【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于形成电极的光敏导电糊料及电极
技术介绍
专利
本专利技术涉及一种等离子体显示板(PDP)的电极。更具体地，本专利技术涉及通过改进可用光形成图案(photo-patternable)的糊料来改进曝光宽容度并提供改进的PDP质量的技术。
技术介绍
PDP包括大于或等于1000个电极，所述电极测得为80-100微米宽度，0. 5-1. 5米长度。优选这些电极是没有缺陷的，并具有优良的线性(linearity)。通常使用银作为电极中包含的导电金属颗粒。近来变成广泛使用光刻法形成PDP中的电极。这种方法中，首先涂覆可用光形成图案的糊料。然后，通过对由该可用光形成图案的糊料组成的膜进行曝光和显影，形成图案。随着近年来玻璃基板的尺寸增大，在曝光时开始使用近贴曝光(proximity exposure)。近贴曝光指一种系统，利用该系统能够在提供在光掩模和将进行曝光的涂覆膜之间几百微米的间隙的时候进行曝光。在使用可用光形成图案的糊料形成图案的情况，希望增大工艺的宽容度(process latitude) 。 g卩，希望能增加曝光条件的自由度。在工艺宽容度小的情况，图案形状可依据曝光...
【技术保护点】
一种用于形成电极的光敏导电糊料，该糊料包含：导电金属颗粒、玻璃粘结剂、单体、光引发剂、有机聚合物粘结剂、有机介质和炭黑。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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