【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种按照覆盖压电基板和IDT电极的方式层叠了 SiOj莫 的声表面波装置,更具体而言,涉及一种通过在压电基板的上表面所形成 的沟槽中填充金属来构成IDT电极的声表面波装置。
技术介绍
在移动电话等移动通信系统所使用的双工机(DPX) 、 RF滤波器中, 需要满足宽频段和良好的温度特性双方。以往,作为DPX、 RF滤波器, 广泛使用声表面波装置。在用于这种用途的声表面波装置中,广泛使用在由LiTa03、 LiNb03 等构成的压电基板上形成有IDT电极的声表面波装置。在LiTa03、 LiNb03 中,频率温度系数TCF具有负值。因此,为了改善温度特性,众所周知有 以下的方法,即在压电基板上按照覆盖IDT电极的方式形成具有正的频率温度系数的Si02膜的方法。但是,在IDT电极的存在电极指的部分和不存在电极指的部分,Si02 膜的表面必然会产生阶梯。于是,由于该阶梯形成的凹凸,有插入损耗劣 化的问题。在下述的专利文献l中,作为解决这样的问题的方法,公开了如下的 方法,SP:在IDT的电极指间形成与电极膜厚相同的第一绝缘物层之后, 按照覆盖IDT电极和第 ...
【技术保护点】
一种声表面波装置,具有: 压电基板,其在上表面形成有多个沟槽; IDT电极,其通过在所述沟槽中填充金属而形成;和 SiO↓[2]层,其形成为覆盖所述压电基板和IDT电极,并且上表面平坦; 该声表面波装置利用了在所述压 电基板中激励的瑞利波的响应,所述压电基板是欧拉角为(0°±5°,180°~247°,0°±5°)的LiNbO↓[3]基板。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:门田道雄,木村哲也,矢追真理,
申请(专利权)人:株式会社村田制作所,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。