修饰宿主ＤＮＡ中的对象区域的方法和选择性标记盒技术

本发明专利技术涉及使用供体ＤＮＡ修饰宿主ＤＮＡ中的对象区域的方法：其中所述供体ＤＮＡ依序包括分别与宿主ＤＮＡ中的对象区域外侧的５′－侧区、宿主ＤＮＡ中的对象区域外侧的３′－侧区和宿主ＤＮＡ中的对象区域内侧的第一同源重组区同源的区域，并且在与３′－侧区同源的区域和与第一同源重组区同源的区域之间还包括第一选择性标记基因、表达诱导启动子和在表达诱导启动子的控制下表达的第二选择性标记基因；该方法包括以下步骤：第一步骤，在５′－侧区和第一同源重组区的区域处进行供体ＤＮＡ和宿主ＤＮＡ之间的同源重组，从而基于第一选择性标记基因的表达选择与供体ＤＮＡ整合的宿主；以及第二步骤，在通过第一步骤与供体ＤＮＡ整合的宿主ＤＮＡ内，在源自宿主ＤＮＡ的３′－侧区和源自供体ＤＮＡ的３′－侧区这两个区域之间进行同源重组，从而在表达诱导启动子的表达诱导条件下基于第二选择性标记基因的表达选择其对象区域被修饰的宿主。本发明专利技术还涉及本方法中使用的选择性标记盒。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：荒胜俊，森本拓也，小笠原直毅，
申请(专利权)人：花王株式会社，
类型：发明
国别省市：JP