一种提高电子化学品洁净度的方法技术

本发明专利技术公开了一种提高电子化学品洁净度的制备方法，其特征在于：将ＥＤＴＡ螯合剂加到被有机溶剂溶解的电子化学品中，捕集溶液中存在的各种金属离子形成螯合物沉淀，经过一次或二次超微滤装置过滤，同时除去并控制铜、铅、锌、锰、镁、铁金属离子杂质。本发明专利技术研制的高纯度、超洁净印刷电路板用化学品，金属杂质含量：≤１．０×１０－１０；非金属杂质颗粒（≥０．２ｕｍ，≤０．５ｕｍ）控制为≤５个／ｍＬ。达到了ＳＥＭＩ－Ｃ１２的标准，符合印刷电路板化学品使用要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及化工行业的电子化学品
，更具体的说是一种高纯度、超洁净 化学品纯化的方法。
技术介绍
新型光致抗蚀荆微电子工业的核心技术是微细加工技术，它是微电子工业的灵 魂。微细加工技术，主要是指用光刻的方法进行加工的技术。光致抗蚀剂是进行微细加工 用的关键基础材料之一，微细加工的尺寸不同，所用的抗蚀剂也不同。一般加工0. 5微米以 上线宽的工艺采用紫外线抗蚀剂。加工0.5以下线宽的工艺则要用激光和辐射线抗蚀剂， 应是近期研究开发的重点。早在几年前，美国林肯实验室和1MB公司就开始合作研制激光 抗蚀剂，现在他们台作研制的甲基丙烯酸酯三元共聚物作为193nm激光抗蚀剂已开始用作 193nm光系统的标准测试。Ben实验室正在研制的正型和负型激光抗蚀剂可望用于248nm 和193nm激光光刻技术中。还有近年来开发的以硅材料为基础的微电子机械系统(MEMS)， 业内人士认为它可能成为21世纪的一项革命性技术，其中耐酸型光致抗蚀剂和耐强碱型 光致抗蚀剂是其重要的加工用新材料，因此有广阔的发展前景。另外，据日本科学家预测， 在2020年之前可能实现微米电子学中单原子存储技术的突破，因此，微米技术加工工艺所 用的抗蚀剂也将是重要的发展领域.随着电子封装技术的不断更新，相适应的电子封装材料也不断开发出来.现已成 为一项新兴产业，其中，电子塑料封装用材料发展更快。业内人士认为，它是实现电子产品 小型化、轻型化和低成本化的一类关键配套材料。因此，引起了人们的浓厚兴趣。目前采用 的电子塑料封装材料中，环氧娄塑封料用量最大，其次是有机硅类。现在环氧塑封料世界年 产量已超过10万t.成为当代电子塑封料的主流。近年来，随着集成电路的集成度越来越 高，布线日益精细化，芯片尺寸大型化、封装密度迅速提高。因而环氧塑封料也需要不断改 进，关键是提高耐热性、耐湿性，应具有高纯度、低应力、低线膨胀系数、低α射线和更高的 玻璃化转变温度等特性，才能适应未来电子封装的要求。为此.首先要开发生产高品质的 原材料，如邻甲酚线型酚醛环氧埘脂的水解氯含量就降至45 X 10_6以下，钠离子和氯离子 的台量也要降至1Χ10_6左右；还要研制、开发、生产新型环氧树脂，如二苯基型环氧树脂、 双环戌二烯型低牯度环氧树脂和萘系耐热环氧树脂等；同时，也要开发、生产高纯度球型二 氧化硅等关键填料。另外，改性聚酰亚胺和液晶聚合物等也有望成为重要的电子塑封材料。彩色等离子体平扳显示屏(PDP)专用光刻系列装料彩色PDP是近年来开发的有巨 大发展潜力的一种平板显示器。它与阴极射线管fCRT)和液晶等显示器相比有许多突出的 优点(1)亮度高；(2)分辩率高；(3)易于实现大屏幕化；(4)可靠性高；(5)显示速度快； (6)可在严酷的环境中使用(如震动、冲击、严寒和高温等)，它在未来军用和民用领域中均 有广阔的发展前景
技术实现思路
本专利技术的目的是公开了一种提高电子化学品洁净度的制备方法。本专利技术用于制备高纯度、超洁净化学品的制备方法在于将0. 1% -1 % EDTA螯 合剂加到被有机溶剂溶解的电子化学品中，捕集溶液中存在的各种金属离子形成螯合物沉 淀，经过一次或二次超微滤装置过滤，同时除去并控制铜、铅、锌、锰、镁、铁等金属离子杂质 含量1. OXIO-1;非金属杂质颗粒(彡0. 2um，彡0. 5um)控制为彡5个/mL。螯合剂的 加入量一般为电子化学品的0. 1_1%，同时依据电子化学品中所含金属离子含量的多少适 当加以调整。本专利技术所述的螯合剂为EDTA螯合剂，络合的金属离子可以是Cu，Pb，Cd，Zn等金属离子。金属螯合剂与金属离子(Cu，Pb，Cd，Zn，Ni等)形成共价键型螯合物，且其与不同 金属键价轨道的金属离子可以形成张力较小的空间结构。本专利技术所述的有机溶剂为甲醇、乙醇、丙酮、DMF、甲苯、二甲苯、乙腈、四氢呋喃或 它们的混合物。本专利技术所研究的高纯度、超洁净化学品-多羟基二苯甲酮系列产品主要应用于线 路成像用光致抗蚀剂及阳图印刷电路板、光刻胶等。属于高沸点有机固体物，利用通常的处 理方法无法得到满意的结果。使用一种特制螯合剂能在有机溶液或水溶液中去与被溶解的 有机物和溶剂本身中所含的多种重金属离子同时形成不溶性的颗粒状物质，以螯合物沉淀 从溶液中析出，进而通过微滤的方式将其过滤出溶液体系。经过0. 1-0. 3MPa的压力或真空 下完成微滤，将大于0.2im的颗粒同时除去。由于本项目采用膜分离法技术是一项新兴的 处理工艺，经过一次或二次微过滤能同时除去并控制铜、铅、锌、锰、镁、铁等金属离子杂质 含量，达到降低金属离子含量的目的，这种技术对水和溶剂可以进行循环利用，重金属螯合 物回收集中处理，可以实现重金属和废水的“零排放”或“超微排放”，能使生产成本大大降 低。避免了对环境的污染，是现代绿色清洁生产技术。本专利技术的微电子及应用于线路成像用光致抗蚀剂及阳图印刷电路板、光刻胶、印 刷电路板加工用的化学品，化学品的纯化重点不在其含量，而金属离子含量和颗粒含量达 到国际半导体设备和材料协会所要求的SEMI-C12规格，满足印刷电路板使用要求是至关 重要的。本专利技术的产品经南京大学现代分析中心、复旦大学化学系ICP实验室检测和客户 试用后回馈结果达到国际SEMI-C12的标准，符合印刷电路板化学品使用条件。本专利技术执行国际半导体设备和材料组织SEMI-C12标准，其具体标准如下本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种提高电子化学品洁净度的方法，其特征在于：将０．１‰－１％ＥＤＴＡ螯合剂加到被有机溶剂溶解的电子化学品中，捕集溶液中存在的各种金属离子形成螯合物沉淀，经过一次或二次超微滤装置过滤，同时除去并控制铜、铅、锌、锰、镁、铁金属离子杂质含量：≤１．０×１０↑［－１０］；０．２ｕｍ≤非金属杂质颗粒≤０．５ｕｍ，控制为≤５个／ｍＬ。

【技术特征摘要】
1.一种提高电子化学品洁净度的方法，其特征在于将0. 1%。_1% EDTA螯合剂加到 被有机溶剂溶解的电子化学品中，捕集溶液中存在的各种金属离子形成螯合物沉淀，经 过一次或二次超微滤装置过滤，同时除去并控制铜、铅、锌、锰...

【专利技术属性】
技术研发人员：范培柱，
申请(专利权)人：天津必佳药业集团有限公司，
类型：发明
国别省市：12[中国|天津]