光刻设备和器件制造方法技术

技术编号:5264097 阅读:208 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。具体地,公开了一种位置测量系统,用以测量可移动物体相对于另一物体的位置,所述系统包括:两个或更多个一维(1D)编码器头,其安装在可移动物体和所述另一物体中的一个上,并且每一个配置成沿测量方向发射测量束;一个或更多个参照目标,其安装在可移动物体和另一物体中的另一个上,每个所述参照目标包括具有栅格或光栅的平面表面、以与所述两个或更多个一维(1D)编码器头协作;和处理器,配置成基于所述两个或更多个一维编码器头的输出计算可移动物体的位置,其中所述两个或更多个一维编码器头的每一个的测量方向不垂直于相应的所述参照目标的平面表面。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种位置测量系统、光刻设备以及位置测量方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上,通常是衬底的目标部分上的机器。例 如,可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下,可以将可选地称为掩模 或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案 转移到衬底(例如,硅晶片)上的目标部分(例如,包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。 所述图案的转移通常是通过将图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层 上。通常,单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括 所谓的步进机,在所述步进机中,通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一 个目标部分;以及所谓的扫描器,在所述扫描器中,通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向) 扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部 分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移到衬 底上。在扫描型的光刻设备中,期望以高精确度控制图案形成装置和衬底的位置。为了 这个目的,期望以高精确度确定在六个自本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种位置测量系统,用以测量可移动物体相对于另一物体的位置,所述系统包括:两个或更多个一维编码器头,其安装在所述可移动物体和所述另一物体中的一个上,并且每一个一维编码器头配置成沿测量方向发射测量束;参照目标,其安装在所述可移动物体和所述另一物体中的另一个上,所述参照目标包括具有栅格或光栅的平面表面、用以与所述两个或更多个一维编码器头协作;和处理器,配置成基于所述两个或更多个一维编码器头的输出计算可移动物体的位置,其中所述两个或更多个一维编码器头的每一个的测量方向不垂直于所述参照目标的平面表面。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:EAF范德帕斯卡EJM尤森ER鲁普斯卓
申请(专利权)人:ASML荷兰有限公司
类型:发明
国别省市:NL

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