微致动器偏移校正方法技术

一种微致动器偏移校正方法，设定不同聚焦电压电平的参考反射面；对参考反射面的各个校正点进行聚焦，并记录平移电压；选择基准聚焦电压电平；计算其它聚焦电压电平各校正点的平移电压偏移量；将各校正点平移电压的偏移量，曲线适应各聚焦电压电平的平移电压偏移曲线；由内插或外插取得平移电压的偏移量，以校正平移电压。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术有关一种光驱，尤其是关于光驱中光学读取头的微致动器，用以校正移动 物镜的平移电压产生偏移误差的方法。
技术介绍
一般光学读取头是利用微致动器(Actuator)承载物镜，并控制供给电压大小所 形成相对的电磁力，在磁场中水平及垂直方向驱动物镜，使物镜投射的激光束，定位聚焦在 光盘片，以读写光盘片。如图1所示，为先前技术的微致动器1，具有一基座2，四支弹性的金属线3分别由 基座2的两侧，延伸连接在承座4的两侧，支撑承座4在基座2中漂浮移动。承座4中央承 载投射激光束的物镜5，四周缠绕水平电磁线圈6，前后则设有垂直电磁线圈7。基座2延 伸L型底板8，在底板8的两端分别设磁块9，使承座4介于两磁块9之间。微致动器1利 用控制电压量至水平电磁线圈6及垂直电磁线圈7产生不同方向的电磁力，与两磁块9的 磁力形成交互作用，以驱动承座4抵抗四支金属线3的弹性，沿着聚焦方向F上下移动，或 沿着循轨方向T左右移动。如图2所示，为微致动器1驱动物镜5产生偏移的状态。先前技术的微致动器1 固定在光学读取头10中，并随着光学读取头10粗略移动至读写目标位置附近，即由微致动 器1利用电压产生电磁力，抵抗金属线3的弹性细微移动物镜5。由于金属线3的弹性与电 压的电磁力大小有一定的比例关系，微致动器1在循轨方向T，施加一定量的平移电压Tvn， 可移动物镜5离开零电压TvO的中心相对比例的位置，控制物镜5在循轨方向T移动定位。 同样在聚焦方向F供给定量的聚焦电压Fv，可控制物镜5的焦点在聚焦方向F比例移动，以 进行目标位置的定位及聚焦。然而，微致动器1常因制造组装的误差、金属线材质不均、线圈缠绕质量不良及电 磁线圈间相互作用，尤其在磁场变化较大的周边区域，造成物镜5未依电压大小比例移动。 以致造成在不同的聚焦电压电平FvO、Fvl、Fv2下，同样大小的平移电压Tvn，平移不同的距 离dl、d2、d3，导致在循轨方向T的平移位置产生误差。前述的误差，在闭回路的控制中，虽 然可通过循轨误差，将物镜5移动到所需的位置。但是在开回路的控制中，尤其在无法进行 循轨伺服的标签面绘制标签图案时，并无法不能自动消除循轨方向T所造的平移误差，导 致微致动器1移动物镜5精度不足，无法达到光学读取头越来越精密的读写的要求，更会造 成标签图案的扭曲变形。因此，先前技术微致动器在平移物镜的方法上，仍有校正的问题亟 待解决。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种，通过不同高度的参考反射面 及预设校正点，比对基准参考反射面的平移电压所产生偏移量，形成平移电压偏移曲线，校 正微致动器循轨方向T不同位置平移电压的偏移量，以提高微致动器平移精度。本专利技术另一目的在于提供一种，根据微致动器的平移电压 及聚焦电压，利用内插或外插平移电压偏移曲线，取得偏移量校正平移电压，以改善标签打 印正确性。为了达到前述专利技术的目的，本专利技术的，设定数个不同聚焦 电压电平的参考反射面；对参考反射面的数个预定校正点进行聚焦，并记录各校正点的平 移电压；选择参考反射面的一聚焦电压电平作为基准聚焦电压电平；计算参考反射面其它 聚焦电压电平的各校正点相对于基准聚焦电压电平的平移电压偏移量；根据基准聚焦电压 电平的平移电压，将各校正点平移电压的偏移量，可曲线适应(Curve Fitting)成各聚焦电 压电平的平移电压偏移曲线；由平移电压偏移曲线，内插或外插取得平移电压的偏移量，校 正平移电压。本专利技术的，是选择影响较小的零或最接近零的聚焦电压电 平作为基准聚焦电压电平。并根据驱动物镜的平移电压，由驱动物镜的聚焦电压上下相邻 的平移电压偏移曲线，内插或外插取得平移电压的偏移量，校正驱动的平移电压。再利用校 正后平移电压，进行打印光盘片标签面的标签图案。附图说明图1为先前技术微致动器的立体图。图2为先前技术微致动器产生偏移的示意图。图3至图5为本专利技术微致动器形成平移电压偏移曲线过程的示意图。图6为本专利技术微致动器的各个聚焦电压偏移曲线。图7为本专利技术的流程图。[主要元件标号说明]20 光学读取头21 微致动器22 参考反射面23 物镜具体实施例方式有关本专利技术为达成上述目的，所采用的技术手段及其功效，兹举较佳实施例，并配 合图式加以说明如下。请参考图3至图5，为本专利技术微致动器形成平移电压偏移曲线的示意过程。如图 3所示，首先利用光学读取头20将微致动器21移动至一参考反射面22，使微致动器21面 对参考反射面22，参考反射面22可以为正常反射的面或光盘片数据层，且在聚焦方向F距 离微致动器21预定高度K。参考反射面22上设数个不同相隔预定距离的校正点P，相隔预 定距离可设为等距或不等距。本实施例设校正点P-3，P-2，P-I, P0, PI, P2，P3等7个等距 校正点。在开回路中及不移动光学读取头20下，利用微致动器21 —一驱动物镜23至7个 校正点，将焦点聚焦在参考反射面22上。由于参考反射面22为预定高度K，7个校正点物 镜23在聚焦方向F聚焦高度相同，因此所用的聚焦电压Fv，基本上为相同的聚焦电压电平 Fvk0并一一测量及记录各校正点的平移电压Tv及参考反射面22相对应的聚焦电压电平Fvk0接着一一移动参考反射面22至数个不同聚焦电压电平的预定高度Kl. . . Kn,重复 前述聚焦、测量及记录步骤，对每一预定高度的参考反射面22，利用微致动器21驱动物镜 23至7个校正点，进行聚焦并记录各校正点的平移电压及参考反射面22相对应的聚焦电压 电平Fvk。由于聚焦电压Fv等于零时，对循轨方向T的平移电压Tv的磁场影响最小，可获得 平移电压Tv与物镜23移动距离较正确比例。因此，由前述数个不同聚焦电压电平，所获得 的测量数据，如图4所示，本专利技术取聚焦电压等于零的聚焦电压电平FvO作为基准举例说 明，测量数据如未包含零聚焦电压电平FvO，可以聚焦电压最接近零为基准聚焦电压电平。 将测量数据中其它数个不同预定高度的聚焦电压电平，一一与基准聚焦电压电平FvO的测 量数据比较。由移动至相同距离的校正点，比较所用平移电压的差量，就可获得平移电压的 偏移量。例如在基准聚焦电压电平FvO，微致动器21需要平移电压IV3移动物镜23至校正 点P3。而对聚焦电压电平Fvk，在移动物镜23至校正点P3的相同距离下，如仍以平移电压 Tv3则无法移动物镜23至校正点P3，需要平移电压Tvk3才能移动至校正点P3。平移电压 Tvk 3与平移电压IV3的差量就形成偏移量Δν，即AV = Tvk3-Tv3。如图5所示，将各校 正点聚焦电压电平Fvk及基准聚焦电压电平FvO的偏移量，相对基准聚焦电压电平FvO至 各校正点的平移电压Tv以坐标标示，就可适应出聚焦电压电平Fvk的平移电压偏移曲线。如图6所示，为本专利技术各聚焦电压电平的平移电压偏移曲线。将测量数据中其它 数个不同预定高度的聚焦电压电平，一一与基准聚焦电压电平FvO计算出各校正点的平移 电压偏移量，适应出相对的平移电压偏移曲线FV1、FV2、FV3、FV4、FV5、FV6。当微致动器在 A点以平移电压Tvm及聚焦电压Fvm驱动物镜时，根据平移电压Tvm，聚焦电压Fvm介于平 移电压偏移曲线Fv2、Fv3间，可利用内插平移电压偏移曲线Fv2、Fv3，在平移电压Tvm相本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微致动器偏移校正方法，包含步骤：（１）设定数个不同聚焦电压电平的参考反射面；（２）对参考反射面的数个预定校正点进行聚焦，并记录各校正点的平移电压；（３）选择参考反射面的一聚焦电压电平作为基准聚焦电压电平；（４）计算参考反射面其它聚焦电压电平的各校正点相对基准聚焦电压电平的平移电压偏移量；（５）将各校正点平移电压的偏移量，适应成各聚焦电压电平的平移电压偏移曲线；以及（６）由平移电压偏移曲线，取得平移电压的偏移量，校正平移电压。

【技术特征摘要】
1.一种微致动器偏移校正方法，包含步骤(1)设定数个不同聚焦电压电平的参考反射面；(2)对参考反射面的数个预定校正点进行聚焦，并记录各校正点的平移电压；(3)选择参考反射面的一聚焦电压电平作为基准聚焦电压电平；(4)计算参考反射面其它聚焦电压电平的各校正点相对基准聚焦电压电平的平移电压 偏移量；(5)将各校正点平移电压的偏移量，适应成各聚焦电压电平的平移电压偏移曲线；以及(6)由平移电压偏移曲线，取得平移电压的偏移量，校正平移电压。2.根据权利要求1所述的微致动器偏移校正方法，其中该参考反射面为光盘片数据层。3.根据权利要求1所述的微致动器偏移校正方法，其中该数个预定校正点相隔距离为等距。4.根据权利要求1所述的微致动器偏移校正方法，其中该数个预定校正点相隔距离为 不等距。5.根据权利要求1所述的微致动器偏移校正方法，其中该步骤( 是在循轨开回路中 进行聚焦。6....

【专利技术属性】
技术研发人员：苏怡宾，郭起祥，
申请(专利权)人：广明光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]