【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】UV量指示剂薄膜本专利技术涉及UV量指示剂薄膜及其用途。在WO 02/101462中公开了 一种激光标记方法,其使用包含着色剂和光潜酸 (photolatent acid)的组合物。当曝光时而着色的组合物从W002/100914、US 7091257和 WO 04/05 中是已知的。WO 05/097876提供了着色涂料组合物的方法。对于辐照加工,更特别地对于辐照固化来说,一个反复出现的问题是确定在辐照 敏感层覆盖的基底上的辐照(例如UV光或EB量)的能线图。所述的能线图的确定是重要 的,这是因为在可辐照固化涂层上能量再分配决定了在整个涂覆表面上的固化分布和涂层 性能。一些已经市售的光指示剂条带主要的缺点是它几乎不可能表征在具有复杂形状 的3D基底上的能线图。此外,着色强度常常取决于固化温度。根据本专利技术的UV量或EB量指示剂目的是提供对于给定的涂料体系(或者更通常 的对于处理程度,特别是对于涂料、粘合剂和油墨配方的固化以及对于在三维基底上的涂 料)的着色强度、所吸收的能量量和固化度之间的关系。如今已发现一种用于测定UV光源、等离子体发生器或电子束发出的辐照的剂量 指示剂薄膜,其包含选自聚合物膜、纸张和铝箔的基底,所述基底涂有光敏层,特征在于该 光敏层包含(a)选自由以下化合物组成的组的酸响应着色剂权利要求1. 一种用于测定UV光源、等离子体发生器或电子束发出的辐照的剂量指示剂薄膜,其 包含选自聚合物膜、纸和铝箔的基底,所述基底涂有光敏层,特征在于该光敏层包含 (a)选自由以下化合物组成的组的酸响应着色剂2.根据权利要求1的剂量指示剂薄膜,其中薄膜上的光 ...
【技术保护点】
一种用于测定UV光源、等离子体发生器或电子束发出的辐照的剂量指示剂薄膜,其包含选自聚合物膜、纸和铝箔的基底,所述基底涂有光敏层,特征在于该光敏层包含: (a)选自由以下化合物组成的组的酸响应着色剂 ***;和 (b)至少一种作为光潜酸的磺酰基肟酯化合物或-N-O-磺酰基化合物。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:K施图德尔,G哈勒,
申请(专利权)人:巴斯夫欧洲公司,
类型:发明
国别省市:DE[德国]
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