当前位置: 首页 > 专利查询>田大军专利>正文

立柱盖帽制造技术

技术编号:5131036 阅读:315 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种立柱盖帽,为解决现有技术中安装不便等问题而发明专利技术。本实用新型专利技术包括几何形帽盖和沿所述帽盖周边向下延伸设置的侧壁构成,其中,所述的侧壁至少两相对侧分别对应向内设置有凸出暗扣,所述暗扣分别置入设置在所述立柱连接端的暗扣卡槽内。上述的结构,将立柱盖帽对其立柱端口边缘,再用辅助工具适力敲打立柱盖帽转角边缘,直至立柱盖帽相对两端面的暗扣滑进立柱端面上与之相应的凹孔暗扣槽为止,装配结束,结构简单,安装方便,避免焊接固定带来的不便。根据具体的立柱的形状和大小而设置成不同的规格和尺寸,便于统一和标准化生产。并且,帽盖连接处不需要特殊加工处理,因而不存在焊接面不光滑或处理不当的问题。(*该技术在2019年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种栏杆立柱封口用的立柱盖帽
技术介绍
现有栅栏为了延长使用寿命和维护方便,接头端一般需要进行封口处理时,现在 普遍在现场进行焊接封口 ,为了外形的整洁和提高装饰性,对焊接面进行打磨和抛光,然后 进行刷漆,工作步骤较为繁琐,人工劳动的力度和强度较大,工期很长,并且表面处理不光 顺会造成外观质量问题。
技术实现思路
为了克服上述缺陷,本技术的目的在于提供一种结构简单、安装方便的立柱 盖帽。 为了达到上述目的,本技术的立柱盖帽,包括几何形帽盖和沿所述帽盖周边 向下延伸设置的侧壁构成,其中,所述的侧壁任一两相对侧分别对应向内设置有凸出暗扣, 所述暗扣分别置入设置在所述立柱连接端的暗扣卡槽内。 特别是,所述的帽盖由多边形盖和绕所述多边形盖周边设置的两个或两个以上边 长逐渐减小的棱锥面组合而成,或圆形盖和绕所述圆形盖周边设置的两个或两个以上直径 逐渐减小的圆锥面组合而成。 其中,所述的多边形为正方形,所述的棱锥面为四棱锥面,所述的侧壁为四个,所述暗扣分别对应设置在侧壁内壁。 进一步地,所述的四棱锥面为两个。 上述的结构,将立柱盖帽对其立柱端口边缘,再用辅助工具适力敲打立柱盖帽转 角边缘,直至立柱盖帽相对两端面的暗扣滑进立柱端面上与之相应的凹孔暗扣槽为止,装 配结束,结构简单,安装方便,避免焊接固定带来的不便。附图说明图1为本技术的具体实施例的立体结构示意图。 图2为本技术的具体实施例的主视结构示意图。 图3为本技术的具体实施例的剖视结构示意图。 图4为本技术的具体实施例的俯视结构示意图。具体实施方式以下结合附图和实施例对本技术进一步详细说明。 如图1-4所示,本技术的立柱盖帽,包括几何形帽盖1和沿所述帽盖周边向下 延伸设置的侧壁2构成,其中,所述的侧壁任一两相对侧分别对应向内设置有凸出暗扣3, 所述暗扣分别置入设置在所述立柱连接端的暗扣卡槽内。3 上述的结构,将立柱盖帽对其立柱端口边缘,再用辅助工具适力敲打立柱盖帽转 角边缘,直至立柱盖帽相对两端面的暗扣滑进立柱端面上与之相应的凹孔暗扣槽为止,装 配结束,结构简单,安装方便,避免焊接固定带来的不便。 上述的帽盖的具体形状为几何图形,可以为半球形、圆锥形、多棱锥形或其组合, 具体形状在此不限。设置在所述侧壁内侧的凸出暗扣的过渡表面为光滑曲面,便于滑入设 置在所述立柱连接端的暗扣卡槽内(在图中未画出)。 作为本技术的一种变形,所述的帽盖由多边形盖11和绕所述多边形盖周边 设置的两个或两个以上边长逐渐减小的棱锥面12组合而成,或圆形盖和绕所述圆形盖周 边设置的两个或两个以上直径逐渐减小的圆锥面组合而成。 上述的结构,形状规则,容易制作,使用范围广泛。 其中,所述的多边形11为正方形,所述的棱锥面12为四棱锥面,所述的侧壁为四 个矩形面板21,所述暗扣分别对应设置在侧壁21内壁。四面侧壁分别设置内凸的暗扣,与 立柱的结合较稳定。 进一步地,所述的四棱锥面为两个。 上述结构的立柱盖帽,根据具体的立柱的形状和大小而设置成不同的规格和尺 寸,便于统一和标准化生产。并且,帽盖连接处不需要特殊加工处理,因而不存在焊接面不 光滑或处理不当的问题。 本技术不局限于上述实施方式,不论在其形状或结构上做任何变化,凡是利 用上述的立柱盖帽都是本技术的一种变形,均应认为落在本技术保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种立柱盖帽,其特征在于,包括几何形帽盖和沿所述帽盖周边向下延伸设置的侧壁构成,其中,所述的侧壁至少两相对侧分别对应向内设置有凸出暗扣,所述暗扣分别置入设置在所述立柱连接端的暗扣卡槽内。

【技术特征摘要】
一种立柱盖帽,其特征在于,包括几何形帽盖和沿所述帽盖周边向下延伸设置的侧壁构成,其中,所述的侧壁至少两相对侧分别对应向内设置有凸出暗扣,所述暗扣分别置入设置在所述立柱连接端的暗扣卡槽内。2. 如权利要求1所述的立柱盖帽,其特征在于,所述的帽盖由多边形盖和绕所述多边 形盖周边设置的两个或两个以上边长逐渐减小...

【专利技术属性】
技术研发人员:田大军
申请(专利权)人:田大军
类型:实用新型
国别省市:85[中国|重庆]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1