长度。优选这些电极是没有缺陷的，并具有优良的线性 (linearity)。通常使用银作为电极中包含的导电金属颗粒。近来变成广泛使用光刻法形成PDP中的电极。这种方法中，首先涂覆可用 光形成图案的糊料。然后，通过对由该可用光形成图案的糊料组成的膜进行曝 光和显影，形成图案。随着近年来玻璃基板的尺寸增大，在曝光时开始使用近 贴曝光(proximity exposure)。近贴曝光指一种系统，利用该系统能够在提供 在光掩模和将进行曝光的涂覆膜之间几百微米的间隙的时候进行曝光。在使用可用光形成图案的糊料形成图案的情况，希望增大工艺的宽容度 (process latitude)。希望能增加曝光条件的自由度。在工艺宽容度小的情况， 图案形状可依据曝光条件容本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于形成电极的光敏导电糊料，该糊料包含：导电金属颗粒、玻璃粘结剂、单体、光引发剂、有机聚合物粘结剂、有机介质和紫外光吸收剂，所述紫外光吸收剂基本上不会改变该糊料在可见光范围的反射率。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：敦彦佐藤，TR苏斯，
申请(专利权)人：EI内穆尔杜邦公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]