用于记录干涉条纹图案的方法和装置制造方法及图纸

技术编号:5379263 阅读:275 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
为了在介质的记录层中记录干涉条纹图案,使多个激光束发生干涉,以在记录层中形成干涉条纹;并且在使多个激光束发生干涉的时间段期间,连续执行以下步骤:(1)产生随记录层中特定位置的移位而变化的信号;以及(2)通过基于在步骤(1)中产生的信号改变至少一个激光束的相位或移动记录层,来使记录层中的条纹形成位置移位。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于在介质中记录由光波的干涉所产生的干涉条纹图案的方法和装置,还涉及一种用于制造在其中记录此类干涉条纹图案的介质的方法。
技术介绍
现有技术中已知一种用于在诸如光敏聚合物等光折射材料中形成和记录一系列明暗带的技术,其中发射相干光的两个平面波,并将其引导至材料内,使得它们彼此发生干涉,从而在材料内产生干涉条纹,使得干涉条纹在材料中被形成为光强的变化,并且在其中被保持为材料折射率的变化(参见例如JP 2005-071557A)。因此,记录在材料中的干涉条纹可以充当衍射栅,从而在其中记录着干涉条纹图案的材料(干涉条纹介质)可以被用作光学元件或其中记录着信息的信息介质。 然而,已知由于材料的光敏聚合作用的缘故,在上述传统技术中所需的对光敏聚合物的连续或频繁辐射将使材料收縮,因此干涉条纹将不利地发生位置改变。 本专利技术试图消除该缺陷。示意性地,本专利技术的非限制性实施例克服了上述缺陷以及上面未描述的其他缺陷。此外,本专利技术并不必须克服上述缺陷,并且示意性地,本专利技术的非限制性实施例也可以不克服上述问题。
技术实现思路
本专利技术的一方面是提供用于记录干涉条纹图案或用于制造其中记录干涉条纹图案的介质的方法和装置,使得由于可以极大地减少或最小化不希望的干涉条纹的位移,由此可以防止或抑制否则将由于记录层收縮的缘故在记录操作期间发生的、不希望的干涉条纹位移以及相关联的得到的干涉条纹图案的低对比度或模糊。 更具体地,根据本专利技术的一方面,提供了一种用于在介质的记录层中记录干涉条纹图案的方法。该方法包括使多个激光束发生干涉,以在记录层中形成干涉条纹;以及在使多个激光束发生干涉的时间段中,连续执行以下步骤(l)产生随记录层中特定位置的移位而变化的信号;以及(2)通过基于在步骤(1)中产生的信号,改变至少一个激光束的相位或移动记录层,来使记录层中的条纹形成位置移位。 步骤(1)可以包括测量记录层的表面位置,以及将测量结果转换为所述信号。可选地,步骤(1)可以包括测量介质中在记录层的第一表面之上提供的层(例如基板)的表面的位置,以及将测量结果转换为所述信号,所述第一表面同记录层的第二表面相背,所述第二表面相对于多个激光束所发射自的光学系统是固定的。此外,在一个实施例中,步骤(1)可以包括测量介质中随记录层的表面位置的移位而变化的位置,并将测量结果转换为信号。"介质中随记录层的表面位置的移位而变化的位置"可以选自任意位置,只要该位置可以被用于检测记录层的表面位置的任何变化即可例如,将记录层保持在其间的基板中一个基板的表面;同支撑于并位于与多个激光束所发自的光学系统相对固定的位置处的面相背的、介质中的记录层或其他层的两面之一等。即,可以使用任意层表面的任意位置,该任意层表面的任意位置可以在使多个激光束发生干涉期间因记录层材料的收縮或紧縮而移动其位置。 采用这些步骤,如果在使多个激光束在记录层中发生干涉从而形成干涉条纹期间,记录层收縮,则在步骤(1)中直接或间接地监控因该收縮而移位的记录层中的特定位置。接着,在步骤(2)中,通过基于在步骤(1)中产生的信号,改变至少一个激光束的相位或移动记录层,来使记录层中的条纹形成位置移位。这样,即使记录在记录层中的干涉条纹因记录层材料的收縮而易于发生移位,也调整条纹形成位置,使得可以抑制干涉条纹的位移以及相关联的得到的干涉条纹图案的低对比度或模糊。 上述用于记录干涉条纹图案可应用于用于制造其中记录干涉条纹图案的介质的方法。通过这种方法制造的介质(以下称为"干涉条纹介质")可以包括光盘或诸如偏振片等光学元件。 在本专利技术的另一方面,提供了一种用于在介质的记录层中记录干涉条纹图案的装置,包括光源、光束分离器、第一光学系统、第二光学系统、位置换能器、和控制器。光源被配置为发射激光束。光束分离器被配置为,将从光源发射的激光束分离为包括第一光束和第二光束在内的多个激光束。第一光学系统被配置为,通过反射或透射第一光束,来将从光束分离器接收的第一光束引导至记录层中。第二光学系统被配置为,通过反射或透射第二光束,来将从光束分离器接收的第二光束引导至记录层中。位置换能器被配置为,产生随记录层中特定位置的移位而变化的信号。控制器被配置为,对第一和第二光学系统中的至少一个进行控制,基于位置换能器所产生的信号,改变第一和第二光束中至少一个的相位,从而使记录层中的条纹形成位置移位。 采用该装置,如果根据位置换能器所产生的信号,确定记录层中的特定位置发生了移位,则例如控制器控制第一光学系统,并改变第一光束的相位,以使条纹形成位置移位。这样,即使记录在记录层中的干涉条纹因记录层材料的收縮而易于发生移位,也调整条纹形成位置,使得可以抑制干涉条纹的位移以及相关联的得到的干涉条纹图案的低对比度或模糊。 在上述装置中,位置换能器可以包括传感器,被配置为测量记录层的表面位置。可选地,位置换能器可以包括传感器,被配置为测量介质中在记录层的第一表面上提供的层的表面的位置,所述第一表面同记录层的第二表面相背,第二表面相对于所述装置是固定的。此外,在一个实施例中,位置换能器可以包括传感器,被配置为介质中测量随记录层的表面位置的移位而变化的位置。 在上述装置中,第一光学系统可以包括第一半透射镜和第一反射器,而第二光学系统可以包括第二半透射镜和第二反射器。第一半透射镜被配置为,透射从光束分离器接收的第一光束。第一反射器被配置为,将透射过第一半透射镜的第一光束反射回第一半透射镜,从而使第一光束反射离开第一半透射镜的镜面,进入记录层。第二半透射镜被配置为,透射从光束分离器接收的第二光束。第二反射器被配置为,将透射过第二半透射镜的第二光束反射回第二半透射镜,从而使第二光束反射离开第二半透射镜的镜面,进入记录层。此外,第一和第二光学系统中的至少一个还可以包括移位器,利用移位器,使第一或第二反射器在控制器的控制下能够沿光轴方向移动,所述控制器被配置为基于位置换能器所产生的信号,调整移位器,以改变第一和第二光束中至少一个的相位,从而使记录层中的条纹形5 在采用上述附加特征的配置中,如果根据位置换能器所产生的信号,确定记录层中的特定位置发生了移位,则例如控制器控制移位器,以移动第一反射器,并改变第一光束的相位,以使条纹形成位置移位。这样,即使记录在记录层中的干涉条纹因记录层材料的收縮而易于发生移位,也调整条纹形成位置,使得可以抑制干涉条纹的位移以及相关联的得到的干涉条纹图案的低对比度或模糊。 在上述装置中,第一和第二光学系统中的至少一个可以包括可变折射率元件,所述可变折射率元件的折射率能够随施加至其上的电压而变化;并且所述控制器可以被配置为,基于位置换能器所产生的信号,调整施加至可变折射率元件上的电压,以改变第一和第二光束中至少一个的相位,从而使记录层中的条纹形成位置移位。 在采用上述附加特征的配置中,如果根据位置换能器所产生的信号,确定记录层中的特定位置发生了移位,则控制器调整施加于可变折射率元件的电压,以改变可变折射率元件的折射率,并改变第一和第二光束中至少一个的相位,以使条纹形成位置移位。这样,即使记录在记录层中的干涉条纹因记录层材料的收縮而易于发生移位,也调整条纹形成位置,使得可以抑制干涉条纹的位移以及相关联的得到的干涉条纹图案的低对比度或模糊本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在介质的记录层中记录干涉条纹图案的方法,包括:使多个激光束发生干涉,以在记录层中形成干涉条纹;以及在使多个激光束发生干涉的时间段中,连续执行以下步骤:(1)产生随记录层中特定位置的移位而变化的信号;以及(2)通过基于在步骤(1)中产生的信号,改变至少一个激光束的相位或移动记录层,来使记录层中的条纹形成位置移位。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:宇佐美由久山田悟佐佐木俊央铃木博幸加茂诚
申请(专利权)人:富士胶片株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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