【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
式(Ⅰ)的化合物或其盐, *** (Ⅰ) 式中, R↑[1]:低级烷基、卤素、卤代低级烷基或环烷基; R↑[2]:-X-Y-R↑[20]、-X-可以被取代的杂环基或 ***; 环A:芳基; R↑[3]:相同或相互不同,低级烷基、卤素、卤代低级烷基、可以被取代的芳基、可以被取代的杂环基、-CO↓[2]R↑[0]、-OR↑[0]或-O-卤代低级烷基; X:可以被取代的C↓[1-10]亚烷基; Y:*-C(O)N(R↑[7])-、-O-、*-OC(O)-、*-OC可以被取代的芳基、或-J-低级亚烷基-可以被取代的杂环基; R↑[5]:相同或相互不同,C↓[1-10]烷基、卤素、卤代低级烷基、可以被取代的环烷基、可以被取代的芳基、可以被取代的杂环基、-CO↓[2]R↑[0]、-CN、氧代基、低级亚烷基-可以被取代的环烷基、低级亚烷基-可以被取代的芳基、低级亚烷基-可以被取代的杂环基、低级亚烷基-CO↓[2]R↑[0]、-J-R↑[0]、-J-卤代低级烷基、-J-可以被取代的环烷基、-J-可以被取代的芳基、-J-可以被取代的杂环基、-J-低级亚烷基-可以被取代的环烷基、-J- ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:恩田健一,今村健一郎,佐藤史惠,森友博幸,浦野泰治,泽田由纪,石桥直树,中西庆太,横山和宏,古川重忠,百瀬和浩,
申请(专利权)人:安斯泰来制药株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。